一种布置VAD和OVD的设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种布置VAD和OVD的设备，其包括一个多楼层的厂房和由下到上贯穿于各个楼层的沉积塔架，所述沉积塔架的基座设置在所述厂房的一楼，所述沉积塔架的顶部达到所述厂房的楼顶但未接触到楼顶，所述沉积塔架在每个楼层的空间中挂装一个VAD或OVD的设备本体，所述设备本体从一楼至顶楼成螺旋状排布方式挂装到所述沉积塔架上；VAD或OVD的辅助设备安装在对应的VAD或OVD的设备本体的楼层上，且VAD或OVD的辅助设备环绕所述沉积塔架周围。本实用新型专利技术提高了沉积塔架的使用效率、提高了厂房的使用率、提高了厂房洁净空间的使用率、降低了成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于光纤预制棒制造领域，尤其涉及一种布置VAD和OVD的设备。
技术介绍
由于近今几年国内光纤预制棒制备技术的发展和扩展的速度都非常迅速，所以任何一家光纤预制棒的生产企业欲通过技术垄断的方式获取高额利润的可能性已经非常小。因此可以预见，在未来非常长的一段时间内，预制棒生产企业之间的竞争将会转变为以控制生产成本为主体的竞争。在预制棒制备的成本结构中，土地成本、厂房建设成本、固定设备投入以及维持生产区域温湿度和洁净度的运行成本等是其成本的重要组成部分。目前比较通用的VAD或OVD的厂房结构为一层或二层式结构，由于预制棒生产过程中对环境变化非常敏感，所以厂房的温湿度和洁净度需要进行严格控制。VAD或OVD设备本体一般都挂装在沉积塔架上，目前一个沉积塔架上通常会挂装一台或两台设备本体。为了给VAD或OVD的配套设备(如气柜、蒸发柜、电柜等)预留一定的摆放空间和预留相应的生产物流通道，沉积塔架之间的距离也需布置的稍微远一点，配套设备可以分布在一个楼层或两个楼层。这种设计厂房结构、设备分布等相对比较简单，所以前期的厂房施工和设备安装会比较容易，但是土地、厂房以及沉积塔架的使用效率不高，而且由于洁净区域的使用效率比较低，后期生产过程中洁净区域维护的单位成本也会比较高。所以这种设计最终会使土体、厂房、固定设备投入等分摊给预制棒的制造成本的比重相对较高。因此，现在需要从布置VAD和OVD设备方面入手，通过合理的结构设计，能够最大程度的使用厂房内的洁净区域和沉积塔架，在预制棒产能设计相同的情况下，大幅摊薄了土地、厂房及塔架等固定资产的投入，同时也便于设备的维护和排查。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术通过VAD或OVD设备在沉积塔架上挂装位置的科学布置，以及对厂房设计的楼层进行合理设计，使单位厂房面积内能够安装更多的VAD或OVD设备本体，同时通过对每一楼层上VAD或OVD的辅助设备的摆放位置进行优化，可以尽量缩小沉积塔架之间的距离。这种设计可以使相同的厂房面积下安装更多的VAD或OVD设备，产出更多的光纤预制棒，从而降低了预制棒的生产成本。为达到上述目的，本技术的技术方案如下:一种布置VAD和OVD的设备，其包括一个多楼层的厂房和由下到上贯穿于各个楼层的沉积塔架，所述沉积塔架的基座设置在所述厂房的一楼，所述沉积塔架的顶部达到所述厂房的楼顶但未接触到楼顶，所述沉积塔架在每个楼层的空间中挂装一个VAD或OVD的设备本体，所述设备本体从一楼至顶楼成螺旋状排布方式挂装到所述沉积塔架上；VAD或OVD的辅助设备安装在对应的VAD或OVD的设备本体的楼层上，且VAD或OVD的辅助设备环绕所述沉积塔架周围。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，所述设备本体从一楼至顶楼成螺旋状排布方式挂装到所述沉积塔架上。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，还包括提升旋转机构，每个设备本体对应一台提升旋转机构，每个所述提升旋转机构贯穿两层楼。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，所述设备本体为VAD设备的沉积腔体。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，所述厂房有四个楼层，一楼到三楼每个楼层的高度比所述沉积腔体高50cm。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，顶楼的高度至少5m，其它楼层的高度为3m。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，每层楼层的楼板均设有预留洞口，所述预留洞口恰好供所述沉积塔架穿过。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，所述VAD或OVD的辅助设备包括以下一种或几种:气柜、SiCldP GeCl 4蒸发柜、电柜和操作计算机柜。在本技术的一个较佳实施例中，进一步包括，所述SiCljP GeCl 4蒸发柜设置在VAD或OVD的设备本体相邻的位置。本技术的有益效果是:其一、本技术的设备提高了单位面积土地的使用效率，由于本技术中设备本体的布置思路从常规的横向布置转换为了纵向布置的设计，所以单位土地面积上可以安装的设备数量得到大幅度的增加，从而提高了土地的使用效率，最终降低的预制棒的生产成本。其二、本技术的设备提高了沉积塔架的使用效率，降低了一次性固定资产的投入。由于同一台沉积塔架上挂装了多台VAD和OVD设备；而且，在塔架的一部分长度范围内，一个侧面上挂装了一台设备的本体，另一个侧面则挂装了另一台设备的提升机构，大幅度提高了沉积塔架的使用效率，降低了在沉积塔架方面的固定资产投入。其三、本技术的设备提高了厂房楼面的使用效率。通过合理配置，VAD和OVD设备本体及其辅助设备相对均匀的环绕分布在沉积塔架的周围，这样可以减少沉积塔架之间的距离，从而提高厂房楼面的使用效率。同时，由于VAD和OVD设备本体及其辅助设备安装在同一楼层，既节约了设备之间连接管道、通信线缆等材料的使用，也便于后期设备问题的排查及维护。其四、本技术的设备提高了洁净区域的使用效率。因为VAD和OVD设备必须在严格控制的洁净度、温度和湿度环境下进行生产，所以洁净区域的运行和维护费用很高。本技术通过设备本体的纵向布置设计及辅助设备在对应楼层的合理分布，最大可能性的使用了洁净区域的有效空间，从而降低的预制棒的生产成本。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例技术中的技术方案，下面将对实施例技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1本技术设备和厂房楼层的纵向分布示意图(a为前视图，b为立体图)。图2本技术某一楼层的设备平面分布示意图。其中，1-沉积塔架，2-楼板，3-提升旋转机构，4-沉积腔体(VAD或OVD的设备本体)，5-预留洞口，6-气柜，7-SiCljP GeCl 4蒸发柜，8-电柜。【具体实施方式】下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。实施例1如图1中所示，本实施例中公开了一种布置VAD和OVD的设备，其设计方案主要为:一个多楼层的厂房和由下到上贯穿于各个楼层的沉积塔架1，上述沉积塔架I的基座设置在上述厂房的一楼，上述沉积塔架I的顶部达到上述厂房的楼顶但未接触到楼顶，上述沉积塔架I在每个楼层的空间中挂装一个VAD或OVD的设备本体4，上述设备本体4从一楼至顶楼成螺旋状排布方式挂装到上述沉积塔架I上；VAD或OVD的辅助设备安装在对应的VAD或OVD的设备本体的楼层上，且VAD或OVD的辅助设备环绕上述沉积塔架I周围。上述厂房的每个楼层的温度、湿度和洁净度需要进行严格控制。考虑到VAD或OVD设备在沉积过程中用于提升疏松体预制棒的机构需要一定的高度空间，所以顶楼的高度需要设计为5m以上；其他楼层的高度设计为3m左右。并且，每层楼层的楼板2均设有预留洞口 5，上述预留洞口 5恰好供上述沉积塔架I穿过。沉积塔架I必须具备足够的高度，从一楼依次穿过各个楼板2的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种布置VAD和OVD的设备，其包括一个多楼层的厂房和由下到上贯穿于各个楼层的沉积塔架，所述沉积塔架的基座设置在所述厂房的一楼，所述沉积塔架的顶部达到所述厂房的楼顶但未接触到楼顶，其特征在于，所述沉积塔架在每个楼层的空间中挂装一个VAD或OVD的设备本体，所述设备本体从一楼至顶楼成螺旋状排布方式挂装到所述沉积塔架上；VAD或OVD的辅助设备安装在对应的VAD或OVD的设备本体的楼层上，且VAD或OVD的辅助设备环绕所述沉积塔架周围。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：沈小平，向德成，郎潇，钱昆，沈国锋，贺程程，
申请(专利权)人：江苏通鼎光棒有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32