一种采用自紧式密封垫圈的法兰制造技术

技术编号:11997980 阅读:83 留言:0更新日期:2015-09-03 03:24
本实用新型专利技术涉及密封领域,具体的说是一种采用自紧式密封垫圈的法兰,包括上法兰、下法兰、螺栓和密封垫圈,上法兰与下法兰的两接触面上均设置有环形凹槽,且上法兰与下法兰之间通过螺栓相连接,密封垫圈位于上法兰与下法兰的两接触面之间,密封垫圈的上下端面上均设置有环形凸台,且环形凸台与上法兰和下法兰的环形凹槽相匹配,密封垫圈内壁设置有环形通流槽,环形通流槽在密封垫圈内呈横放的“T”形,且环形通流槽一端位于密封垫圈内壁处,另外两端分别延伸到密封垫圈上下端面的两个环形凸台内;本实用新型专利技术结构简单,可以实现对法兰连接的紧密密封,同时也可防止垫圈滑移,保证垫圈与管道同心,实用性好。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及密封领域,具体的说是一种采用自紧式密封垫圈的法兰
技术介绍
密封垫圈,是一种用于机械、设备、管道只要是有流体的地方就是用的密封备件,使用内外部,起密封作用的材料。密封垫圈是以金属或非金属板状材质,经切割,冲压或裁剪等工艺制成,用于管道之间的密封连接,机器设备的机件与机件之间的密封连接。按材质可分为金属密封垫圈和非金属密封垫圈。金属的有铜垫圈,不锈钢垫圈,铁垫圈,铝垫圈等。非金属的有石棉垫圈,非石棉垫圈,纸垫圈,橡胶垫圈等。法兰是管子与管子之间相互连接的零件,用于管端之间的连接;也有用在设备进出口上的法兰,用于两个设备之间的连接。法兰连接或法兰接头,是指由法兰、垫圈及螺栓三者相互连接作为一组组合密封结构的可拆连接。法兰连接使用方便,能够承受较大的压力。在工业管道中,法兰连接的使用十分广泛。中国专利200810168406.5公布了一种自紧式复合密封垫圈,该垫圈包括第一层金属板和第二层金属板,两者层叠形成环状复合体,复合体内有间隙,垫圈工作时,间隙在介质压力的作用下会变大,通过介质传递的压力,可以实现对密封比压的补偿,以实现自紧式密封作用,该专利技术可以实现即使密封垫圈在使用较长时间以后,仍有较好的密封效果,但该申请方案的不足之处在于:由于其结构的复杂性,使得该垫圈的成本较高,同时,采用平垫圈形式,容易产生滑移,且很难保证密封件与管道同心。
技术实现思路
为了弥补现有技术的不足,本技术提供了一种采用自紧式密封垫圈的法兰,可以实现对法兰连接的紧密密封,同时也可防止垫圈滑移,保证垫圈与管道同心。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种采用自紧式密封垫圈的法兰,包括上法兰、下法兰、螺栓和密封垫圈,所述的上法兰与下法兰的两接触面上均设置有环形凹槽,且环形凹槽的截面为矩形,环形凹槽用于与密封垫圈相配合,所述的上法兰与下法兰之间通过螺栓相连接,所述的密封垫圈位于上法兰与下法兰的两接触面之间。所述的密封垫圈内径与上法兰和下法兰的通孔直径相匹配,密封垫圈外径比上法兰和下法兰的接触面外径略少I?2mm,且密封垫圈的上下端面上均设置有环形凸台,环形凸台截面为矩形,且环形凸台与上法兰和下法兰的环形凹槽相匹配,从而对位于上法兰与下法兰两端面间的密封垫圈进行固定,不会使密封垫圈工作时出现滑动现象,所述的密封垫圈内壁设置有环形通流槽,所述的环形通流槽在密封垫圈内呈横放的“T”形,且环形通流槽一端位于密封垫圈内壁处,另外两端分别延伸到密封垫圈上下端面的两个环形凸台内,工作时,液体介质通过通过环形通流槽进入密封垫圈,环形通流槽在介质压力的作用下会变大,通过介质传递的压力,可以实现对密封比压的补偿,以实现自紧式密封作用,同时,密封垫圈的两端面与一对环形凸台将同时实现对密封比压的补偿,密封效果更好。所述的密封垫圈采用橡胶材料,具有一定的弹性。本技术的有益效果是:(I).本技术的一种采用自紧式密封垫圈的法兰,其法兰的凹槽与密封垫圈的凸台相匹配,有效的防止了密封垫圈工作时产生滑移;(2).本技术的一种采用自紧式密封垫圈的法兰,所述的密封垫圈内开有环形通流槽,环形通流槽在介质压力的作用下会变大,通过介质传递的压力,可以实现对密封比压的补偿,以实现自紧式密封作用,密封效果更好;(3).本技术的一种采用自紧式密封垫圈的法兰,密封垫圈的两端面与环形凸台均能通过介质传递的压力,实现对密封比压的补偿,有助于加强密封效果;(4).本技术的一种采用自紧式密封垫圈的法兰,结构设计合理,原理简单,便于推广使用。【附图说明】下面结合附图和实施方式对本技术进一步说明。图1是本技术的一种采用自紧式密封垫圈的法兰整体全剖视图;图2是本技术的一种采用自紧式密封垫圈的法兰上法兰全剖视图;图3是本技术的一种自紧式密封垫圈及采用该密封垫圈的密封垫圈立体结构示意图。图中1.上法兰,2.下法兰,3.螺栓,4.密封垫圈,11.环形凹槽,41.环形凸台,42.环形通流槽。【具体实施方式】为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本技术。如图1和图2所示,本技术所述的一种采用自紧式密封垫圈的法兰,包括上法兰1、下法兰2、螺栓3和密封垫圈4,所述的上法兰I与下法兰2的两接触面上均设置有环形凹槽11,且环形凹槽11的截面为矩形,环形凹槽11用于与密封垫圈4相配合,所述的上法兰I与下法兰2之间通过螺栓相连接,所述的密封垫圈4位于上法兰I与下法兰2的两接触面之间。如图1和图3所示,本技术所述的一种采用自紧式密封垫圈的法兰,所述的密封垫圈4内径与上法兰I和下法兰2的通孔直径相匹配,密封垫圈4外径比上法兰I和下法兰2的接触面外径略少I?2mm,且密封垫圈4的上下端面上均设置有环形凸台41,环形凸台41截面为矩形,且环形凸台41与上法兰I和下法兰2的环形凹槽11相匹配,从而对位于上法兰I与下法兰2两端面间的密封垫圈4进行固定,不会使密封垫圈4工作时出现滑动现象,所述的密封垫圈4内壁设置有环形通流槽42,所述的环形通流槽42在密封垫圈4内呈横放的“T”形,且环形通流槽42 —端位于密封垫圈4内壁处,另外两端分别延伸到密封垫圈4上下端面的两个环形凸台41内,工作时,液体介质通过通过环形通流槽42进入密封垫圈4,环形通流槽42在介质压力的作用下会变大,通过介质传递的压力,可以实现对密封比压的补偿,以实现自紧式密封作用,同时,密封垫圈4的两端面与一对环形凸台41将同时实现对密封比压的补偿,密封效果更好。所述的密封垫圈4采用橡胶材料,具有一定的弹性。通过螺栓3安装好上法兰1、下法兰2和密封垫圈4,使用时,液体介质通过密封垫圈4内的环形通流槽42进入密封垫圈4内部,环形通流槽42在介质压力的作用下会变大,通过介质传递的压力,密封垫圈4的两端面与一对环形凸台41将同时实现对密封比压的补偿,实现对法兰接头的紧密密封。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中的描述的只是说明本技术的原理,在不脱离本技术精神和范围的前提下,本技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。【主权项】1.一种采用自紧式密封垫圈的法兰,包括上法兰(I)、下法兰(2)、螺栓(3)和密封垫圈(4),其特征在于:所述的上法兰(I)与下法兰(2)的两接触面上均设置有环形凹槽(11),且环形凹槽(11)的截面为矩形,所述的上法兰(I)与下法兰(2)之间通过螺栓相连接,所述的密封垫圈(4)位于上法兰(I)与下法兰(2)的两接触面之间。2.根据权利要求1所述的一种采用自紧式密封垫圈的法兰,其特征在于:所述的密封垫圈(4)内径与上法兰(I)和下法兰(2)的通孔直径相匹配,密封垫圈(4)外径比上法兰(I)和下法兰(2)的接触面外径略少I?2mm,且密封垫圈(4)的上下端面上均设置有环形凸台(41),环形凸台(41)截面为矩形,且环形凸台(41)与上法兰⑴和下法兰(2)的环形凹槽(11)相匹配,所述的密封垫圈(4)内壁设置有环形通流本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用自紧式密封垫圈的法兰,包括上法兰(1)、下法兰(2)、螺栓(3)和密封垫圈(4),其特征在于:所述的上法兰(1)与下法兰(2)的两接触面上均设置有环形凹槽(11),且环形凹槽(11)的截面为矩形,所述的上法兰(1)与下法兰(2)之间通过螺栓相连接,所述的密封垫圈(4)位于上法兰(1)与下法兰(2)的两接触面之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张雷查文琴姜婷婷
申请(专利权)人:安庆市柯林希尔密封制造有限公司
类型:新型
国别省市:安徽;34

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