一种电极蒸镀装置，包括一电极蒸发源和一电极蒸镀单元，电极蒸发源设置于电极蒸镀单元的底部；所述电极蒸镀单元包括一样品托插座、一第一限位框、一第二限位框和一磁力棒，所述样品托插座用于固定一样品，且具有相对的两个凸棒，定义相互垂直的一X方向和一Y方向，该两个凸棒的连线平行于所述X方向；所述第一限位框具有相对的两个第一开口，第二限位框具有相对的两个第二开口，该第二限位框和第一限位框依次套设在所述样品托插座上，且所述凸棒依次穿过所述第二开口和第一开口；所述磁力棒位于第一限位框的外侧，且该磁力棒沿所述Y方向延伸。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种电极蒸镀装置。
技术介绍
低维量子物质是物理学研宄内容最丰富的领域之一。半导体异质结界面的二维电 子气、石墨烯、铜基和铁基超导体、拓扑绝缘体、氧化物界面以及过渡金属硫族化合物层状 材料等等都属于这类体系。这些体系展现了自然界中一些最神奇的量子态，涉及凝聚态物 理主要的重大科学问题，是揭示低维物理最具挑战的强电子关联问题的关键体系，它们很 有可能还是导致未来信息、清洁能源、电力和精密测量等技术重大革新甚至是革命的一类 体系，是目前全世界的研宄重点。 由于所述低维量子物质或者低维材料是从物理上提炼简化为厚度为一到几个原 子层/单位原胞的准二维体系，非常薄，当在该低维量子物质上采用传统的电极蒸镀装置 蒸镀电极时，会破坏低维量子物质。
技术实现思路
有鉴于此，确有必要提供一种不会破坏低维材料结构的电极蒸镀装置。 一种电极蒸镀装置，包括一电极蒸发源和一电极蒸镀单元，所述电极蒸发源设置 于所述电极蒸镀单元的底部；所述电极蒸镀单元包括一样品托插座、一第一限位框、一第二 限位框和一磁力棒，所述样品托插座用于固定一样品，且该样品托插座具有相对的两个凸 棒，定义相互垂直的一X方向和一Y方向，该两个凸棒的连线平行于所述X方向；所述第 一限位框具有相对的两个第一开口，第二限位框具有相对的两个第二开口，该第二限位框 和第一限位框依次套设在所述样品托插座上，且所述凸棒依次穿过所述第二开口和第一开 口；所述磁力棒位于第一限位框的外侧，且该磁力棒沿所述Y方向延伸。 与现有技术相比，本技术提供的电极蒸镀装置中，通过固定低维材料结构的 第一样品托插座、第二限位框、第一限位框和磁力棒的设置方式，使低维材料结构随同第一 样品托插座在自身重力的作用下，与掩模接触，然后再加热电极蒸发源于低维材料的表面 蒸镀电极，不会破坏低维材料结构。【附图说明】 图1为原位输运性质测量装置的立体结构的结构示意图。图2为低维材料制备系统的剖面结构示意图。 图3为低维材料处理系统的立体结构的结构示意图。 图4为低维材料处理系统中电极蒸镀腔内部的立体结构分解图。 图5为低维材料处理系统中刻划处理腔内部及显微镜的立体结构示意图。 图6为输运性质测量系统的立体结构分解示意图。 图7为输运性质测量系统中探针台的剖面结构示意图。 图8为低维材料原位输运性质测量方法的流程图。 主要元件符号说明【主权项】1. 一种电极蒸镀装置，包括一电极蒸发源和一电极蒸镀单元，所述电极蒸发源设置于 所述电极蒸镀单元的底部；其特征在于，所述电极蒸镀单元包括一样品托插座、一第一限位 框、一第二限位框和一磁力棒，所述样品托插座用于固定一样品，该样品托插座具有相对的 两个凸棒，定义相互垂直的一 X方向和一 Y方向，该两个凸棒的连线平行于所述X方向；所 述第一限位框具有相对的两个第一开口，第二限位框具有相对的两个第二开口，该第二限 位框和第一限位框依次套设在所述样品托插座上，且所述凸棒依次穿过所述第二开口和第 一开口；所述磁力棒位于第一限位框的外侧，且该磁力棒沿所述Y方向延伸。2. 如权利要求1所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述电极蒸镀单元进一步包括一 支撑结构，所述样品托插座、第一限位框和第二限位框设置于该支撑结构的表面，所述样品 托插座通过该支撑结构与所述电极蒸发源间隔设置。3. 如权利要求2所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述支撑结构包括一支撑台，该支 撑台具有一第一通孔，一掩模设置于该支撑台的第一通孔上，且与所述电极蒸发源正对。4. 如权利要求3所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述第二开口具有相对的两个与 支撑台的表面垂直的侧面，该第二开口的设置用于使所述样品托插座上下移动。5. 如权利要求3所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述第一开口具有一与支撑台的 表面成一角度的斜面，该斜面的延长线与所述支撑台的表面形成一钝角，且所述磁力棒靠 近该斜面。6. 如权利要求5所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述磁力棒活动地设置于所述电 极蒸镀单元中，且沿所述Y方向移动。7. 如权利要求6所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述磁力棒推第一限位框时，所述 样品托插座由于所述第一开口中斜面和所述第二开口的限定而向上移动。8. 如权利要求7所述的电极蒸镀装置，其特征在于，该磁力棒远离所述第一限位框时， 所述样品托插座在重力的作用下向下移动。9. 如权利要求3所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述电极蒸发源通过一法兰连接 于所述电极蒸镀腔，所述支撑台通过支撑杆连接于该底法兰。10. 如权利要求1所述的电极蒸镀装置，其特征在于，所述电极蒸镀腔内部为真空环 境。【专利摘要】一种电极蒸镀装置，包括一电极蒸发源和一电极蒸镀单元，电极蒸发源设置于电极蒸镀单元的底部；所述电极蒸镀单元包括一样品托插座、一第一限位框、一第二限位框和一磁力棒，所述样品托插座用于固定一样品，且具有相对的两个凸棒，定义相互垂直的一X方向和一Y方向，该两个凸棒的连线平行于所述X方向；所述第一限位框具有相对的两个第一开口，第二限位框具有相对的两个第二开口，该第二限位框和第一限位框依次套设在所述样品托插座上，且所述凸棒依次穿过所述第二开口和第一开口；所述磁力棒位于第一限位框的外侧，且该磁力棒沿所述Y方向延伸。【IPC分类】C23C14-24【公开号】CN204550697【申请号】CN201520219715【专利技术人】胡小鹏, 薛其坤, 陈曦, 赵大鹏 【申请人】清华大学【公开日】2015年8月12日【申请日】2015年4月13日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电极蒸镀装置，包括一电极蒸发源和一电极蒸镀单元，所述电极蒸发源设置于所述电极蒸镀单元的底部；其特征在于，所述电极蒸镀单元包括一样品托插座、一第一限位框、一第二限位框和一磁力棒，所述样品托插座用于固定一样品，该样品托插座具有相对的两个凸棒，定义相互垂直的一X方向和一Y方向，该两个凸棒的连线平行于所述X方向；所述第一限位框具有相对的两个第一开口，第二限位框具有相对的两个第二开口，该第二限位框和第一限位框依次套设在所述样品托插座上，且所述凸棒依次穿过所述第二开口和第一开口；所述磁力棒位于第一限位框的外侧，且该磁力棒沿所述Y方向延伸。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡小鹏，薛其坤，陈曦，赵大鹏，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：新型
国别省市：北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。