一种光纤端头集中研磨清理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光纤端头集中研磨清理装置，包括循环水罐及研磨室，循环水罐通过循环泵与研磨室连通，研磨室包括研磨槽、光纤定位架、驱动水轮、研磨辊及驱动装置，其中研磨槽横截面呈“凹”字型，驱动水轮位于研磨槽底部，研磨辊至少一条并位于研磨槽内循环水液面下方，光纤定位架嵌于研磨槽上端面，且光纤定位架上呈矩形阵列分布至少4个光纤定位孔，光纤定位孔处另设光纤定位夹具，驱动装置位于研磨槽外并分别与驱动水轮、研磨辊连接。本新型同时具备研磨、清洗功能，可极大的提高光纤端头表面洁净度及光洁度，与此同时，另有效的避免了传统光纤端头研磨过程中易出现的噪声及粉尘污染，极大的改善了光纤加工的作业环境。

【技术实现步骤摘要】
一种光纤端头集中研磨清理装置
本专利技术涉及一种光纤端头集中研磨清理装置，属光纤设备

技术介绍
目前在光纤的加工过程中，尤其是光纤端头镀膜等加工过程中，为了提高光纤产品的通讯质量，必须对光纤端头表面的光洁度及洁净度进行加工处理，而当前在进行这一工序加工时，主要是通过操作人员借助研磨设备进行人工研磨及清洗，从而一方面造成光纤研磨的工作效率低下，劳动强度大，且质量相对较差且质量波动性极大稳定性差，另一方面也会对工作场所环境造成严重的造成及粉尘污染，并对光纤设备及操作人员造成严重的伤害，因此针对这一现状，迫切需要开发一种新型光纤研磨装置，以满足实际使用的需要。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本专利技术提供一种光纤端头集中研磨清理装置，该本新型结构简单，使用方便，运行效率高，并同时具备研磨、清洗功能，可极大的提高光纤端头表面洁净度及光洁度，便于光纤端头后续加工，并有助于提高其加工质量，与此同时，另有效的避免了传统光纤端头研磨过程中易出现的噪声及粉尘污染，极大的改善了光纤加工的作业环境，有助于提高产品质量并减轻了光纤研磨作业对操作人员的人身健康造成的伤害。为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种光纤端头集中研磨清理装置，包括循环水罐及研磨室，循环水罐通过循环泵与研磨室连通，研磨室包括研磨槽、光纤定位架、驱动水轮、研磨辊及驱动装置，其中研磨槽横截面呈“凹”字型，其底部设循环水进水口及出水口，驱动水轮位于研磨槽底部内表面中线处，研磨辊至少一条并位于研磨槽内循环水液面下方，另通过传动轴与研磨槽侧壁连接并与研磨槽底部平行，光纤定位架嵌于研磨槽上端面，且光纤定位架上呈矩形阵列分布至少4个光纤定位孔，光纤定位孔处另设光纤定位夹具，驱动装置位于研磨槽外并分别与驱动水轮、研磨辊连接。进一步的，所述的研磨辊数量与光纤定位架上光纤定位孔列数相对应，且每条研磨辊中线均与一列光纤定位孔轴线对应分布且相互垂直。进一步的，所述的研磨槽内另设超声波震荡装置。本新型结构简单，使用方便，运行效率高，并同时具备研磨、清洗功能，可极大的提高光纤端头表面洁净度及光洁度，便于光纤端头后续加工，并有助于提高其加工质量，与此同时，另有效的避免了传统光纤端头研磨过程中易出现的噪声及粉尘污染，极大的改善了光纤加工的作业环境，有助于提高产品质量并减轻了光纤研磨作业对操作人员的人身健康造成的伤害。附图说明下面结合附图和具体实施方式来详细说明本专利技术；图1为本新型装配结构示意图。具体实施方式为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本专利技术。如图1所述的一种光纤端头集中研磨清理装置，包括循环水罐1及研磨室，循环水罐1通过循环泵2与研磨室连通，研磨室包括研磨槽3、光纤定位架4、驱动水轮5、研磨辊6及驱动装置7，其中研磨槽3横截面呈“凹”字型，其底部设循环水进水口8及出水口9，驱动水轮5位于研磨槽3底部内表面中线处，研磨辊6至少一条并位于研磨槽3内循环水13液面下方，另通过传动轴与研磨槽3侧壁连接并与研磨槽3底部平行，光纤定位架4嵌于研磨槽3上端面，且光纤定位架4上呈矩形阵列分布至少4个光纤定位孔10，光纤定位孔10处另设光纤定位夹具11，驱动装置7位于研磨槽3外并分别与驱动水轮5、研磨辊6连接。本实施例中，所述的研磨辊6数量与光纤定位架4上光纤定位孔10列数相对应，且每条研磨辊6中线均与一列光纤定位孔10轴线对应分布且相互垂直。本实施例中，所述的研磨槽3内另设超声波震荡装置12。本新型结构简单，使用方便，运行效率高，并同时具备研磨、清洗功能，可极大的提高光纤端头表面洁净度及光洁度，便于光纤端头后续加工，并有助于提高其加工质量，与此同时，另有效的避免了传统光纤端头研磨过程中易出现的噪声及粉尘污染，极大的改善了光纤加工的作业环境，有助于提高产品质量并减轻了光纤研磨作业对操作人员的人身健康造成的伤害。以上显示和描述了本专利技术的基本原理和主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本专利技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下，本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光纤端头集中研磨清理装置，其特征在于：所述的光纤端头集中研磨清理装置包括循环水罐及研磨室，所述的循环水罐通过循环泵与研磨室连通，所述的研磨室包括研磨槽、光纤定位架、驱动水轮、研磨辊及驱动装置，其中所述的研磨槽横截面呈“凹”字型，其底部设循环水进水口及出水口，所述的驱动水轮位于研磨槽底部内表面中线处，所述的研磨辊至少一条并位于研磨槽内循环水液面下方，另通过传动轴与研磨槽侧壁连接并与研磨槽底部平行，所述的光纤定位架嵌于研磨槽上端面，且光纤定位架上呈矩形阵列分布至少4个光纤定位孔，所述的光纤定位孔处另设光纤定位夹具，所述的驱动装置位于研磨槽外并分别与驱动水轮、研磨辊连接。

【技术特征摘要】
1.一种光纤端头集中研磨清理装置，其特征在于：所述的光纤端头集中研磨清理装置包括循环水罐及研磨室，所述的循环水罐通过循环泵与研磨室连通，所述的研磨室包括研磨槽、光纤定位架、驱动水轮、研磨辊及驱动装置，其中所述的研磨槽横截面呈“凹”字型，其底部设循环水进水口及出水口，所述的驱动水轮位于研磨槽底部内表面中线处，所述的研磨辊至少一条并位于研磨槽内循环水液面下方，另通...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛文英，
申请(专利权)人：苏州华徕光电仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32