本实用新型专利技术是关于一种调整架，涉及光学测试设备配件领域，主要目的在于通过该调整架方便用户对待测元件的位置进行调节，提高用户的操作体验。主要采用的技术方案为：调整架，包括第一支撑件、高度调节装置和角度调节装置；第一支撑件包括第一表面，调整架在与外部支撑面接触时通过第一表面对待测元件提供支撑；高度调节装置设置于第一支撑件，高度调节装置配置为在调整架与外部支撑面接触时对第一支撑件的高度进行调节的装置；角度调节装置设置于第一支撑件，角度调节装置配置为在调整架与外部支撑面接触时对第一表面与外部支撑面之间的角度进行调节的装置。本实用新型专利技术实施例提供的调整架适用于菲索型干涉仪被测元件的调整。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光学测试设备配件
，特别是涉及一种调整架。
技术介绍
近年来随着光学领域的蓬勃发展，光学元件的口径逐渐变大，光学元件的光学均匀性也逐渐变高。由于光学元件测试的需要，大口径卧式菲索型干涉仪快速发展。在使用菲索型干涉仪测试光学元件的光学面形时，要求光学元件前表面与光路垂直；在测试光学元件的光学均匀性时，在干涉仪上需要多次调整光学元件的位置。具体在实施时，主要是通过干涉仪上的调整架对光学元件的位置进行调节，使光学元件的位置能够满足测量的要求。现有技术中，传统的干涉仪调整架存在重量大、光学元件安装以及调整都较复杂等缺点，从而导致光学元件在测量时检测精度低、跌落风险高以及压应力较大。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供一种调整架，主要目的在于通过该调整架方便用户对待测元件的位置进行调节，提高用户的操作体验。为达到上述目的，本技术主要提供如下技术方案:本技术的实施例提供一种调整架，包括:第一支撑件，所述第一支撑件包括第一表面，所述调整架在与外部支撑面接触时通过所述第一表面对待测元件提供支撑；高度调节装置，设置于所述第一支撑件，所述高度调节装置配置为在所述调整架与外部支撑面接触时对所述第一支撑件的高度进行调节的装置；角度调节装置，设置于所述第一支撑件，所述角度调节装置配置为在所述调整架与外部支撑面接触时对所述第一表面与所述外部支撑面之间的角度进行调节的装置。本技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。前述的调整架，其中，所述高度调节装置包括:第一螺杆，所述第一表面上设有与所述第一螺杆的外螺纹相适配的第一螺纹通孔，所述第一螺杆螺接于所述第一螺纹通孔，所述第一螺杆在第一位置时穿过所述第一螺纹通孔且与所述外部支撑面相接触。前述的调整架，其中，所述第一螺杆和所述第一螺纹通孔的数量均为多个；多个所述第一螺杆和所述第一螺纹通孔绕所述第一支撑件的中心线均匀分布。前述的调整架，其中，所述第一螺杆和所述第一螺纹通孔的数量均为三个。前述的调整架，还包括:支撑座，设有内陷的凹槽，所述凹槽内壁的外形形状与所述第一螺杆一端的外形形状相适配；其中，所述第一螺杆在所述第一位置时插入所述凹槽，且与所述凹槽的内壁间隙配合；所述第一螺杆在所述第一位置时通过所述支撑座与所述外部支撑面接触。前述的调整架，其中，所述高度调节装置和所述角度调节装置为同一个装置。前述的调整架，还包括:限位结构，设置于所述第一支撑件，所述调整架通过所述限位结构对待测元件限位，并保持所述第一支撑件与所述待测元件相对固定。前述的调整架，其中，所述限位结构包括:第二支撑件，所述第二支撑件设有第二表面，所述第二表面的外形形状与所述待测元件的外形形状相适配，所述第二支撑件通过所述第二表面与所述待测元件的外表面过渡配合，并与所述待测元件保持相对固定。前述的调整架，其中，所述第二表面覆盖有软质材料层。前述的调整架，其中，所述第一支撑件还包括连接所述第一表面的侧面；所述调整架包括第二螺杆和磁性吸附件，所述磁性吸附件设有与所述第二螺杆的外螺纹相适配的第二螺纹通孔，所述第二螺杆螺接于所述第二螺纹通孔；其中，所述第二螺杆配置为在所述磁性吸附件与外部设备吸附固定时与所述侧面的设定位置相抵触并提供所述第一支撑件旋转的扭力的螺杆。借由上述技术方案，本技术调整架至少具有以下有益效果:本技术实施例提供的技术方案通过设置的高度调节装置和角度调节装置，待测元件安装于第一支撑件上，当本技术实施例的调整架与外部支撑面接触时，高度调节装置可以对第一支撑件的高度进行调节，从而高度调节装置可以通过第一支撑件间接地对待测元件的高度也进行调节；角度调节装置可以对第一表面与外部支撑面之间的角度进行调节，从而角度调节装置可以对第一表面上的待测元件的角度间接进行调节，进而本技术实施例中的高度调节装置和角度调节装置对待测元件的高度和角度都能够进行调节，极大地方便了用户的操作，用户的使用体验较佳。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。【附图说明】图1是本技术的一实施例提供的一种调整架的结构示意图；图2是本技术的一实施例提供的另一种调整架的结构示意图；图3是本技术的一实施例提供的一种调整架的剖面结构示意图；图4是本技术的一实施例提供的一种第一螺杆的数量为一个时对第一支撑件的第一表面与外部支撑面之间的角度进行调节的结构示意图；图5是本技术的一实施例提供的一种第一螺杆的数量为两个时对第一支撑件的第一表面与外部支撑面之间的角度进行调节的结构示意图。【具体实施方式】为更进一步阐述本技术为达成预定技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本技术申请的【具体实施方式】、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。如图1至图5所示，本技术的一个实施例提出的一种调整架，包括第一支撑件1、高度调节装置(图中未标示)以及角度调节装置(图中未标示)。第一支撑件I包括第一表面11，本实施例的调整架在与外部支撑面10接触时通过第一表面11对待测元件提供支撑。高度调节装置，设置于第一支撑件I，高度调节装置配置为在本实施例的调整架与外部支撑面10接触时对第一支撑件I的高度进行调节的装置；角度调节装置，设置于第一支撑件I，角度调节装置配置为在本实施例的调整架与外部支撑面10接触时对第一表面11与外部支撑面10之间的角度进行调节的装置。具体在实施时，可以将本实施例的调整架与干涉仪配合使用，比如可以与卧式大口径干涉仪配合使用，将本实施例的调整架安装于干涉仪，调整架与干涉仪上的支撑面10接触；在对待测元件进行光学检测时，比如检测待测元件的光学面形或者光学均匀性时，可以将待测元件直接或间接地放置或者安装于第一表面11，本实施例的调整架通过第一表面11对待测元件提供当前第1页1 2 3 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种调整架，其特征在于，包括：第一支撑件，所述第一支撑件包括第一表面，所述调整架在与外部支撑面接触时通过所述第一表面对待测元件提供支撑；高度调节装置，设置于所述第一支撑件，所述高度调节装置配置为在所述调整架与外部支撑面接触时对所述第一支撑件的高度进行调节的装置；角度调节装置，设置于所述第一支撑件，所述角度调节装置配置为在所述调整架与外部支撑面接触时对所述第一表面与所述外部支撑面之间的角度进行调节的装置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：邵竹锋，向在奎，王慧，王蕾，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院，
类型：新型
国别省市：北京;11
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