一种用于光学元件在光轴方向位置对准的装置与方法制造方法及图纸

技术编号:9222298 阅读:157 留言:0更新日期:2013-10-04 16:42
本发明专利技术是一种用于光学元件在光轴方向位置对准的装置与方法,包括在干涉仪输出光束的光轴上依次放置标准镜头、计算全息图和被测光学元件,将计算全息图固定在小五维调整架上,将被测光学元件固定在大五维调整架上;将计算全息图放置在标准镜头的焦点后面的设计位置处,来自干涉仪内部的光束经过标准镜头后入射到计算全息图上,使发散球面波前变为会聚球面波前,在被测光学元件的光轴方向位置处形成一个会聚焦点;当会聚球面波前照射到被测光学元件上后,将沿着对称光路位置返回,从而使会聚球面波前与干涉仪中的参考波前形成干涉条纹,通过对干涉条纹的监控,调节大五维调整架,将被测光学元件的在光轴方向位置控制在波长量级。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于光学元件在光轴方向位置对准的装置,其特征在于:包括干涉仪、标准镜头、计算全息图、小五维调整架、被测光学元件和大五维调整架,在干涉仪输出光束的光轴上依次放置标准镜头、计算全息图和被测光学元件,将计算全息图固定在小五维调整架上,将被测光学元件固定在大五维调整架上;将计算全息图放置在标准镜头的焦点后面的设计位置处,来自干涉仪内部的光束经过标准镜头后入射到计算全息图上,使发散球面波前变为会聚球面波前,在被测光学元件的光轴方向位置处形成一个会聚焦点;当会聚球面波前照射到被测光学元件上后,将沿着对称光路位置返回,从而使会聚球面波前与干涉仪中的参考波前形成干涉条纹,通过对干涉条纹的监控,调节大五维调整架,将被测光学元件的在光轴方向位置控制在波长量级,所述设计位置是在光学设计阶段,计算全息图所在位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李世杰陈强闫锋涛范斌万勇建侯溪
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
类型:发明
国别省市:

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