一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法技术

本发明专利技术公开了一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法，涉及机械设备技术领域，为解决现有技术中基板支撑结构容易造成基板划伤、基板品质降低以及亮度不均匀的问题。该基板支撑结构包括支撑销，所述支撑销的顶端用于支撑基板；辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置，所述驱动装置连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端设有支撑盘，所述支撑盘由柔性材料制作，所述驱动装置可带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，随着所述支撑杆的移动，所述支撑盘可高于或低于所述支撑销的顶端。本发明专利技术公开的一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法用于支撑基板。

【技术实现步骤摘要】
一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法
本专利技术涉及机械设备
，尤其涉及一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法。
技术介绍
在液晶显示器的生产过程中，需要将经过涂布工艺后带有膜层的基板进行真空干燥以及烘烤，在对基板进行真空干燥或烘烤时，需要通过机械手将基板放置在支撑结构上，机械手在放置基板时，基板的一部分区域会先接触到支撑结构，随着机械手的下降，基板可完全放置在支撑结构上，当基板的其他区域与支撑结构接触时，先接触到支撑结构的区域会相对于支撑结构滑动，由于支撑机构顶端很尖，容易将基板的底部划伤，另外，机械手在下降过程中的震动及偏移也会造成基板底部划伤。为避免上述问题，如图1所示，现有技术中的基板支撑结构包括支撑销01，支撑销01的顶端设置有支撑盘02，支撑盘02用于支撑基板。由于支撑盘02的面积较大，在支撑基板时容易接触到像素区，导致基板的品质降低，另外，在烘烤时支撑盘02与基板接触也容易使基板产生印记，导致亮度不均匀。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法，解决现有技术中基板支撑结构容易造成基板划伤、基板品质降低以及亮度不均匀的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例提供了一种基板支撑结构，包括：支撑销，所述支撑销的顶端用于支撑基板；辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置，所述驱动装置连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端设有支撑盘，所述支撑盘由柔性材料制作，所述驱动装置可带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，随着所述支撑杆的移动，所述支撑盘可高于或低于所述支撑销的顶端。优选地，所述支撑销内部设有空腔，所述驱动装置设置于所述空腔内，所述支撑销的侧壁设有沿径向贯穿所述支撑销的侧壁且沿轴向延伸的长槽，所述支撑杆的下端与所述驱动装置连接，所述支撑杆的顶端经由所述长槽伸出所述空腔外设置。进一步地，所述支撑杆包括一个主杆和多个支杆，所述主杆的下端与所述驱动装置连接，所述主杆的上端与多个所述支杆的下端连接，所述支撑销的侧壁对应多个所述支杆的位置开设有多个所述长槽，多个所述支杆的顶端分别经由多个所述长槽伸出所述空腔外设置，多个所述支杆的顶端位于同一平面，所述支撑盘为多个，多个所述支撑盘一一对应设置于多个所述支杆的顶端。可选地，多个所述支杆沿所述主杆的周向均匀分布。优选地，所述支撑盘为真空吸盘，所述真空吸盘连接有真空发生器，当所述真空吸盘的吸附面与基板表面贴合时，所述真空发生器可抽出真空吸盘的吸附面与基板表面之间的气体，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间产生真空，并且可向真空吸盘的吸附面与基板表面之间充气，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间的真空解除。进一步地，所述柔性材料包括橡胶。可选地，所述支撑销的顶端为圆锥形结构。可选地，还包括控制系统，所述控制系统和所述驱动装置连接，所述控制系统可控制所述驱动装置，使所述驱动装置带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向向上或向下移动。本专利技术实施例提供的一种基板支撑结构，由于设置辅助支撑组件，当需要将基板放置在支撑销顶端时，驱动装置带动支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，直至支撑盘高于支撑销的顶端，此时，将基板放置于支撑盘上，由于支撑盘由柔性材料制作，可防止基板相对支撑盘滑动时造成基板的划伤，基板放置完成后，驱动装置带动支撑杆反方向移动，当支撑盘与支撑销的顶端位于同一水平面时，基板可平稳的与支撑销的顶端接触，从而防止基板相对支撑销的顶端滑动，进而避免基板的划伤，此后，驱动装置继续带动支撑销移动，直至支撑盘低于支撑销的顶端，可防止在真空干燥或烘烤时支撑盘与基板接触，从而避免了支撑盘接触到像素区后对基板品质造成影响以及亮度不均匀的问题产生；当需要将基板取出时，驱动装置带动支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，当支撑盘与支撑销的顶端位于同一水平面时，支撑盘与基板接触，并使基板平稳的离开支撑销的顶端，防止基板相对支撑销的顶端滑动，从而防止基板的划伤。因此，本专利技术实施例提供的基板支撑结构不仅可防止基板划伤，还可防止基板品质降低以及亮度不均匀的问题产生。本专利技术实施例还提供了一种真空干燥设备，包括支撑平台，所述支撑平台的表面设有多个上述任一技术方案中的基板支撑结构。本专利技术实施例还提供了一种利用上述的真空干燥设备对基板进行真空干燥的方法，包括以下步骤：控制各基板支撑结构的驱动装置，使各驱动装置带动各支撑杆向上移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面高于各支撑销顶端形成的平面；将待真空干燥的基板放置于支撑盘形成的平面上；控制各基板支撑结构的驱动装置，使各驱动装置带动各支撑杆向下移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面低于各支撑销顶端形成的平面，从而使得待真空干燥的基板落入各支撑销顶端形成的平面上；启动真空干燥设备对位于支撑销顶端形成的平面上的基板进行真空干燥。本专利技术实施例提供的真空干燥设备以及利用该设备对基板进行真空干燥的方法，由于设置多个基板支撑结构，当需要对基板进行真空干燥时，控制驱动装置带动多个支撑杆向上移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面高于各支撑销顶端形成的平面时，将基板放置于各支撑盘形成的平面上，由于支撑盘由柔性材料制作，可防止基板相对支撑盘滑动时造成基板的划伤，基板放置完成后，控制驱动装置带动各支撑杆向下移动相同的距离，当各支撑盘形成的平面与各支撑销的顶端形成的平面平齐时，基板可平稳的与各支撑销的顶端接触，从而防止基板相对支撑销的顶端滑动，进而避免基板的划伤，此后，驱动装置继续带动各支撑销向下移动，直至各支撑盘形成的平面低于各支撑销的顶端形成的平面，防止在真空干燥时各支撑盘与基板接触，从而避免了支撑盘接触到像素区后对基板品质造成影响以及亮度不均匀的问题产生。因此，本专利技术实施例提供的真空干燥设备以及利用该设备对基板进行真空干燥的方法，不仅可防止基板划伤，还可防止基板品质降低以及亮度不均匀的问题产生。附图说明图1为现有技术中基板支撑结构的示意图；图2为本专利技术实施例基板支撑结构的示意图；图3为本专利技术实施例基板支撑结构的剖视图；图4为本专利技术实施例基板支撑结构中驱动装置和控制系统的连接示意图；附图标记：1-支撑销；11-空腔；12-长槽；2-驱动装置；3-支撑杆；31-主杆；32-支杆；4-支撑盘；5-控制系统。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板支撑结构，其特征在于，包括：支撑销，所述支撑销的顶端用于支撑基板；辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置，所述驱动装置连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端设有支撑盘，所述支撑盘由柔性材料制作，所述驱动装置可带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，随着所述支撑杆的移动，所述支撑盘可高于或低于所述支撑销的顶端。

【技术特征摘要】
1.一种基板支撑结构，其特征在于，包括：支撑销，所述支撑销的顶端用于支撑基板；辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置，所述驱动装置连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端设有支撑盘，所述支撑盘由柔性材料制作，所述驱动装置可带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，随着所述支撑杆的移动，所述支撑盘可高于或低于所述支撑销的顶端；所述支撑销内部设有空腔，所述驱动装置设置于所述空腔内，所述支撑销的侧壁设有沿径向贯穿所述支撑销的侧壁且沿轴向延伸的长槽，所述支撑杆的下端与所述驱动装置连接，所述支撑杆的顶端经由所述长槽伸出所述空腔外设置。2.根据权利要求1所述的基板支撑结构，其特征在于，所述支撑杆包括一个主杆和多个支杆，所述主杆的下端与所述驱动装置连接，所述主杆的上端与多个所述支杆的下端连接，所述支撑销的侧壁对应多个所述支杆的位置开设有多个所述长槽，多个所述支杆的顶端分别经由多个所述长槽伸出所述空腔外设置，多个所述支杆的顶端位于同一平面，所述支撑盘为多个，多个所述支撑盘一一对应设置于多个所述支杆的顶端。3.根据权利要求2所述的基板支撑结构，其特征在于，多个所述支杆沿所述主杆的周向均匀分布。4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板支撑结构，其特征在于，所述支撑盘为真空吸盘，所述真空吸盘连接有真空发生器，当所述真空吸盘的吸附面与基板表面贴合时，所述真空发生器可抽出真空吸盘的吸附面与基板表面之间的气体，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间产生真空，并且可向真空吸盘的吸附面与基板表面之间充气，使所述真空吸盘的吸附...

【专利技术属性】
技术研发人员：邢宏伟，穆慧慧，元敏，张鹤群，杨龙根，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34