本实用新型专利技术公开了一种带有底伸式搅拌装置的反应釜，属于化工设备领域。该反应釜包括反应釜本体、搅拌装置、导流筒、轴封、第一支架和第二支架；搅拌装置包括搅拌电机、联轴器、同轴的下层搅拌器和上层搅拌器；搅拌电机、联轴器设置在反应釜本体下方，同轴的下层搅拌器和上层搅拌器设置在反应釜本体内部；反应釜本体的底部中央设有开孔，下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴从反应釜本体内部穿过该开孔至反应釜本体下方，通过联轴器与搅拌电机连接；导流筒罩装在上层搅拌器上方；轴封设置在开孔和搅拌轴的间隙中；第一支架设置在反应釜本体的下方，与搅拌电机固定连接；第二支架设置在反应釜本体的内部，与导流筒固定连接。该反应釜运行时不易振动。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化工设备领域，特别涉及一种带有底伸式搅拌装置的反应釜。
技术介绍
反应釜，例如搪玻璃反应釜是化工过程中重要的生产设备，在使用过程中，通常使用搅拌装置与其相配合，来对反应釜内的物料进行分散、乳化、混匀或溶解等搅拌过程。所以，有必要提供一种带有搅拌装置的反应釜。举例来说，现有技术提供了一种带有顶入式搅拌装置的反应釜，由反应釜本体、搅拌电机、联轴器、搅拌轴、搅拌叶和轴套组成；搅拌电机固定于反应釜本体的上方，并通过联轴器连接搅拌轴，搅拌叶固定于搅拌轴上，搅拌轴通过轴套固定于反应釜中。设计人发现现有技术至少存在以下问题:对于大型反应釜，例如直径大于2.2米的反应釜，现有技术搅拌装置的搅拌轴较长，转动时的稳定性较差，造成反应釜发生振动，且轴封的密封效果较差，严重影响反应釜内所生产的产品质量。
技术实现思路
本技术实施例所要解决的技术问题在于，提供了一种大型的高稳定性的带有底伸式搅拌装置的反应釜。具体技术方案如下:一种带有底伸式搅拌装置的反应釜，包括反应釜本体、搅拌装置、导流筒、轴封、第一支架和第二支架；所述搅拌装置包括:搅拌电机、联轴器、同轴的下层搅拌器和上层搅拌器；所述搅拌电机、所述联轴器均设置在所述反应釜本体下方，所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器均设置在所述反应釜本体内部；所述反应釜本体的底部中央设置有开孔，所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴从所述反应Il本体内部穿过所述开孔至所述反应Il本体下方，并在所述反应Il本体下方通过所述联轴器与所述搅拌电机连接； 所述导流筒罩装在所述上层搅拌器上方；所述轴封设置在所述开孔和所述搅拌轴的间隙中；所述第一支架设置在所述反应釜本体的下方，并与所述搅拌电机固定连接；所述第二支架设置在所述反应釜本体的内部，并与所述导流筒固定连接。进一步地，所述反应釜还包括至少2个换热器，所述至少2个换热器均匀地设置在所述反应釜本体内的侧部。进一步地，所述反应釜还包括具有冲洗功能的机械密封，所述机械密封设置在所述轴封的外部。具体地，所述具有冲洗功能的机械密封为具有冲洗功能的双端面机械密封。作为优选，所述下层搅拌器为叶轮式搅拌器，所述上层搅拌器为轴流式搅拌器。具体地，所述搅拌电机为电机减速机一体机。具体地，所述导流筒为上下开口的筒体。作为优选，所述第一支架包括4个等高的支撑轴，所述4个等高的支撑轴均匀地固定在所述反应釜本体和所述搅拌电机之间。作为优选，所述第二支架包括2个支撑轴，所述2个支撑轴分别固定在反应釜本体内相对的侧部，并与所述导流筒相连接。具体地，所述反应釜本体包括圆柱形主体，所述圆柱形主体的直径大于2.2米。本技术实施例提供的技术方案带来的有益效果是:本技术实施例提供的带有底伸式搅拌装置的反应釜，尤其指的是大型反应釜(例如直径大于2.2米的反应釜)，该搅拌装置适用于在大型反应釜的底部伸入，其通过设置在反应釜本体下方的搅拌电机、联轴器来与设置在反应釜本体内部的同轴的下层搅拌器和上层搅拌器连接，能够减小下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴的长度，从而提高搅拌轴转动时的稳定性，避免反应釜发生振动，不仅使物料混合更加均匀，且保证了反应釜内产品的质量。此外，通过罩装在上层搅拌器上方的导流筒，能够对物料进行强制循环，进一步保证了物料混合均匀，减少其温差，保证了反应釜内产品的质量；通过将轴封设置在开孔和搅拌轴的间隙中，提高了密封效果。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术实施例提供的带有底伸式搅拌装置的反应釜的结构示意图；图2是本技术又一实施例提供的具有冲洗功能的机械密封的结构示意图。附图标记分别表示:I搅拌电机；2联轴器；3下层搅拌器；4上层搅拌器；5导流筒；6反应釜本体；7第一支架；8第二支架；9 轴封；10换热器；11搅拌轴；12具有冲洗功能的机械密封；121 通道；122冲洗空间。【具体实施方式】为使本技术的技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。如附图1所示，本技术实施例提供了一种带有底伸式搅拌装置的反应釜，包括反应釜本体6、搅拌装置、轴封9、第一支架7和第二支架8 ;该搅拌装置包括搅拌电机1、联轴器2、同轴的下层搅拌器3和上层搅拌器4 ;搅拌电机1、联轴器2均设置在反应釜本体6下方，同轴的下层搅拌器3和上层搅拌器4均设置在反应釜本体6内部；反应釜本体6的底部中央设置有开孔，同轴的下层搅拌器3和上层搅拌器4的搅拌轴11从反应Il本体6内部穿过该开孔至反应Il本体6下方，并在反应Il本体6下方通过联轴器2与搅拌电机I连接；导流筒5罩装在所述上层搅拌器4上；轴封9设置在开孔和搅拌轴11的间隙中；第一支架7设置在反应釜本体6的下方，并与搅拌电机I固定连接；第二支架8设置在反应釜本体6的内部，并与导流筒5固定连接。其中，上述“同轴的下层搅拌器3和上层搅拌器4”指的是上层搅拌器4和下层搅拌器3共用一个搅拌轴11。此外，本领域技术人员可以理解的是，上述“搅拌电机I通过联轴器2与同轴的下层搅拌器3和上层搅拌器4连接”指的是通过使用联轴器2将搅拌电机I的转动轴与上层搅拌器4和下层搅拌器3共用的搅拌轴11连接。本领域技术人员可以理解得是，为了实现上层搅拌器4的搅拌功能，上述“导流筒5罩装在上层搅拌器4上”中，导流筒5并不与上层搅拌器4相接触。举例来说，当上层搅拌器4为轴流式搅拌器时，其能够使混合均匀的物料向上翻滚，使其沿着搅拌轴11进入导流筒5内，进行进一步地强制循环，进一步保证了物料混合均匀，减少其温差。由上述可知，本技术实施例提供了一种含有上述搅拌装置的反应釜，尤其指的是大型反应釜(例如直径大于2.2米的反应釜)。其中的搅当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种带有底伸式搅拌装置的反应釜，包括反应釜本体、搅拌装置、导流筒、轴封、第一支架和第二支架；所述搅拌装置包括：搅拌电机、联轴器、同轴的下层搅拌器和上层搅拌器；所述搅拌电机、所述联轴器均设置在所述反应釜本体下方，所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器均设置在所述反应釜本体内部；所述反应釜本体的底部中央设置有开孔，所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴从所述反应釜本体内部穿过所述开孔至所述反应釜本体下方，并在所述反应釜本体下方通过所述联轴器与所述搅拌电机连接；所述导流筒罩装在所述上层搅拌器上方；所述轴封设置在所述开孔和所述搅拌轴的间隙中；所述第一支架设置在所述反应釜本体的下方，并与所述搅拌电机固定连接；所述第二支架设置在所述反应釜本体的内部，并与所述导流筒固定连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：田克勤，王千祥，
申请(专利权)人：淄博三田化工装备有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37
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