一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜，它涉及一种小F数介质透镜，具体涉及一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜。本发明专利技术为了解决现有被动毫米波成像系统的景深较小的问题。本发明专利技术由左旋转双曲面、右旋转双曲面依次连接制成一体，左旋转双曲面的顶点曲率半径为14.5mm，右旋转双曲面的顶点曲率半径为58mm，左旋转双曲面和右旋转双曲面均是由聚四氟乙烯制作的，左旋转双曲面和右旋转双曲面的介电常数均为2.2。本发明专利技术用于毫米波成像领域。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种小F数介质透镜，具体涉及一种改善被动毫米波成像系统景深的 小F数介质透镜，属于毫米波成像领域。
技术介绍
毫米波段位于微波和红外之间，除了具有微波和红外的共同特性外，还有着自己 独特的性质。与微波相比，毫米波的指向性好、抗干扰能力强、探测性能好、能穿透等离子 体；与红外相比，毫米波受气流影响小、区别金属目标和周围环境的能力强。与光电探测器 相比，毫米波探测器可以在恶劣天气条件下工作，具有全天候工作能力，可提供红外及可见 光探测器不能提供的特殊信息，而且结构简单、易于集成。 毫米波成像可以分为主动毫米波成像和被动毫米波成像。被动毫米波成像系统以 被动的工作方式探测目标，不发射电磁波，具有很高的隐蔽性和很好的抗干扰特性；与光学 成像原理一致，所成像十分有利于物体的辨认。在探测金属的时候，由于金属目标的发射率 很低，所以金属目标的毫米波特征稳定，外界环境变化不会对成像品质造成太大影响。 被动毫米波成像技术在遥感、盲降、导航、安检等民用领域的实用价值非常之大。 由于毫米波具有较好的穿透性和较高的空间辨率，因此可以采用毫米波辐射计对隐藏在衣 下的违禁物品进行成像，从而达到探测识别的目的。 对于传统被动毫米波成像系统而言，由于人体发出的毫米波能量十分微弱，所以 需要利用大口径旋转椭球面天线进行聚焦，并要求大口径旋转椭球面天线具有很强的聚焦 能力。在接收机位置（大口径旋转椭球面天线近焦点）固定的情况下，上述要求就使椭球 远焦点（人所在位置）对大口径椭球天线张角过大，从而限制了被动毫米波成像系统的景 深。小F数介质透镜可以明显改善被动毫米波成像系统的景深。
技术实现思路
本专利技术为解决现有被动毫米波成像系统的景深较小的问题，进而提出一种改善被 动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜。 本专利技术为解决上述问题采取的技术方案是：本专利技术由左旋转双曲面、右旋转双曲 面依次连接制成一体，左旋转双曲面的顶点曲率半径为14. 5_，右旋转双曲面的顶点曲率 半径为58mm，左旋转双曲面和右旋转双曲面均是由聚四氟乙烯制作的，左旋转双曲面和右 旋转双曲面的介电常数均为2. 2。 本专利技术的有益效果是：本专利技术对于被动毫米波成像系统而言，具有改善景深的作 用，景深扩大约2. 6-2. 7倍。在被动毫米波成像系统中，与原系统旋转椭球面天线远焦点相 比，被探测物体可以在透镜右旋转双曲面焦点处有更大的左右可移动范围。【附图说明】 图1是本专利技术的主视图，图2是本专利技术实施例的示意图。【具体实施方式】【具体实施方式】 一：结合图1说明本实施方式，本实施方式所述一种改善被动毫米 波成像系统景深的小F数介质透镜由左旋转双曲面1、右旋转双曲面2依次连接制成一体， 左旋转双曲面1的顶点曲率半径为14. 5mm，右旋转双曲面2的顶点曲率半径为58mm，左旋 转双曲面1和右旋转双曲面2均是由聚四氟乙烯制作的，左旋转双曲面1和右旋转双曲面 2的介电常数均为2. 2。 以左旋转双曲面1表面的几何中心为零点在竖直方向建立xloyl直角坐标系，以 右旋转双曲面2表面的几何中心为零点在竖直方向建立x2oy2直角坐标系，本实施方式中 左旋转双曲面1的计算公式为：【主权项】1. 一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜，其特征在于：所述一种改善 被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜由左旋转双曲面（1)、右旋转双曲面（2)依次连 接制成一体，左旋转双曲面（1)的顶点曲率半径为14. 5_，右旋转双曲面（2)的顶点曲率半 径为58mm，左旋转双曲面（1)和右旋转双曲面（2)均是由聚四氟乙烯制作的，左旋转双曲面 (1)和右旋转双曲面⑵的介电常数均为2. 2。2. 根据权利要求1所述一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜，其特征 在于：左旋转双曲面（1)与右旋转双曲面（2)组成的透镜的高度（H)为96_，左旋转双曲 面⑴与右旋转双曲面⑵组成的透镜的长度（L)为50mm。3. 根据权利要求1或2所述一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜，其 特征在于：左旋转双曲面（1)与右旋转双曲面（2)组成的透镜的边缘设有金属反射板。【专利摘要】一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜，它涉及一种小F数介质透镜，具体涉及一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜。本专利技术为了解决现有被动毫米波成像系统的景深较小的问题。本专利技术由左旋转双曲面、右旋转双曲面依次连接制成一体，左旋转双曲面的顶点曲率半径为14.5mm，右旋转双曲面的顶点曲率半径为58mm，左旋转双曲面和右旋转双曲面均是由聚四氟乙烯制作的，左旋转双曲面和右旋转双曲面的介电常数均为2.2。本专利技术用于毫米波成像领域。【IPC分类】G01V3-12, G01S7-03, H01Q15-08, H01Q15-23【公开号】CN104765019【申请号】CN201510194276【专利技术人】谷海川, 邱景辉, 宗华 【申请人】哈尔滨工业大学【公开日】2015年7月8日【申请日】2015年4月22日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜，其特征在于：所述一种改善被动毫米波成像系统景深的小F数介质透镜由左旋转双曲面(1)、右旋转双曲面(2)依次连接制成一体，左旋转双曲面(1)的顶点曲率半径为14.5mm，右旋转双曲面(2)的顶点曲率半径为58mm，左旋转双曲面(1)和右旋转双曲面(2)均是由聚四氟乙烯制作的，左旋转双曲面(1)和右旋转双曲面(2)的介电常数均为2.2。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：谷海川，邱景辉，宗华，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江;23
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