具有吸气结构的真空绝缘玻璃(VIG)窗单元以及制备其的方法技术

一种具有吸气结构的真空绝缘玻璃(VIG)窗单元配置，以及制备其的方法。该技术被用来优化(例如，增加)激活和/或闪光之前和/或之后VIG窗单元制约内的活性吸气剂材料的表面积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】具有吸气结构的真空绝缘玻璃(VIG)窗单元以及制备其的方法本公开涉及一种真空绝缘玻璃(VIG)窗单元配置，以及用于制备VIG窗单元的方法。特别是，本公开涉及一种用于VIG窗单元的吸气结构，以及制备其的方法。吸气剂通常被分为两个主要类别:蒸发性吸气剂(EGs)和非蒸发性吸气剂(NEGs)。背景和示例性实施例概述真空绝缘玻璃(VIG)窗单元通常包括至少两个分离的玻璃基片，其中附有排空或低压空间/腔。上述基片由外边缘密封互相连接并通常包括隔离片，位于玻璃基片之间，来保持玻璃基片之间的间距，防止由于基片之间的低压环境而造成的玻璃基片损毁。一些示例性 VIG 配置在类似美国专利 Nos.5，657，607，5，664，395，5，657，607，5，902，652，6，506，472和6，383，580中被公开，在此其公开的内容被纳入此处作为参照。图1和图2示出现有的VIG窗单元I和用于形成VIG单元I的元件。例如VIG单元I可包括两个分离的玻璃基片2、3，其中附有排空的低压空间/腔6。玻璃片或基片2、3由外边缘密封4互相连接，其可由熔融焊料玻璃被制成。玻璃基片2、3之间可包括一组支承柱/隔离片5，鉴于基片2、3之间存在的低压空间/间隙6，来维持VIG单元I的玻璃基片2、3的间距。泵出管8可通过焊料玻璃9被气密密封至空穴/孔10，从玻璃基片2的内表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部，或选择性地至玻璃基片2的外表面。真空被连接至泵出管8，将内部腔6排空至低于大气压的低压。在腔6排空后，管8的部分(例如，顶端)被熔化来密封低压腔/空间6中的真空。选择性的凹槽11可用来固定密封的泵出管8。如图1-2中所示出的，吸气剂12可包括在凹槽13内，该凹槽配置在玻璃基片中的一个地内表面中，例如，玻璃基片2。吸气剂12可用来吸收或结合一些可能遗留在排空或密封的腔6中的残余杂质。该吸气剂包括金属混合，可与气体反应，将气体杂质保持在吸气表面和/或溶解该气体。在此公开的技术用来优化VIG窗单元约束内的活性吸气剂的表面积。在示例性实施例中，提供一种真空绝缘玻璃(VIG)窗单元，包括:平行的第一和第二基片；多个隔离片和密封，配置在所述第一和第二基片的之间；至少由所述密封定义的空间，位于所述第一和第二基片之间，并在低于大气压的压力下；定义在所述第一基片中的吸气剂凹槽，用来接收最初放置的吸气剂；和所述第二基片上的吸气结构，位于所述第一基片中的所述吸气剂凹槽的对面，被设计用来增加吸气剂激活之后的所述第二基片上提供的吸气剂材料表面积。在示例性实施例中，所述第二基片上的所述吸气结构可包括:凹槽，被定义在所述第二基片中。在本专利技术的示例性实施例中，提供一种真空绝缘玻璃(VIG)窗单元，包括:平行的第一和第二基片；多个隔离片和密封，配置在所述第一和第二基片的之间；至少由所述密封定义的空间，位于所述第一和第二基片之间，并在低于大气压的压力下；定义在所述第一基片中的第一吸气剂凹槽，用来接收最初放置的蒸发性吸气剂(EG);定义在所述第二基片中的第二吸气剂凹槽，位于所述第一吸气剂凹槽的对面，从而所述第一基片中的所述第一吸气剂凹槽的至少一部分与所述第二基片中的所述第二吸气剂凹槽的至少一部分重叠。其中，来自所述EG的蒸发和沉积的吸气剂材料位于所述第一吸气剂凹槽和所述第二吸气剂凹槽两者中。在本专利技术的示例性实施例中，用于接收吸气剂沉积的基片表面，和/或穿过低压腔的最初吸气剂沉积对面的表面可以是波状外形的，从而可增加用于收容吸气剂的有限VIG空间中的活性吸气表面面积。该增加的吸气表面积至少包括由以下中的一个或多个实现的EG激活:(i)将光滑玻璃基片中的切口和/或凹槽的边缘加工成圆形和/或倒棱，其中放置有EG，从而通过激活来增加吸气剂材料的分散，从而EG被激活时闪光至更大的区域；(ii)使接收EG沉积的基片表面为波状外形的，从而增加用于收容吸气剂的有限空间中活性表面的面积；(iii)使接收EG沉积的另外基本光滑的玻璃基片的区域粗糙化，例如通过喷砂、蚀刻、和/或磨削，从而可增加吸气材料表面面积；(iv)在用于接收EG沉积的区域中预先沉积粗糙(例如，结核状的)和/或多孔涂层，例如通过溶胶凝胶或选择性的熔块应用，用来促进吸气剂沉积中的孔隙率，增加吸气剂的吸附能力；(V)使用EG材料，其被配置在具有至少一个开口区域的吸气剂容器中，来优化经激活/闪光吸气剂材料的分散和/或蒸发方向；和/或(vi)在最初吸气剂位置对面的基片上提供任何合适的凹槽和/或粗糙涂层，随着EG激活/闪光，从最初吸气剂位置穿过低压腔，来增加相对的基片上的活性吸气表面的面积。在本专利技术的不同实施例中，任何或上述的实施例/特征(i)，(ii), (iii),(iv)，(V)和/或(vi)可以或也可以不与任何其他实施例/特征(i)，(ii),(iii), (iv)，(v)和(vi)联合使用。例如，本专利技术的不同实施例中，实施例/特征(i)可以或也可以不与(ii)-(vi)中的任何一个联合使用。因此，吸气剂凹槽和/或吸气剂凹槽中的吸气剂容器被形成来增加蒸发性吸气剂材料的表面积，其中，蒸发性吸气剂材料是含有EG型材料的吸气剂在激活和/或闪光之后存在的一种吸气剂。以下，有关示例性实施例参照附图对上述和其他实施例的优点进行说明，其中，相同的参照符号表示相同的元件。_2] 附图简要说明图1是示出现有的VIG单元的横截面示图；图2是图1中现有的VIG单元的俯视图；图3是示出根据本专利技术的示例性实施例的示例性VIG窗单元的部分横截面图；图4a是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图4b是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图4c是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图4d是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图4e是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图4f是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图4g是示出根据本专利技术的示例性实施例，含有位于吸气剂容器中的吸气材料的吸气结构的部分立体图，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用；图4h是图4g中的吸气结构的顶部截面图；图4i是示出根据本专利技术的示例性实施例，含有位于吸气剂容器中的吸气材料的吸气结构的顶部截面图，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用；图4j是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图4k是示出根据本专利技术的示例性实施例，可在图3和/或图5-15的VIG单元中被使用的吸气结构的部分横截面图；图5是示出根据本专利技术的示例性实施例的示例性VIG窗单元的部分横截面图；图6是示出根据本专利技术的示例性实施例的示例性VIG窗单元的部分横截面图；图7是示出根据本专利技术的另一个示例性实施例的示例性VIG窗单元的部分横截面图；图8本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空绝缘玻璃VIG窗单元，包括：分别含有玻璃的平行的第一和第二基片；多个隔离片和密封，配置在所述第一和第二基片的之间；至少由所述密封定义的空间，位于所述第一和第二基片之间，并在低于大气压的压力下；定义在所述第一基片中的吸气剂凹槽，用来接收最初放置的吸气剂；和所述第二基片上的吸气结构，位于所述第一基片中的所述吸气剂凹槽的对面，所述第二基片上的所述吸气结构被设计用来增加吸气剂激活之后的所述第二基片上提供的吸气剂材料表面积，其中，所述第二基片上的所述吸气结构包括以下中的一个或多个：(i)具有基座的凹槽和定义在所述第二基片中的至少一个侧壁；(ii)所述第二基片被粗糙化所在的粗糙表面积，其中所述粗糙表面积比面向所述空间的所述第二基片的主要内表面更粗糙；和/或(iii)粗糙和/或多孔涂层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁道夫·H·帕奇马克，约翰·P·霍根，
申请(专利权)人：葛迪恩实业公司，
类型：发明
国别省市：美国;US