内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头制造技术

一种内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特点是真空灭弧室触头杯内嵌有一对线径大、匝数少的内嵌式静线圈（3）和内嵌式动线圈（8），内嵌式静线圈（3）和内嵌式动线圈（8）与动、静导电杆电气联接，电流流经静导电杆（1）、内嵌式静线圈（3）、静触头片（5）、动触头片（6）、内嵌式动线圈（8）、动导电杆（10），在断口区域形成一纵向磁场，动、静触头杯内分别嵌有内嵌式静铁芯（2）和内嵌式动铁芯（9）。本发明专利技术的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头的触头杯完整，机械强度增强，进而提高触头分、合闸初速度，对真空灭弧室成功开断有积极作用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空灭弧室触头，特别是涉及一种内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，属于高压电器设备

技术介绍
现有高压真空灭弧室触头大多采用杯状纵磁及传统线圈式纵磁触头结构，其中杯状纵磁真空灭弧室触头杯壁开有斜槽，传统线圈式纵磁真空灭弧室触头导电杆通过辐条拐臂与线圈触头联接，使得以上两种触头结构机械强度大大减弱，从而影响对触头分、合闸的控制，影响开断性能。
技术实现思路
本专利技术的目的就在于解决现有技术存在的上述问题，克服现有真空灭弧室触头结构存在的缺陷，提供一种结构合理、紧凑、纵向磁场强度大、机械强度高的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头。本专利技术给出的技术解决方案如下。一种内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特点是真空灭弧室触头杯内嵌有一对线径大、匝数少的内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8，内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8与动、静导电杆电气联接，电流流经静导电杆1、内嵌式静线圈3、静触头片5、动触头片6、内嵌式动线圈8、动导电杆10，在断口区域形成一纵向磁场，同时，动、静触头杯内分别嵌有内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9，内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9上开有一贯穿槽。内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9具有高导磁率，可增强断口区域纵向磁场强度。内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8采用导电率高、传导电流性能好的粗径铜。内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9开有的贯穿槽可削弱磁场快速变化引起的涡流效应。当电压等级提高后，通过增大内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8的直径、匝数及内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9的直径，以保证触头断口间纵向磁场强度，满足成功开断所需要求。可更改内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9的形状，进而改变断口间纵向磁场分布，形成均匀、非均匀等分布，灵活适用于各电压等级。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是。①完整的杯壁，较之传统杯状纵磁与线圈式纵磁触头结构，大大增强了触头机械强度。②随着电压等级提高，可通过增大内嵌式线圈的直径、匝数及内嵌式铁芯的直径，保证触头断口间纵向磁场强度。③可更改内嵌式铁芯的形状，进而改变断口间纵向磁场分布，形成均匀、非均匀等分布，灵活适用于各电压等级。【附图说明】图1为本专利技术的主视图。图2为本专利技术的静触头结构示意图。图3为本专利技术的动、静线圈结构示意图。图4为本专利技术的静铁芯结构示意图。图5为本专利技术的扩展铁芯结构示意图。图中标记:1一静导电杆，2—内嵌式静铁芯，3—内嵌式静线圈，4一静触头杯，5一静触头片，6—动触头片，7—动触头杯，8—内嵌式动线圈，9一内嵌式动铁芯，10一动导电杆。【具体实施方式】参照图1，静导电杆I与静触头杯4及静触头片5电气联接，同理，动导电杆10与动触头杯7及动触头片6进行电气联接。静导电杆1、静触头杯4、静触头片5、动触头片6、动触头杯7、动导电杆10在触头间产生电弧时与电弧一起构成电流流路。参照图2，内嵌式静线圈3与静触头杯4及静触头片5联接，构成产生纵向磁场的电流流路。内嵌式静线圈3外表面附有绝缘漆，实现线圈与铁芯之间的绝缘。触头片开槽，削弱涡流效应。参照图3，内嵌式静线圈3与内嵌式动线圈8的旋转方向要保证二者产生的纵向磁场方向一致，其中线圈产生纵向磁场的方向满足右手螺旋原则。参照图4，铁芯上开有一贯穿槽，削弱涡流效应。参照图5，瓣状及圆柱状铁芯使得产生不均匀纵向磁场，一定程度上利于开断。本专利技术的工作过程。本专利技术触头杯内嵌有一对线径大、匝数少的内嵌式静线圈和内嵌式动线圈，内嵌式静线圈和内嵌式动线圈与动、静导电杆电气联接，电流流经静导电杆、内嵌式静线圈、静触头片、动触头片、内嵌式动线圈、动导电杆，在断口区域形成一纵向磁场，动、静触头杯内分别嵌有内嵌式静铁芯和内嵌式动铁芯。本专利技术的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头的触头杯完整，机械强度增强，进而提高触头分、合闸初速度，对真空灭弧室成功开断有积极作用。以上所述仅为本专利技术的优选实施例而已，并不用于限制本专利技术，对于本领域的技术人员来说，本专利技术可以有各种更改和变化。凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.一种内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特征在于真空灭弧室触头杯内嵌有一对线径大、匝数少的内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8，内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8与动、静导电杆电气联接，电流流经静导电杆1、内嵌式静线圈3、静触头片5、动触头片6、内嵌式动线圈8、动导电杆10，在断口区域形成一纵向磁场，动、静触头杯内分别嵌有内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9。2.根据权利要求1所述的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特征在于，内嵌式铁芯(2)和内嵌式铁芯(9)具有高导磁率，可增强断口区域纵向磁场强度。3.根据权利要求1所述的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特征在于，内嵌式线圈(3)和内嵌式线圈(8)采用导电率高的粗径铜，传导电流性能好，减少发热。4.根据权利要求1所述的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特征在于，内嵌式铁芯(2)和内嵌式铁芯(9)开有一贯穿槽，可削弱磁场快速变化引起的涡流效应。5.根据权利要求1所述的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特征在于，当电压等级提高后，通过增大内嵌式线圈(3)和内嵌式线圈(8)的直径、匝数及内嵌式铁芯(2)和内嵌式铁芯(9)的直径，以保证触头断口间纵向磁场强度，满足成功开断所需要求。6.根据权利要求1所述的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特征在于，更改内嵌式铁芯(2)和内嵌式铁芯(9)的形状，进而改变断口间纵向磁场分布，形成均匀、非均匀等分布，灵活适用于各电压等级。【专利摘要】一种内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特点是真空灭弧室触头杯内嵌有一对线径大、匝数少的内嵌式静线圈（3）和内嵌式动线圈（8），内嵌式静线圈（3）和内嵌式动线圈（8）与动、静导电杆电气联接，电流流经静导电杆（1）、内嵌式静线圈（3）、静触头片（5）、动触头片（6）、内嵌式动线圈（8）、动导电杆（10），在断口区域形成一纵向磁场，动、静触头杯内分别嵌有内嵌式静铁芯（2）和内嵌式动铁芯（9）。本专利技术的内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头的触头杯完整，机械强度增强，进而提高触头分、合闸初速度，对真空灭弧室成功开断有积极作用。【IPC分类】H01H33-664【公开号】CN104701067【申请号】CN201310642019【专利技术人】刘晓明, 于德恩, 曹云东 【申请人】沈阳工业大学【公开日】2015年6月10日【申请日】2013年12月4日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种内嵌线圈式纵磁真空灭弧室触头，其特征在于真空灭弧室触头杯内嵌有一对线径大、匝数少的内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8，内嵌式静线圈3和内嵌式动线圈8与动、静导电杆电气联接，电流流经静导电杆1、内嵌式静线圈3、静触头片5、动触头片6、内嵌式动线圈8、动导电杆10，在断口区域形成一纵向磁场，动、静触头杯内分别嵌有内嵌式静铁芯2和内嵌式动铁芯9。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓明，于德恩，曹云东，
申请(专利权)人：沈阳工业大学，
类型：发明
国别省市：辽宁;21