一种不同环境湿度下热像仪响应度漂移的测量装置和方法制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学检测
，特别是涉及一种不同环境湿度下热像仪响应度漂移的测量装置和方法。
技术介绍
以下对本专利技术的相关技术背景进行说明，但这些说明并不一定构成本发明的现有技术。红外热像仪的响应度是随着环境温度变化的，实验室环境下测量的结果往往需要用外场试验环境测量的数据进行修正。在很多情况下，红外测量设备的这种性能检测不能同时找到不同环境温度的外场情况，给试验结果带来偏差。因此需要通过实验室环境模拟装置模拟所有可能的地面野外环境下的温度，实现标定环境与外场测量环境一致，减少或消除环境温度的变化对测量结果的影响，满足辐射测量系统定标需求。国内外已经有专家做过热像仪响应度随环境温度变化的报导，然而，热像仪响应度随环境湿度是否变化的研究却非常少。因此，现有技术中需要一种能够研究不同环境湿度下热像仪响应度是否发生变化的测量装置和方法的解决方案。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种能够能够研究不同环境湿度下热像仪响应度是否发生变化的技术方案。根据本专利技术的一个方面，提出一种不同环境湿度下热像仪响应度漂移的测量装置。根据本专利技术的不同环境湿度下热像仪响应度漂移的测量装置包括：底座、测量舱、舱门、温度湿度控制面板、黑体、黑板、观察窗以及手动操作孔，其中，底座固定地设置在测量舱的下方，用于固定测量舱，底座的上侧面位于测量舱的内部；测量舱为矩形框架，且固定地设置在底...
【技术保护点】
一种不同环境湿度下热像仪响应度漂移的测量装置，其特征在于包括底座、测量舱、舱门、温度湿度控制面板、黑体、黑板、观察窗以及手动操作孔，其中，所述底座固定地设置在所述测量舱的下方，用于固定所述测量舱，所述底座的上侧面位于所述测量舱的内部；所述测量舱为矩形框架，且固定地设置在所述底座的上侧面上；所述测量舱的前侧面设置有所述观察窗；所述测量舱前侧面的位于所述观察窗的下方设置有两个所述手动操作孔，每一个所述手动操作孔上设置有手套；所述温度湿度控制面板设置在所述测量舱的前侧面上；所述测量舱的左侧面和右侧面分别设置有所述舱门，热像仪通过所述舱门放入测量装置中；所述黑板放置在所述测量舱内，通过所述手动操作孔上的手套、利用所述黑板对热像仪进行非均匀校正；所述黑体固定地设置在所述底座上，并且位于所述测量舱的内部。
【技术特征摘要】
1.一种不同环境湿度下热像仪响应度漂移的测量装置，其特征在于包括
底座、测量舱、舱门、温度湿度控制面板、黑体、黑板、观察窗以及手动操
作孔，其中，
所述底座固定地设置在所述测量舱的下方，用于固定所述测量舱，所述
底座的上侧面位于所述测量舱的内部；
所述测量舱为矩形框架，且固定地设置在所述底座的上侧面上；
所述测量舱的前侧面设置有所述观察窗；
所述测量舱前侧面的位于所述观察窗的下方设置有两个所述手动操作
孔，每一个所述手动操作孔上设置有手套；
所述温度湿度控制面板设置在所述测量舱的前侧面上；
所述测量舱的左侧面和右侧面分别设置有所述舱门，热像仪通过所述舱
门放入测量装置中；
所述黑板放置在所述测量舱内，通过所述手动操作孔上的手套、利用所
述黑板对热像仪进行非均匀校正；
所述黑体固定地设置在所述底座上，并且位于所述测量舱的内部。
2.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，
所述底座上设置有滑轨，热像仪能够在所述测量舱内部相对所述滑轨滑
动。
3.如权利要求2所述的测量装置，其特征在于，
所述滑轨上设置有瞄准转台，所述瞄准转台的下端相对滑动地、且可拆
卸地设置在滑轨上，所述瞄准转台的上端能够相对所述瞄准转台的下端在水
平方向内进行转动；
热像仪可拆卸地设置在所述瞄准转台的上端。
4.如权利要求3所述的测量装置，其特征在于，
所述滑轨上设置有操作平面，所述操作平面能够相对所述滑轨滑动，且
所述操作平面与所述滑轨之间的垂直距离可以调节；
所述瞄准转台相对转动地设置在所述操作平面上。
5.一种利用权利要求3所述的测量装置来进行不同环境湿度下热像仪响
应度漂移测量的方法，其特征在于包括：
S01.将被标定热像仪和黑体置于恒温环境下的测量舱中，打开测量装置
预热；
S02.用瞄准转台调整黑体在热像仪上的成像位置，使黑体的图像在热像
仪镜头的中部；在滑轨上调节热像仪与黑体之间的距离，使得黑体在热像仪
上的成像清晰；
S03.在温度湿度控制面板上设定温度和湿度，将恒温环境下的测量舱的
内部温度恒定在某一个温度值，调节测量舱的内部湿度为第一湿度值；预热
至少一小时；
S04....
【专利技术属性】
技术研发人员：戴映红，张亚洲，王宁明，雷浩，陈大鹏，
申请(专利权)人：北京环境特性研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11
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