用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置制造方法及图纸

技术编号:11588048 阅读:57 留言:0更新日期:2015-06-10 21:10
一种用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置,包括遮板、密封圈、快卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄、挡块、钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖。钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖构成第一保护结构;遮板、密封圈、快卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄和挡块构成第二保护结构。根据本发明专利技术的用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置,采用了双重保护结构,挡玻璃置于腔室保护监测装置座内腔,在观察玻璃与真空腔室之间形成间隔,构成第一重保护。遮板置于真空腔室内,遮蔽腔室保护监测装置视口,构成第二重保护。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空镀膜
,具体的说是一种用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置
技术介绍
保护监测装置是真空镀膜设备运行过程中至关重要的装置,起着非常重要的作用。操作者使用保护监测装置实时监测真空腔室内设备的运行状况,从而控制镀膜进度,保证镀膜质量和设备运行的安全性。传统的保护监测装置结构简单,在镀膜过程中,真空腔室内会有少量溅射物附着在观察玻璃上。随着溅射物的不断沉积,保护监测装置玻璃会变得模糊不清,甚至无法观察真空腔室内的工作情况,直接影响到了作业的监控,带来安全隐患,不够安全可靠。
技术实现思路
本专利技术旨在解决现有技术中的不足,提供一种结构新颖的用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置。为了达成上述目的,提供了一种用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置,包括遮板、密封圈、快卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄、挡块、钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖。钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖构成第一保护结构;遮板、密封圈、快卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄和挡块构成第二保护结构。一些实施例中,在腔室保护监测装置底座的内腔,由内向外依次装入钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃和橡胶垫圈,所述腔室保护监测装置底座密封焊接在真空腔室上,挡玻璃在腔室保护监测装置和真空腔室之间形成间隔,并在钢丝挡圈的作用下与观察玻璃贴合。一些实施例中,磁流体密封件通过快卸连接器和密封圈固联在法兰连接器上,所述法兰连接器密封焊接在真空腔室上,磁流体密封件的真空腔内一端设有遮板,另一端设有卡环和手柄,遮板在重力作用下自动转回直至其下沿与挡块相接。一些实施例中,所述的钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃和橡胶垫圈由腔室保护监测装置座内腔的凹槽、法兰盖和螺钉共同固定。一些实施例中,所述的挡板玻璃由钢丝挡圈卡持在腔室保护监测装置座内腔,并与观察玻璃贴合。一些实施例中,所述的钢丝挡圈开设有缺口,并在缺口尾端折有弯爪。一些实施例中,所述的磁流体密封件作为旋转机构。一些实施例中,所述快卸连接器对磁流体密封件进行密封联接。根据本专利技术的用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置,采用了双重保护结构,挡玻璃置于腔室保护监测装置座内腔,在观察玻璃与真空腔室之间形成间隔,构成第一重保护。遮板置于真空腔室内,遮蔽腔室保护监测装置视口,构成第二重保护。其次,本专利技术的挡玻璃由钢丝挡圈卡持在腔室保护监测装置座内腔,并与观察玻璃贴合,可以更好的保护观察玻璃。钢丝挡圈开有缺口,并在缺口尾端折有弯爪。通过捏住弯爪即可拆卸钢丝挡圈,方便取出挡玻璃进行更换。另外,本专利技术采用磁流体密封件作为旋转动力传输件,使得传动机构简洁紧凑,密封性好。采用快卸连接器进行密封联接,便于装置拆卸,且密封性能好。遮板可在重力的作用下,自动转回直至其下沿与挡块相接,将腔室保护监测装置完全遮蔽。以下结合附图,通过示例说明本专利技术主旨的描述,以清楚本专利技术的其他方面和优点。附图说明结合附图,通过下文的详细说明,可更清楚地理解本专利技术的上述及其他特征和优点,其中:图1为根据本专利技术实施例的腔室保护监测装置的结构示意图;及图2为根据本专利技术实施例的腔室保护监测装置的遮板施用示意图。具体实施方式参见本专利技术具体实施例的附图,下文将更详细地描述本专利技术。然而,本发明可以以许多不同形式实现,并且不应解释为受在此提出之实施例的限制。相反,提出这些实施例是为了达成充分及完整公开,并且使本
的技术人员完全了解本专利技术的范围。现参考附图详细说明根据本专利技术实施例的腔室保护监测装置。根据本专利技术实施例的腔室保护监测装置包括钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖,所述腔室保护监测装置还包括遮板、密封圈、快卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄和挡块。所述腔室保护监测装置的第一重保护由钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖构成。在腔室保护监测装置座的内腔,由内向外依次装入钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃和橡胶垫圈,该五个部件由腔室保护监测装置座内腔的凹槽、法兰盖和螺钉共同作用固定。所述腔室保护监测装置座密封焊接在真空腔室上。挡玻璃在腔室保护监测装置和真空腔室之间形成间隔,并在钢丝挡圈的作用下与观察玻璃贴合,保护观察玻璃。所述腔室保护监测装置的第二重保护由遮板、密封圈、快卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄和挡块构成。磁流体密封件使用快卸连接器和密封圈固联在法兰连接器上。所述法兰连接器密封焊接在真空腔室上。磁流体密封件的真空腔内一端安装遮板,另一端安装卡环和手柄。遮板在重力作用下自动转回直至其下沿与挡块相接,将腔室保护监测装置完全遮蔽,保护挡玻璃和观察玻璃。如图1所示,是本专利技术的结构示意图,所述的腔室保护监测装置包括:钢丝挡圈8、挡玻璃9、密封圈10、观察玻璃11、橡胶垫圈12和法兰盖13,所述腔室保护监测装置还包括遮板1、密封圈2、快卸连接器3、磁流体密封件4、卡环5、手柄6和挡块15。如图1所示,在腔室保护监测装置座14的内腔,由内向外依次装入钢丝挡圈8、挡玻璃9、密封圈10、观察玻璃11、橡胶垫圈12,该五个部件由腔室保护监测装置座14内腔的凹槽、法兰盖13和螺钉共同作用固定。磁流体密封件4安装在法兰连接器7上,使用快卸连接器3对两部件进行连接。磁流体密封件4和法兰连接器7的安装面之间置有密封圈2。遮板1安装在磁流体密封件4的真空腔室内一端,使用键进行固定。卡环5安装在磁流体密封件4的真空腔室外一端,使用键和螺钉进行固定。卡环5上安装手柄6。挡块15置于真空腔室内部,靠近腔室保护监测装置的侧壁上,用于定位遮板1的位置。挡玻璃9由钢丝挡圈8卡持在腔室保护监测装置座14内腔,并与观察玻璃11贴合。在挡玻璃9观察玻璃11与真空腔室之间形成间隔,构成第一重保护。遮板1置于真空腔室内,遮挡腔室保护监测装置视口,防止镀膜过程中的溅射物直接在挡玻璃9上沉积,间接保护观察玻璃11,构成第二重保护。钢丝挡圈8设有弯爪结构,捏住弯爪,即可卸下钢丝挡圈8,取出挡玻璃9进行更换,操作过程简便快捷。如图2所示,遮板1在重力的作用下,自动转回直至其下沿与挡块15相接,将腔室保护监测装置完全遮蔽。逆时针旋转手柄6,通过磁流体密封件4带动遮板1旋转,即可重新打开腔室保护监测装置视口。根据本专利技术的用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置,采用了双重保护结构,挡玻璃置于腔室保本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置,包括遮板(1)、密封圈(2)、快卸连接器(3)、磁流体密封件(4)、卡环(5)、手柄(6)、挡块(15)、钢丝挡圈(8)、挡玻璃(9)、密封圈(10)、观察玻璃(11)、橡胶垫圈(12)和法兰盖(13),其特征在于,钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖构成第一保护结构;遮板、密封圈、快卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄和挡块构成第二保护结构。

【技术特征摘要】
1.一种用于真空镀膜生产线的腔室保护监测装置,包括遮板(1)、密
封圈(2)、快卸连接器(3)、磁流体密封件(4)、卡环(5)、手柄(6)、
挡块(15)、钢丝挡圈(8)、挡玻璃(9)、密封圈(10)、观察玻璃(11)、
橡胶垫圈(12)和法兰盖(13),其特征在于,钢丝挡圈、挡玻璃、密封
圈、观察玻璃、橡胶垫圈和法兰盖构成第一保护结构;遮板、密封圈、快
卸连接器、磁流体密封件、卡环、手柄和挡块构成第二保护结构。
2.根据权利要求1所述的腔室保护监测装置,其特征在于,在腔室保
护监测装置底座的内腔,由内向外依次装入钢丝挡圈、挡玻璃、密封圈、
观察玻璃和橡胶垫圈,所述腔室保护监测装置底座密封焊接在真空腔室上,
挡玻璃在腔室保护监测装置和真空腔室之间形成间隔,并在钢丝挡圈的作
用下与观察玻璃贴合。
3.根据权利要求2所述的腔室保护监测装置,其特征在于,磁流体密
封件通过...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭寿魏晓俊官敏惠建秋谷天奇王海林杨黎虹蒋鸿于涛赵永
申请(专利权)人:中国建材国际工程集团有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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