磁聚焦线圈及其阵列的设置方法技术

技术编号:11587725 阅读:212 留言:0更新日期:2015-06-10 20:51
本发明专利技术公开了一种磁聚焦线圈及其阵列的设置方法,属于磁聚焦技术领域。提供一种聚焦性能有很大的改善,结构简单易制作,且测量时简便容易,不存在测量盲区的磁聚焦线圈及其阵列的设置方法。其特征是由至少两个处于同心圆形状分布的线圈组,依次套叠在一起,两个线圈的一侧端部共处于同一平面中,且两个线圈半径不同,线圈1的半径r1=1cm,线圈2的半径r2的取值范围在(1,2]cm,且0.1cm个单位增加其半径,即是线圈2与线圈1满足半径比范围在(1,2]。本发明专利技术的聚焦性较单个线圈或现有技术中的8字形线圈和一些线圈阵列,聚焦效果得到了极大的改善;本发明专利技术可比例性的放大或缩小,应用范围极广;例如:大的可应用到石油勘测领域,而小的可应用到医疗器械领域等等。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术公开了一种磁聚焦线圈及其阵列的设置方法,属于磁聚焦

技术介绍
随着磁聚焦技术在医学、石油勘测等领域的广泛使用,为了实现磁聚焦,各种各样为实现聚焦而设计的线圈阵列结构也不断被提出。从最初的8字形线圈到三维空间线圈阵列结构,都是针对如何提高线圈阵列聚焦性的问题而设计的。简单的单个线圈(圆形线圈,矩形线框等)实现的电磁场聚焦性能不好,聚焦区域过大,磁场能量分散,且不能满足深度的测量的需求。8字形线圈是把两个圆形线圈挨边放置,两个圆形线圈中的电流相反,由于圆形线圈的感应电场在边缘处幅值最大,中心处最小,故8字形线圈的感应电场在两圆线圈相接处下面形成最大值区域,但最大区域中的磁场与其它位置的磁场差别并不是非常大,磁聚焦的效果也不理想。三维空间线圈阵列模型电磁场聚焦性大大的提高了,基本可以实现“点聚焦”,但是将其应用于实际中时(例如:瞬变电磁法估测管道剩余厚度),由于线圈模型制造过程中精确度要求较高,例如三维空间结构中各线圈的角度等,不仅生产工艺繁杂,而且无法保证聚焦的精确度;再加上许多线圈阵列模型的实际测量中,因为模型本身有本文档来自技高网...
磁聚焦线圈及其阵列的设置方法

【技术保护点】
一种磁聚焦线圈阵列的设置方法,其特征是发射线圈阵列至少由两个处于同心圆形状分布的线圈组,依次套叠在一起,两个线圈的一侧端部共处于同一平面中,主发射圈半径最小为r1,辅助发射圈紧靠主发射圈,且比主发射圈尺寸大,半径为r2,且r2/r1的比值取值在(1,2]区间内。

【技术特征摘要】
1.一种磁聚焦线圈阵列的设置方法,其特征是发射线圈阵列至少由两个处于同心圆形状分布的线圈组,依次套叠在一起,两个线圈的一侧端部共处于同一平面中,主发射圈半径最小为r1,辅助发射圈紧靠主发射圈,且比主发射圈尺寸大,半径为r2,且r2/r1的比值取值在(1,2]区间内。
2.根据权利要求1所述的磁聚焦线圈阵列的设置方法,其特征是所述的两个线圈半径不同,线圈1的半径r1=1cm, 线圈2的半径r2的取值范围在(1,2]cm,且0.1cm个单位增加其半径,即是线圈2与线圈1满足半径比范围在(1,2]。
3.一种磁聚焦线圈,包括至少两个单线圈,其特征是两个线圈自内向外依次套叠在一起呈同心圆形,两个线圈的一侧端部共处于同一平面中;主发射圈半径最小为r1,辅助发射圈紧靠主发射圈,且比主发射圈尺寸大,半径为r2,且r2/r1的比值取值在(1,2]区间内。
4.根据权利要求3所述的磁聚焦线圈,其特征是所述的两个线圈半径不同,线圈1的半径r1=1cm, 线圈2的半径r2的取值范围在(1,2]cm,且0.1cm个单位增加其半径,即是线圈2与线圈1满足半径...

【专利技术属性】
技术研发人员:王观军陈健飞王安泉冯国栋杨勇孙东王春光江文军
申请(专利权)人:中国石油化工股份有限公司中国石油化工股份有限公司胜利油田分公司技术检测中心
类型:发明
国别省市:北京;11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1