感光性树脂组合物、图案的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种感光性树脂组合物、图案的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置的制造方法。上述感光性树脂组合物含有：(A1)包含包括下述通式(1)所表示的构成单元(a1)的聚合物的聚合物成分、(B)光酸产生剂、(C)脂环式环氧化合物、以及(D)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂(通式(1)中，R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、图案的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置的制造方法
本专利技术涉及一种感光性树脂组合物以及使用其的图案的制造方法。进而，涉及一种包含上述图案制造方法的有机电致发光(Electro-Luminescence，EL)显示装置或者液晶显示装置的制造方法、以及利用图案制造方法来制造的图案。更详细而言，涉及一种适合于形成液晶显示装置、有机EL显示装置等的电子零件的蚀刻抗蚀剂的正型感光性树脂组合物以及使用其的图案的制造方法。
技术介绍
有机EL显示装置或液晶显示装置等中设置有形成有图案的氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)膜等金属配线图案。该ITO膜等的图案形成中，如下方法已广为人知：在ITO膜上涂布感光性树脂组合物，并且去除溶剂，进行曝光、显影，将所形成的图案作为掩模对ITO膜进行蚀刻来实施加工。另外，近年来，为了将有机EL显示装置或液晶显示装置设为高精细的显示特性，而要求ITO加工的高解析性。为了对ITO进行高精细的微细加工，要求在蚀刻时发挥作为掩模的功能的感光性树脂组合物的高解析性。因此，正在研究获得高精细且微细的图案形状的感光性树脂组合物(例如专利文献1、专利文献2等)。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开平9-325473号公报[专利文献2]日本专利特开平10-326015号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，随着近年来的技术开发，要求感度、线宽稳定性、解析性以及矩形性进一步提高的感光性树脂组合物。本专利技术是出于解决上述要求的目的而成，目的在于提供一种感度、线宽稳定性、解析性以及矩形性进一步提高的感光性树脂组合物。解决问题的技术手段基于上述状况，本申请专利技术人进行积极研究，结果发现，通过包含规定的聚合物、脂环式环氧化合物、以及规定的溶剂，而可提高感度、线宽稳定性、解析性以及矩形性，从而完成本专利技术。具体而言，通过下述手段＜1＞，优选为通过＜2＞～＜13＞，来解决上述问题。＜1＞一种感光性树脂组合物，其含有：(A1)聚合物成分，包含包括下述通式(1)所表示的构成单元(a1)的聚合物；(B)光酸产生剂；(C)脂环式环氧化合物；以及(D1)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂；[化1](通式(1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或者芳基，至少R1及R2的任一个为烷基或者芳基；R3表示烷基或芳基，R1或R2可与R3连结而形成环状醚；R4表示氢原子或者甲基)。＜2＞根据＜1＞所述的感光性树脂组合物，其中上述(C)脂环式环氧化合物为下述通式(I)所表示的化合物：[化2](通式(I)中，n表示1～4的整数；R1表示碳数1～15的有机基)。＜3＞根据＜2＞所述的感光性树脂组合物，其中上述通式(I)所表示的化合物中的n为1或2。＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的感光性树脂组合物，其进而包含(A2)聚合物成分，上述(A2)聚合物成分包括具有由酸分解性基所保护的保护羧基的构成单元(a4)。＜5＞根据＜4＞所述的感光性树脂组合物，其中上述构成单元(a4)为下述通式(A2')所表示的构成单元：[化3]通式(A2')(通式(A2')中，R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或者芳基，至少R1及R2的任一个为烷基或者芳基，R3表示烷基或芳基，R1或R2可与R3连结而形成环状醚，R4表示氢原子或者甲基，X0表示单键或者亚芳基)。＜6＞根据＜1＞至＜5＞中任一项所述的感光性树脂组合物，其中相对于总固体成分量，上述(C)脂环式环氧化合物的含量为0.05质量％～5质量％。＜7＞根据＜1＞至＜6＞中任一项所述的感光性树脂组合物，其包含上述(D1)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂、及与上述(D1)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂不同的其他溶剂(D2)。＜8＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的感光性树脂组合物，其中上述(D1)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂的沸点为130℃以上且小于300℃。＜9＞根据＜1＞至＜8＞中任一项所述的感光性树脂组合物，其中上述(D1)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂的含量为上述感光性树脂组合物的1质量％～10质量％。＜10＞一种图案的制造方法，其包括：(1)在基板的至少一面涂布根据＜1＞至＜9＞中任一项所述的感光性树脂组合物的工序；(2)通过干燥，使有机溶剂挥发而形成感光性树脂组合物层的工序；(3)对上述感光性树脂组合物层进行曝光的工序；以及(4)对经曝光的上述感光性树脂组合物层进行显影的工序。＜11＞根据＜10＞所述的图案的制造方法，其包括使用所形成的图案作为蚀刻用抗蚀剂来进行蚀刻的工序、以及通过等离子体处理或者化学品处理而去除上述图案的工序。＜12＞一种硬化膜，其是使根据＜1＞至＜9＞中任一项所述的感光性树脂组合物硬化而成。＜13＞一种有机EL显示装置或者液晶显示装置的制造方法，其包括根据＜10＞或＜11＞所述的图案的制造方法。专利技术的效果根据本专利技术，可提供一种感度高且线宽稳定性、解析性以及矩形性优异的感光性树脂组合物。附图说明图1表示有机EL显示装置的一例的构成概念图。表示底部发光型的有机EL显示装置中的基板的示意性剖面图，具有平坦化膜4。图2表示液晶显示装置的一例的构成概念图。表示液晶显示装置中的有源矩阵基板的示意性剖面图，具有作为层间绝缘膜的硬化膜17。[符号的说明]1：TFT(薄膜晶体管)2：配线3：绝缘膜4：平坦化膜5：第一电极6：玻璃基板7：接触孔8：绝缘膜10：液晶显示装置12：背光单元14、15：玻璃基板16：TFT17：硬化膜18：接触孔19：ITO透明电极20：液晶22：彩色滤光片具体实施方式以下，对本专利技术的内容进行详细说明。此外，本申请说明书中所谓“～”，是以包含其前后所记载的数值作为下限值以及上限值的含义来使用。另外，本专利技术中的所谓有机EL显示装置，是指有机电致发光显示装置。本专利技术中的所谓多分散度(polydispersity)，是指Mw/Mn的值。此外，本说明书中的基团(原子团)的表述中，未记载经取代以及未经取代的表述不仅包含不具有取代基的基团，而且还包含具有取代基的基团。例如所谓“烷基”，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，而且还包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。进而，所谓(甲基)丙烯酸，是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。本专利技术的感光性树脂组合物(以下有时称为“本专利技术的组合物”)含有：(A1)聚合物成分，包含包括下述通式(1)所表示的构成单元(a1)的聚合物；(B)光酸产生剂；(C)脂环式环氧化合物；以及(D1)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂。[化4](通式(1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或者芳基，至少R1及R2的任一个为烷基或者芳基；R3表示烷基或芳基，R1或R2可与R3连结而形成环状醚；R4表示氢原子或者甲基。)本专利技术的感光性树脂组合物优选为作为化学增幅型正型感光性树脂组合物来使用。以下，对本专利技术的组合物进行详细说明。＜聚合物成分＞本专利技术的感光性树脂组合物包含(A1)包括下述通式(1)所表示的构成单元(a1)的聚合物成分作为聚合物成分(A)。(A1)聚合物成分也可包含通式(1)所表示的构成单元(a1)以外的聚合物。另外，聚合物成分(A)优选为包括(A2)具有由酸分解性基所保护的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性树脂组合物，其含有：(A1)聚合物成分，包含包括下述通式(1)所表示的构成单元(a1)的聚合物；(B)光酸产生剂；(C)脂环式环氧化合物；以及(D1)分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂；[化1](通式(1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或者芳基，至少R1及R2的任一个为烷基或者芳基；R3表示烷基或芳基，R1或R2能够与R3连结而形成环状醚；R4表示氢原子或者甲基)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.28 JP 2012-2175001.一种感光性树脂组合物，其含有：聚合物成分A1，包含包括下述通式1所表示的构成单元a1的聚合物；光酸产生剂B；脂环式环氧化合物C；以及分子内含有2个以上乙酸酯结构的溶剂D1；通式1中，R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或者芳基，至少R1及R2的任一个为烷基或者芳基；R3表示烷基或芳基，R1或R2能够与R3连结而形成环状醚；R4表示氢原子或者甲基；所述脂环式环氧化合物C为下述通式I所表示的化合物：所述通式I中，n表示2～4的整数；R1表示碳数1～15的有机基。2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中所述通式I所表示的化合物中的n为2。3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其进而包含聚合物成分A2，所述聚合物成分A2包括具有由酸分解性基所保护的保护羧基的构成单元a4。4.根据权利要求3所述的感光性树脂组合物，其中所述构成单元a4为下述通式A2'所表示的构成单元：通式A2'通式A2'中，R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或者芳基，至少R1及R2的任一个为烷基或者芳基，R3表示烷基或芳基，R1或R2能够与R3连结而形成环状醚，R4表示氢原子或者甲基，X0表示单键或者亚芳基。5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤本进二，柏木大助，佐竹亮，真崎庆央，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP