正型光敏树脂组合物、使用其制备的光敏树脂膜以及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了正型光敏树脂组合物、使用其制备的光敏树脂膜以及显示装置。所述正型光敏树脂组合物包含：（A）聚苯并噁唑前体，在端基处包括被约400nm至约550nm波长区的光分解并且酸化的官能团；（B）光敏重氮醌化合物；以及（C）溶剂。

【技术实现步骤摘要】
正型光敏树脂组合物、使用其制备的光敏树脂膜以及显示装置相关申请的交叉引用本申请要求于2013年10月23日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10-2013-0126541的优先权和权益，通过引用将其全部内容结合于本文中。
本专利技术涉及正型光敏树脂组合物，使用其制备的光敏树脂膜以及包括该光敏树脂膜的显示装置。
技术介绍
常规光敏树脂分为在曝光部分中溶解的正型和在显影期间在曝光部分固化且剩余的负型。正型光敏树脂通常可以通过使用具有在碱性含水溶液等中溶解的苯酚类羟基基团的聚苯并噁唑合成。聚苯并噁唑是主要具有刚性芳香族主链的典型聚合物，基于环状化学稳定性具有优异的机械强度、耐化学性、耐候性、耐热性、和形状稳定性，以及由于低介电常数具有诸如绝缘特性等的优异的电气特性，因此活性地应用为诸如显示器、储存器、太阳能电池等的电气/电子材料，并且在自动化和航空航天领域作为一种材料吸引注意力。具体地，包括聚苯并噁唑的正型光敏树脂组合物最近已经以有机绝缘层或阻挡肋材料更多地应用在显示器领域，并且由于显示器的轻、薄、低价、和低电耗，对集成电路优异的粘附性而广泛地用于便携式计算机、监控器、和TV成像。然而，聚苯并噁唑前体(聚苯并噁唑聚合物，PBO)由于针对碱性显影液的低溶解度以及在曝光部分与非曝光部分之间没有较大的溶解速率差而具有几乎不形成具有高分辨率图案的问题。在非曝光期间抑制树脂溶解性和在非曝光期间阻止溶解性抑制的光敏剂可以与树脂混合，以有效地形成图案，但是混合物可能不均匀地涂覆并且在显影期间依然形成不均匀的图案。因此，已经努力开发在曝光部分针对碱性显影液具有选择性增加的溶解度的树脂。
技术实现思路
本专利技术的一个实施方式提供了具有优异的灵敏度和分辨率的正型光敏树脂组合物。本专利技术的另一个实施方式提供了使用正型光敏树脂组合物的光敏树脂膜。本专利技术的又一个实施方式提供了包括光敏树脂膜的显示装置。一个实施方式提供了正型光敏树脂组合物，包括(A)聚苯并噁唑前体，在端基处包括被约400nm至约550nm波长区的光分解并且酸化的官能团；(B)光敏重氮醌化合物；以及(C)溶剂。官能团可以由以下化学式1表示。[化学式1]在以上化学式1中，L1和L2独立地是单键、取代或未取代的C1至C20亚烷基基团、取代或未取代的C1至C20亚芳基基团、取代或未取代的C1至C20杂亚芳基基团、或它们的组合，并且X是取代或未取代的C1至C20烷基基团、取代或未取代的C2至C20烯基基团、取代或未取代的C2至C20炔基基团、取代或未取代的C6至C20芳基基团、取代或未取代的C1至C20杂芳基基团、-C(O)R(R是取代或未取代的C1至C20芳基基团)、或它们的组合。X可以选自以下化学式2至化学式5。[化学式2][化学式3][化学式4][化学式5]在以上化学式2至化学式5中，R1至R5独立地是氢原子、羟基基团、硝基基团、取代或未取代的C1至C10烷基基团、取代或未取代的C1至C10烷氧基基团、取代或未取代的氨基基团。L1可以由以下化学式6表示。[化学式6]聚苯并噁唑前体可以包括由以下化学式7表示的结构单元。[化学式7]在以上化学式7中，X1是取代或未取代的C6至C30芳香族有机基团，并且Y1是取代或未取代的C6至C30芳香族有机基团、取代或未取代的二价至六价C1至C30脂肪族有机基团、或取代或未取代的二价至六价C3至C30脂环族有机基团。正型光敏树脂组合物可以进一步包括由以下化学式8表示的溶解控制剂。[化学式8]在以上化学式8中，R61是氢原子、羟基基团、或取代或未取代的C1至C10烷基基团，并且R62至R64独立地是取代或未取代的C1至C10烷基基团。基于100重量份的聚苯并噁唑前体(A)，正型光敏树脂组合物可以包括约5至约100重量份的光敏重氮醌化合物(B)；和约100至约900重量份的溶剂(C)。正型光敏树脂组合物可以进一步包括选自表面活性剂、匀染剂、硅烷偶联剂、热生酸剂、和它们的组合的添加剂。本专利技术的另一个实施方式提供了使用正型光敏树脂组合物制备的光敏树脂膜。本专利技术的又一个实施方式提供了包括光敏树脂膜的显示装置。根据一个实施方式的正型光敏树脂组合物可以提供光敏树脂膜和具有优异的灵敏度和分辨率的显示装置。具体实施方式在下文中，详细描述了本专利技术的实施方式。然而，这些实施方式是示例性的，并且本公开内容不限于此。如在本文中使用的，当不另外提供具体定义时，术语“取代的”指代利用选自以下的至少一个取代基取代的取代基：卤素原子(F、Cl、Br或I)、羟基基团、硝基基团、氰基基团、氨基(NH2、NH(R200)或N(R201)(R202)，其中，R200、R201和R202是相同的或不同的，并且独立地是C1至C10烷基基团)、脒基基团、肼基基团、腙基基团、羧基基团、取代或未取代的烷基基团、取代或未取代的烯基基团、取代或未取代的炔基基团、取代或未取代的脂环族有机基团、取代或未取代的芳基基团、和取代或未取代的杂环基团，代替官能团的至少一个氢。如在本文中使用的，当不另外提供具体定义时，术语“烷基基团”指C1至C20烷基基团，并且具体地C1至C15烷基基团；术语“环烷基基团”可以指C3至C20环烷基基团，并且具体地C3至C18环烷基基团；术语“烷氧基基团”可以指C1至C20烷氧基基团，并且具体地C1至C18烷氧基基团；术语“芳基基团”指代C6至C20芳基基团，并且具体地C6至C18芳基基团；术语“烯基基团”指代C2至C20烯基基团，并且具体地C2至C18烯基基团；术语“亚烷基基团”指代C1至C20亚烷基基团，并且具体地C1至C18亚烷基基团；并且术语“亚芳基基团”指代C6至C20亚芳基基团，并且具体地C6至C16亚芳基基团。如在本文中使用的，当没有另外提供具体定义时，“脂肪族有机基团”指代C1至C20烷基基团、C2至C20烯基基团、C2至C20炔基基团、C1至C20亚烷基基团、C2至C20亚烯基基团、或C2至C20亚炔基基团，并且具体地C1至C15烷基基团、C2至C15烯基基团、C2至C15炔基基团、C1至C15亚烷基基团、C2至C15亚烯基基团、或C2至C15亚炔基基团，术语“脂环族有机基团”指代C3至C20环烷基基团、C3至C20环烯基基团、C3至C20环炔基基团、C3至C20亚环烷基基团、C3至C20亚环烯基基团、或C3至C20亚环炔基基团，并且具体地C3至C15环烷基基团、C3至C15环烯基基团、C3至C15环炔基基团、C3至C15亚环烷基基团、C3至C15亚环烯基基团、C3至C15亚环炔基基团，术语“芳香族有机基团”指代C6至C20芳基基团或C6至C20亚芳基基团，并且具体地C6至C16芳基基团或C6至C16亚芳基基团，术语“杂环基基团”指代C2至C20环烷基基团、C2至C20亚环烷基基团、C2至C20环烯基基团、C2至C20亚环烯基基团、C2至C20环炔基基团、C2至C20亚环炔基基团、C2至C20杂芳基基团、或在环中包括选自O、S、N、P、Si、和它们的组合的1至3个杂原子的C2至C20杂亚芳基基团，并且具体地C2至C15环烷基基团、C2至C15亚环烷基基团、C2至C15环烯基基团、C2至C15亚环烯基基团、C2至C15环炔基基团、C2至C15亚环炔基基团、C本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种正型光敏树脂组合物，包括：（A）聚苯并噁唑前体，在端基处包含被400nm至550nm波长区的光分解并且酸化的官能团；（B）光敏重氮醌化合物；以及（C）溶剂。

【技术特征摘要】
2013.10.23 KR 10-2013-01265411.一种正型光敏树脂组合物，包括：(A)聚苯并噁唑前体，在端基处包含被400nm至550nm波长区的光分解并且酸化的官能团；(B)光敏重氮醌化合物；以及(C)溶剂，其中，所述官能团由以下化学式1表示：[化学式1]其中，在以上化学式1中，L1和L2独立地是单键、取代或未取代的C1至C20亚烷基基团、取代或未取代的C1至C20亚芳基基团、取代或未取代的C1至C20杂亚芳基基团或它们的组合，以及X是取代或未取代的C2至C20烯基基团、取代或未取代的C2至C20炔基基团、取代或未取代的C6至C20芳基基团、取代或未取代的C1至C20杂芳基基团、-C(O)R或它们的组合，其中R是取代或未取代的C1至C20芳基基团，其中，*是指相同或不同原子或化学式之间的连接部分。2.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物，其中，X选自以下化学式2至化学式5：[化学式2][化学式3][化学式4][化学式5]其中，在上述化学式至2化学式5中，R1至R5独立地是氢原子、羟基基团、硝基基团、取代或未取代的C1至C10烷基基团、取代或未取代的C1至C10烷氧基基团、取代或未取代的氨基基团，其中，*是指相同或不同原子或化学式之间的连接部分。3.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物，其中，所述L1由以下化学式6表示：[化学...

【专利技术属性】
技术研发人员：南宫烂，权孝英，田桓承，
申请(专利权)人：第一毛织株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR