【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：通过一次构图工艺在衬底基板上制作遮光层、扫描线和信号线，扫描线和信号线的交叉位置处，信号线/扫描线断开；在完成上述步骤的衬底基板上制作缓冲层；分别通过两次构图工艺在完成上述步骤的衬底基板上依次制作多晶硅有源层和栅极绝缘层；通过一次构图工艺在完成上述步骤的衬底基板上制作栅极、源极、漏极、信号线/扫描线的搭接线和栅极与扫描线连接的连接线；分别通过四次构图工艺在完成上述步骤的衬底基板上依次制作有机绝缘层、公共电极层、钝化层和像素电极层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：舒适，孙双，曹占锋，孔祥春，齐永莲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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