一种阵列基板及其制作方法、显示装置及显示补偿方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置及显示补偿方法，涉及显示技术领域，在不降低显示分辨率的情况下，对有机发光材料进行色衰补偿。一种阵列基板，包括衬底基板、形成在衬底基板上的第一电极、第二电极以及位于第一电极和第二电极之间的发光功能层，发光功能层至少包括第一颜色的有机发光材料层、第二颜色的有机发光材料层，其中，第一颜色的有机发光材料层的色衰速率大于第二颜色的有机发光材料层的色衰速率；第一颜色的有机发光材料层至少包括层叠设置的第一子层和第二子层，且第一子层和第二子层之间设置有第三电极。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种阵列基板，包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的第一电极、第二电极以及位于所述第一电极和所述第二电极之间的发光功能层，其特征在于，所述发光功能层至少包括第一颜色的有机发光材料层、第二颜色的有机发光材料层，其中，所述第一颜色的有机发光材料层的色衰速率大于所述第二颜色的有机发光材料层的色衰速率；所述第一颜色的有机发光材料层至少包括层叠设置的第一子层和第二子层，且所述第一子层和所述第二子层之间设置有第三电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨久霞，白峰，刘建涛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11