在红外玻璃深表面实现宽波段电磁屏蔽网栅的方法技术

一种在红外玻璃深表面实现宽波段电磁屏蔽网栅的方法，该方法包含以下几个步骤：①飞秒激光刻蚀微结构；②镀铜；③清洗；④钯活化；⑤清洗；⑥镀镍；⑦清洗。该方法能够实现双层电磁屏蔽网栅的集成，同时实现低频和高频电磁波的屏蔽。本发明专利技术适用于遥感遥测、医疗诊断、保密通讯、航天航空等窗口电磁屏蔽。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种在红外玻璃深表面实现宽波段电磁屏蔽网栅的方法，所述的红外玻璃的重量百分比组分为：18GeO2－26Ga2O3‑46BaO‑3.5Al2O3‑4Na2CO3‑(2.5‑x)BaCl2‑xAgNO3，其中掺杂的银离子含量x为0.5～2，特征在于该方法包含如下步骤：①飞秒激光刻蚀微结构：利用飞秒激光在掺银离子的红外玻璃表面扫描刻蚀，形成电磁屏蔽网栅凹槽；该凹槽的线宽为5～10μm，深度为5～10μm，周期小于电磁屏蔽的电磁波段的最小波长的二分之一；②镀铜：将具有电磁屏蔽网栅凹槽的红外玻璃放入化学镀铜溶液中进行镀铜0.5～1.5小时，在微结构凹槽内沉积一层金属铜；③清洗：将在微结构凹槽内沉积一层金属铜的红外玻璃依次放入酒精和去离子水中，各超声3～5分钟，再用去离子水冲洗2～3遍；④钯活化：将完成步骤③的红外玻璃放入钯活化剂中，在铜表面沉积一层活化钯，作为后续镀镍的活化媒介；⑤清洗：将沉积一层活化钯的红外玻璃依次放入酒精和去离子水中各超声3～5分钟，再用去离子水冲洗2～3遍；⑥镀镍：将完成步骤⑤的红外玻璃放入化学镀镍溶液中进行镀镍0.5～1.5小时，在微结构凹槽内沉积一层金属镍；⑦清洗：将完成步骤⑥的红外玻璃依次放入酒精和去离子水中各超声3～5分钟，再用去离子水冲洗2～3遍，获得具有宽波段电磁屏蔽网栅的红外玻璃。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：居永凤，张龙，蔡猛，姜雄伟，李奇松，白正元，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31