显影构件、处理盒和电子照相设备制造技术

技术编号:11422864 阅读:71 留言:0更新日期:2015-05-07 00:56
提供能够降低弹性层的热膨胀并且抑制由于与抵接构件长期接触所导致的塑性变形的显影辊。显影辊包括芯轴、设置在芯轴的外周上的含有加成固化型硅橡胶的弹性层和设置在弹性层的外周上的表面层。弹性层包括由下式(1)表示的化合物。当弹性层中由其中n为3-12的整数的下式(1)表示的化合物的含有率为P1,以及弹性层中由其中n为13-20的整数的下式(1)表示的化合物的含有率为P2时,P1+P2为5000质量ppm-12000质量ppm,以及P1为1500质量ppm-6000质量ppm。(式(1)中,n为3-20的整数)。[化学式(1)]

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显影构件、处理盒和电子照相设备
本专利技术涉及要引入至电子照相设备的显影构件,以及各自使用该构件的处理盒和电子照相设备。
技术介绍
用于电子照相设备中的显影构件可以用于各种温度环境。因此,要求具有低的温度依赖性的显影构件。温度变化可以导致,例如,由于其热膨胀所导致的显影构件的形状变化。硅橡胶适合用于显影构件的弹性层。然而,硅橡胶比任何其它橡胶更易于热膨胀。为了可以提供具有稳定品质的电子照相图像,可以说由于其周边的温度或湿度所导致的显影构件的弹性层的尺寸的变化是要解决的问题。为了解决此问题,专利文献1提出通过添加大量具有小的表面积的二氧化硅系填料而提供具有低膨胀系数的硅橡胶的硅橡胶组合物。此外,专利文献2提出通过添加大量已规定孤立硅醇基含量的二氧化硅而提供具有低粘度和低膨胀系数的硅橡胶的硅橡胶组合物。引文列表专利文献专利文献1:日本专利申请特开2000-265150专利文献2:日本专利申请特开2003-128920
技术实现思路
专利技术要解决的问题由本专利技术的专利技术人进行的研究已显示预期根据专利文献1和2任意之一的构成发挥抑制硅橡胶的热膨胀的效果。然而,将根据专利文献1和2任意之一的技术应用于显影构件可降低其弹性层的弹性。结果,当如调色剂控制刮板等构件长期抵接于显影构件的表面上时,在显影构件的表面中在抵接部处可能发生不容易恢复的塑性变形(下文中,有时称为“C-永久变形”)。显影构件中已发生C-永久变形的部分与其它任意部分在例如调色剂输送性等方面不同。因此,当用此类显影构件形成电子照相图像时,源自C-永久变形的浓度不均匀可能出现在电子照相图像中。鉴于上述,本专利技术的目的在于提供具有降低的弹性层的热膨胀并且即使与抵接构件长期抵接之后也难以引起塑性变形的显影构件。本专利技术的另一目的在于提供有助于高品质电子照相图像的形成的处理盒和电子照相设备。用于解决问题的方案根据本专利技术,提供显影构件,其包括:基体;设置在基体上的弹性层,所述弹性层含有加成固化型硅橡胶混合物的固化物;和设置在弹性层上的表面层,其中:弹性层含有由下式(1)表示的化合物;当弹性层中的下式(1)中的n表示3以上且12以下的整数的化合物的含量由P1质量ppm表示,以及弹性层中的下式(1)中的n表示13以上且20以下的整数的化合物的含量由P2质量ppm表示时,P1+P2为5,000质量ppm以上且12,000质量ppm以下;以及P1为1,500质量ppm以上且6,000质量ppm以下:式(1)中,n表示3以上且20以下的整数。根据本专利技术,还提供处理盒,其包括:调色剂;贮存调色剂的调色剂容器;和用于在其表面上承载调色剂容器中的调色剂并将调色剂输送至显影区域的显影构件,处理盒构成为可拆卸地安装至电子照相设备的主体,其中显影构件包括上述显影构件。根据本专利技术,还提供电子照相设备,其包括:调色剂;贮存调色剂的调色剂容器;和用于在其表面上承载调色剂容器中的调色剂并将调色剂输送至显影区域的显影构件,其中显影构件包括上述显影构件。专利技术的效果根据本专利技术,可提供具有降低的弹性层的热膨胀并且即使与抵接构件长期抵接之后也难以在抵接部发生塑性变形的显影构件。根据本专利技术,还可提供有助于高品质电子照相图像的形成的处理盒和电子照相设备。附图说明图1为根据本专利技术的显影辊的一个实例的截面图。图2为根据本专利技术的处理盒的一个实例的截面图。图3为根据本专利技术的电子照相设备的一个实例的截面图。图4为用于测量根据本专利技术的显影辊的形状的装置的示意图。具体实施方式(显影构件)根据本专利技术的显影构件包括基体、弹性层和表面层。图1示出沿与根据本专利技术的辊状显影构件即显影辊的轴垂直方向的截面图。图1中示出的显影辊1为在芯轴2的外周设置弹性层3并且在弹性层3的外周设置表面层4的显影辊。(基体)基体起到显影构件的电极和支承构件的作用。因此,基体由例如,导电性材料如:如铝、铜合金或不锈钢等金属或合金;镀有铬或镍的铁;或具有导电性的合成树脂构成。中空或实心基体可以用作显影构件中的基体。(弹性层)弹性层3含有加成固化型硅橡胶的固化物并含有由下式(1)表示的化合物。(式(1)中,n表示3以上且20以下的整数。)<P1、P2、P1+P2>本专利技术中,当弹性层中的下式(1)中的n表示3以上且12以下的整数的化合物的含量由P1质量ppm表示,并且所述层中的下式(1)中的n表示13以上且20以下的整数的化合物的含量由P2质量ppm表示时,P1+P2为5,000质量ppm以上且12,000质量ppm以下。将P1+P2设定为5,000质量ppm以上可以有效地抑制硅橡胶的分子运动性,因此可以有效地抑制弹性层的热膨胀。此外,将P1+P2设定为12,000质量ppm以下可以充分地抑制由于作为主成分的硅橡胶与环状硅氧烷的缠结所导致的橡胶弹性的降低。此处,P1+P2优选为6,000质量ppm以上且11,000质量ppm以下,特别优选7,000质量ppm以上且10,000质量ppm以下,更优选8,000质量ppm以上且9,000质量ppm以下。此外,P1为1,500质量ppm以上且6,000质量ppm以下。将P1设定为1,500质量ppm以上可以充分地抑制弹性层的塑性变形,即,C-永久变形的发生。此外,将P1设定为6,000质量ppm以下可以有效地抑制由于,例如,环状硅氧烷向显影构件的渗出所导致的弹性层的橡胶弹性的降低。此处,将P1设定为优选为2,000质量ppm以上且5,500质量ppm以下,特别优选2,500质量ppm以上且5,000质量ppm以下,更优选3,000质量ppm以上且4,000质量ppm以下。应注意P1和P2可以通过后述方法来测量。由式(1)表示的化合物比具有直链结构的高分子量聚硅氧烷更刚性。因此,以上述比例含有由式(1)表示的环状硅氧烷的弹性层,即使在高温环境下也抑制由于热能所导致的分子运动性的提高,因此可以抑制弹性层的热膨胀。此外,由式(1)表示的化合物具有比硅橡胶更低的分子量。因此,由于其与硅橡胶的缠结所导致的橡胶弹性的降低难以发生。特别是,式(1)中的n表示3以上且12以下的化合物具有刚性的分子结构并且该结构即使通过外部压力也难以变化。因此,例如,即使当调色剂控制刮板等长期抵接于显影构件上时,也可以有效地抑制弹性层中不容易恢复的塑性变形的发生。如上所述,抑制根据本专利技术的弹性层的热膨胀并且其塑性变形难以发生。因此,也可以有效地抑制由塑性变形导致的横条纹图像的出现。(加成固化型硅橡胶混合物)用作本专利技术的弹性层用原料的加成固化型硅橡胶混合物可以含有,例如,以下成分(A)、成分(B)和成分(C):(A)在其一个分子中具有至少两个键合至硅原子的烯基的有机聚硅氧烷;(B)在其一个分子中具有至少三个键合至硅原子的氢原子的有机聚硅氧烷;和(C)铂系催化剂。成分(A)的分子结构可以为直链和支链结构中的任意之一,并且从固化物的令人满意的拉伸强度、撕裂强度和断裂强度的观点,直链结构是优选的。烯基的例子包括乙烯基、烯丙基、丙烯基、异丙烯基、丁烯基、异丁烯基、戊烯基和己烯基。其中,优选乙烯基作为烯基。作为成分(A)的有机聚硅氧烷具有至少两个烯基,并且这些烯基可以彼此相同或彼此不同。成分(A)的例子包括两末端乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷和具有侧链乙本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影构件,其包括:基体;设置在所述基体上的弹性层,所述弹性层包括加成固化型硅橡胶混合物的固化物;和设置在所述弹性层上的表面层,其特征在于:所述弹性层包括由下式(1)表示的化合物;当所述弹性层中的下式(1)中的n表示3以上且12以下的整数的化合物的含量由P1质量ppm表示,以及所述弹性层中的下式(1)中的n表示13以上且20以下的整数的化合物的含量由P2质量ppm表示时,P1+P2为5000质量ppm以上且12000质量ppm以下;以及P1为1500质量ppm以上且6000质量ppm以下:式(1)中,n表示3以上且20以下的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.07 JP 2012-1969921.一种显影构件,其包括:基体;设置在所述基体上的弹性层,所述弹性层包括加成固化型硅橡胶混合物的固化物;和设置在所述弹性层上的表面层,其特征在于:所述弹性层包括由下式(1)表示的化合物;当所述弹性层中的下式(1)中的n表示3以上且12以下的整数的化合物的含量由P1质量ppm表示,以及所述弹性层中的下式(1)中的n表示13以上且20以下的整数的化合物的含量由P2质量ppm表示时,P1+P2为5000质量ppm以上且12000质量ppm以下;以及P1为1500质量ppm以上且6000质量ppm以下:式(1)中,n表示3以上且20以下的整数。2.根据权利要求1所述的显影构件,其中所述P1+P2为6000质量ppm以上且11000质量ppm以下。3.根据权利要求2所述的显影构件,其中所述P1+P2为7000质量ppm以上且10000质量ppm以下。4.根据权利要求1或2所述的显影构件,其中所述P1为2000质量ppm以上且5500质量ppm以下。5.根据权利要求4所述的显影构件,其中所述P1...

【专利技术属性】
技术研发人员:漆原圣平中村实河村邦正山田真树草场隆
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1