【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
MoS2修饰硅纳米线阵列光电化学析氢电极,其特征在于:包括导电基底和复合在导电基底上的硅纳米线阵列,所述硅纳米线阵列表面复合有MoS2纳米颗粒团簇。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:乔雷,李艳虹,周明,廖明佳,肖鹏,张云怀,张胜涛,陈刚才,张晟,周志恩,
申请(专利权)人:重庆市环境科学研究院,
类型:发明
国别省市:重庆;85
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