射频结构及其形成方法技术

本发明专利技术揭示了一种射频结构及其形成方法。该方法包括：提供前端结构，包括衬底，形成于所述衬底上的埋氧化层、形成于所述埋氧化层上的有源区及浅沟槽隔离；在所述前端结构上涂敷光阻并进行图案化；以图案化的光阻为掩膜，进行刻蚀形成第一通孔，所述第一通孔延伸至衬底中；在所述第一通孔中形成陷阱，所述陷阱低于所述有源区；利用氧化物填充满所述第一通孔，并在所述浅沟槽隔离及有源区上形成层间介质层；在所述层间介质层上形成金属层。本发明专利技术增大了陷阱中心与金属层之间的距离，从而提高了抗串扰能力，减小了信号的串扰。并且该方法与CMOS工艺能够结合，也降低了制作成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体
，特别是涉及一种射频结构及其形成方法。
技术介绍
射频(Radio Frequency，RF)，表示可以辐射到空间的电磁频率，频率范围从300KHz～300GHz之间。由于具有超强的辐射能力，因此在远距离传输上得以被利用，基于此，射频结构应运而生，并作为了无线通信领域中的重要设备。在现有技术中，如果直接采用普通的衬底形成既包括数字逻辑电路又包括射频电路的集成电路，所述射频电路会引起衬底和集成电路电感耦合，并且集成电路电感器的电感性能下降。为了在单个集成电路上集成更多的功能，通常采用绝缘体上硅(SOI)作为衬底来解决这一问题，并且可以降低滞留功耗，具有优良的抗串扰能力。如图1，现有技术中的射频结构，采用具有陷阱富集层(Trap Rich Layer)的绝缘体上硅制成，包括：高阻率的衬底100；覆盖所述衬底100的陷阱富集层101，用于冻结射频信号在衬底100中的载流子，提高射频结构的信号传输质量；覆盖所述陷阱富集层101的埋氧化层(Buried Oxide)102；以及覆盖所述埋氧化层102的顶层硅103，用于形成射频元件，例如晶体管、电容等。但是，这种射频结构成本较高，并且其抗串扰能力还有待进一步改善。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种射频结构及其形成方法，提高抗串扰能力，并降低制作成本。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种射频结构的形成方法，包括：提供前端结构，包括衬底，形成于所述衬底上的埋氧化层、形成于所述埋氧化层上的有源区及浅沟槽隔离；在所述前端结构上涂敷光阻并进行图案化；以图案化的光阻为掩膜，进行刻蚀形成第一通孔，所述第一通孔延伸至衬底中；在所述第一通孔中形成陷阱，所述陷阱低于所述有源区；利用氧化物填充满所述第一通孔，并在所述浅沟槽隔离及有源区上形成层间介质层；在所述层间介质层上形成金属层。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，所述陷阱的材质为无掺杂多晶硅。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，形成所述陷阱包括：去除图案化的光阻；在所述第一通孔中填充无掺杂多晶硅，并充满所述第一通孔；回刻所述无掺杂多晶硅，使之上表面低于所述有源区，形成所述陷阱。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，所述陷阱的上表面位于所述埋氧化层的中间。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，所述埋氧化层的的厚度为0.1μm～2μm。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，所述第一通孔延伸至衬底的深度为1μm～2μm。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，所述浅沟槽隔离的厚度为0.1μm～0.4μm。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，所述有源区上还形成有掩膜层。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，在形成层间介质层之前，还包括：去除所述掩膜层。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，所述层间介质层的厚度为0.65μm～1μm。可选的，对于所述的射频结构的形成方法，在所述浅沟槽隔离及有源区上沉积层间介质层之后，在所述层间介质层上形成金属层之前，还包括：在所述层间介质层中形成第二通孔，所述第二通孔暴露出有源区；填充所述第二通孔形成插塞。相应的，本专利技术提供一种如上所述的射频结构的形成方法形成的射频结构，包括：衬底；位于所述衬底上的埋氧化层；位于所述衬底及埋氧化层中的陷阱；位于所述埋氧化层上的有源区和浅沟槽隔离；位于所述有源区和浅沟槽隔离上的层间介质层；以及位于所述层间介质层上的金属层。可选的，对于所述的射频结构，还包括位于所述层间介质层中的插塞，所述插塞一端连接于所述有源区，另一端连接于所述金属层。与现有技术相比，本专利技术提供的射频结构及其形成方法中，所述陷阱形成于埋氧化层和衬底中，且低于所述有源区，从而增大了陷阱中心与金属层之间的距离，提高了抗串扰能力；并且该方法与CMOS工艺能够结合，也降低了制作成本。附图说明图1为现有技术中射频结构的示意图；图2为本专利技术实施例中射频结构的形成方法的流程图；图3-图10为本专利技术实施例中在射频结构的形成过程中的示意图。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的射频结构及其形成方法进行更详细的描述，其中表示了本专利技术的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本专利技术，而仍然实现本专利技术的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本专利技术的限制。为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本专利技术由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本专利技术。根据下面说明和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。本专利技术的核心思想在于，提供一种射频结构及其形成方法，通过将陷阱形成于衬底和埋氧化层中，增大了陷阱中心与金属层之间的距离，提高了抗串扰能力。该方法包括：步骤S201，提供前端结构，包括衬底，形成于所述衬底上的埋氧化层、形成于所述埋氧化层上的有源区及浅沟槽隔离；步骤S202，在所述前端结构上涂敷光阻并进行图案化；步骤S203，以图案化的光阻为掩膜，进行刻蚀形成第一通孔，所述第一通孔延伸至衬底中；步骤S204，在所述第一通孔中形成陷阱，所述陷阱低于所述有源区；步骤S205，利用氧化物填充满所述第一通孔，并在所述浅沟槽隔离及有源区上形成层间介质层；步骤S206，在所述层间介质层上形成金属层。以下列举所述射频结构及其形成方法的较优实施例，以清楚说明本专利技术的内容，应当明确的是，本专利技术的内容并不限制于以下实施例，其他通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本专利技术的思想范围之内。请参考图2～图10，图2为本专利技术实施例中射频结构的形成方法的流程图；图3～图10为本专利技术实施例中射频结构的形成方法的过程中的示意图。如图2所示，在本实施例中，所述射频结构的形成方法包括：首先，请参考图3，执行步骤S201本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种射频结构的形成方法，包括：提供前端结构，包括衬底，形成于所述衬底上的埋氧化层、形成于所述埋氧化层上的有源区及浅沟槽隔离；在所述前端结构上涂敷光阻并进行图案化；以图案化的光阻为掩膜，进行刻蚀形成第一通孔，所述第一通孔延伸至衬底中；在所述第一通孔中形成陷阱，所述陷阱低于所述有源区；利用氧化物填充满所述第一通孔，并在所述浅沟槽隔离及有源区上形成层间介质层；在所述层间介质层上形成金属层。

【技术特征摘要】
1.一种射频结构的形成方法，包括：
提供前端结构，包括衬底，形成于所述衬底上的埋氧化层、形成于所述埋
氧化层上的有源区及浅沟槽隔离；
在所述前端结构上涂敷光阻并进行图案化；
以图案化的光阻为掩膜，进行刻蚀形成第一通孔，所述第一通孔延伸至衬
底中；
在所述第一通孔中形成陷阱，所述陷阱低于所述有源区；
利用氧化物填充满所述第一通孔，并在所述浅沟槽隔离及有源区上形成层
间介质层；
在所述层间介质层上形成金属层。
2.如权利要求1所述的射频结构的形成方法，其特征在于，所述陷阱的材
质为无掺杂多晶硅。
3.如权利要求2所述的射频结构的形成方法，其特征在于，形成所述陷阱
包括：
去除图案化的光阻；
在所述第一通孔中填充无掺杂多晶硅，并充满所述第一通孔；
回刻所述无掺杂多晶硅，使之上表面低于所述有源区，形成所述陷阱。
4.如权利要求1所述的射频结构的形成方法，其特征在于，所述陷阱的上
表面位于所述埋氧化层的中间。
5.如权利要求1所述的射频结构的形成方法，其特征在于，所述埋氧化层
的的厚度为0.1μm～2μm。
6.如权利要求5所述的射频结构的形成方法，其特征在于，所述第一通孔
延伸至衬底的深度为1μm～2μm。
7.如权利要求6所述的射频结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘张李，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31