【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种经表面处理的铜箔,该铜箔包括:覆铜层;和形成于所述覆铜层上的表面处理层。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵智星,横田俊子,土桥诚,白承旼,小椋一郎,林恩贞,金润秀,韩成,
申请(专利权)人:三星电机株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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