基片上的样品受控分配制造技术

提出了用于将流体样品分配在基片上的方法，所述方法包括：在基片附近获取样品涂布器的图像，该图像包括样品涂布器的第一图像和样品涂布器的第二图像；以及基于第一和第二图像的公共部分之间的间隔来确定样品涂布器相对于基片的表面平面的高度；以及使用样品涂布器将流体样品分配到基片上，其中所述分配包括：平移样品涂布器、平移基片或平移样品涂布器和基片两者以实现在样品涂布器与基片之间的相对平移；以及保持样品涂布器在平移期间相对于基片的表面平面的目标高度在2微米内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】 相关申请的交叉引用 本申请要求2012年7月13日提交的美国临时申请No. 61/671,600的优先权，该 专利的整个内容通过引用并入本文。
本公开设及将液体样品受控分配到基片上的方法和系统。
技术介绍
用于分析类似血液或体液等生物样品的传统方法通常包括两个步骤。首先，自动 系统对处在液体状态下的样品进行样品特性的定量分析。 例如，使用基于阻抗、巧光和/或散射光的测量的流式细胞仪处理悬浮在液流中 的血液的样品，W计算红血细胞、白血细胞、血小板，并导出全血细胞计数的其它参数。其 次，只要流动系统检测到样品中的某种异常（例如，异常高白细胞计数），系统就对样品加 W标志，实验室技术人员通过检查显微镜载玻片上的经过干燥和染色所制备的样品来人工 复查样品。 为了便于人工复查，技术人员通常会制备血液样品的"模形"涂片。 涂片制备得到厚度和血液成分的分布极大变化的样品。模形涂片往往只具有适合 检查和分析的单个窄带的细胞密度，并且该个带的位置和形状根据载玻片的不同而不同。 另外，由于缺乏均匀性，涂片制备往往妨碍对给定患者的样品性质的绝对定量。一般说来， 在涂片本身范围内只能评估相对比例。[000引生产均匀、高质量标本的样品制备方法将使样品的视觉评估既更容易又更精确。 而且，对于W高度一致的方式使用已知体积的样品制备的标本，可W直接从标本 中自动定量样品性质，取代传统上使用基于流动的系统进行样品分析的第一步骤。
技术实现思路
本文公开的系统和方法在自动样品制备期间使用，其中，样品涂布器用于W仔细 受控方式将流体样品分配在基片（诸如显微镜载玻片）上。 成功地分配流体W获得横跨基片相对均匀分布的样品，部分取决于控制样品涂布 器相对于接受样品的基片的表面的位置。为了实现对样品涂布器的精确控制，本文公开的 方法和系统被配置成根据包括从基片表面反射的图像的涂布器的一个或多个图像，确定样 品涂布器相对于基片表面的位置。 该图像包括与基片上方的样品涂布器的直接（例如，非反射）图像相对应的直接 图像区、和与从基片表面反射的样品涂布器的图像相对应的第一反射图像区。 涂布器相对于基片表面的位置可W根据直接图像区和第一反射图像区中样品涂 布器的边缘之间的间隔来确定。 该方法和实现该方法的系统可W推广到确定处于多个横向测位的样品涂布器相 对于基片的位置。通过首先确定涂布器相对于基片表面的一组适当位置（例如，在基片的 角上），可W在基片表面上的其它测位上内插得到获得所需涂布器位置的适当控制信号。W 该种方式，可W在将流体样品分配在基片上期间，实现对样品涂布器相对于基片表面的位 置的精确控制。 一般说来，在第一方面中，本公开的特征是在基片上制备样品的方法，该方法包 括：（a)在基片附近获取样品涂布器的图像，该图像包括与样品涂布器相对应的直接图像 区和与从基片的表面反射的样品涂布器的图像相对应的第一反射图像区；化）确定直接图 像区中样品涂布器的边缘的位置；(C)确定第一反射图像区中样品涂布器的反射边缘的位 置；（d)确定样品涂布器的边缘与样品涂布器的反射边缘之间的间隔；W及（e)基于边缘之 间的间隔来确定样品涂布器相对于基片的位置；W及（f)使用样品涂布器将样品分配到基 片上，其中，在分配期间，样品涂布器相对于基片的位置被保持。 该方法的实施例可W包括如下特征的任何一种或多种。 该些方法可W包括在分配期间相对于基片平移样品涂布器。样品涂布器可W沿着 轴向方向延伸，并且样品涂布器的内表面相对于轴向方向能够W-定的角度倾斜。样品涂 布器可W包括具有在300微米与650微米之间的内径的通道。样品涂布器可W包括空屯、管 形构件和形成在管形构件的外表面的涂层。样品涂布器可W包括针。 样品涂布器可W包括让样品流经的通道，并且通道可具有非圆形截面形状。通道 的截面形状可为楠圆形的。 在分配期间，样品涂布器能够相对于基片W在80mm/s与90mm/s之间的速度平移。 样品能够W 0. 05 y L/s或W上的速率分配到基片上。样品能够W相邻行的模式分配到基片 上，其中，在分配期间相邻行之间的间隔为0. 20mm与0. 60mm之间。 样品可W包括血液，并且基片能够是显微镜载片。 该方法的实施例还可W酌情地W任何组合包括本文公开的任意其它特征或步骤。 在另一个方面中，本公开的特征是包括样品涂布器和电子处理器的系统，其中，电 子处理器被配置成使用上面和/或本文其他地方公开的任意一种方法将样品分配到基片 上。该些系统的实施例能够酌情地W任意组合包括本文公开的任意特征。 在进一步的方面中，本公开的特征是用于将流体样品分配在基片上的方法，该方 法包括；在基片附近获取样品涂布器的图像，该图像包括样品涂布器的第一图像和样品涂 布器的第二图像；W及基于第一和第二图像的公共部分之间的间隔来确定样品涂布器相对 于基片的表面平面的高度；W及使用样品涂布器将流体样品分配到基片上，其中所述分配 包括；平移样品涂布器、平移基片、或平移样品涂布器和基片两者W实现在样品涂布器与基 片之间的相对平移；W及保持样品涂布器在平移期间相对于基片的表面平面的目标高度在 2微米内。 该方法的实施例可W包括如下特征的任何一种或多种。 第一图像可W位于样品涂布器图像的第一图像区，并且第二图像可W位于样品涂 布器图像的不同于第一图像区的第二图像区。第一图像可W是样品涂布器的直接图像，并 且第二图像可W是从基片的表面反射的样品涂布器的图像。 确定样品涂布器相对于基片的表面平面的高度可W包括；确定在第一图像中样品 涂布器的边缘的第一位置；确定在第二图像中样品涂布器的相应边缘的第二位置；W及基 于第一和第二位置之间的差，确定样品涂布器的高度。 基片可W包括显微镜载片，并且流体样品可W是血液。[002引基片可W具有由基片的正交长短边缘形成的矩形表面，并且该些方法可W包括通 过在样品涂布器与基片之间实现沿平行于矩形表面的长边缘的方向的相对平移将多行流 体样品分配到矩形表面上。基片可W具有由基片的正交长短边缘形成的矩形表面，并且该 些方法可W包括通过在样品涂布器与基片之间实现沿平行于矩形表面的短边缘的方向的 相对平移将多行流体样品分配到矩形表面上。基片可W具有由基片的正交长短边缘形成的 矩形表面，并且该些方法可W包括通过在样品涂布器与基片之间实现W与矩形表面的长短 边缘成一定角度的相对平移将多行流体样品分配到矩形表面上。 平移基片可W包括平移其上安装有基片的平台，同时样品涂布器保持固定。 目标高度可W在9微米与15微米之间。 流体样品可W包括血液。该些方法可W包括；从基片上的流体样品获取血液细胞 的图像；W及评估基片上的血液细胞的分布和基片上的血液细胞的染色均匀性中的至少一 者。该些方法可W包括基于基片上血液细胞的分布和基片上血液细胞的染色均匀性中的至 少一者来调节包括样品涂布器的流体分配系统的操作参数。操作参数可W包括从样品涂布 器分配流体样品的速率和样品涂布器与基片之间的相对平移速度中的至少一者。流体样品 可多个连续行分配到基片上，并且操作参数可W包括相邻流体行之间的间隔和流体行 的长度中的至少一者。操作参数可W包括流体样品的温度和流体分配系统内的相对湿度中 的至少一者。 该些方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基片上分配流体样品的方法，所述方法包括：在基片附近获取样品涂布器图像，其中所述图像包括样品涂布器的第一图像和样品涂布器的第二图像；基于第一图像和第二图像的公共部分之间的距离来确定样品涂布器相对于基片的表面的高度；和使用样品涂布器将流体样品分配到基片上，其中所述分配包括：平移样品涂布器、平移基片、或平移样品涂布器和基片两者，以实现样品涂布器与基片之间的相对平移；和在平移期间保持样品涂布器相对于基片的表面平面的目标高度在2微米内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·扎尼泽，D·扎尼泽，S·康罗伊，M·扎尼泽，
申请(专利权)人：罗氏血液诊断股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US