本发明专利技术涉及一种触控基板及制作方法、触控面板及显示装置，其中触控基板，包括衬底基板，及形成于衬底基板上的触控电极，所述衬底基板上形成有用于防止外界光线照射到所述触控电极的遮光结构。本发明专利技术的有益效果是：遮光结构的设置使得触控电极不会被外界光线照到，则不会有光线从触控电极反射至人眼，实现触摸屏无图案残留。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示领域，尤其涉及一种触控基板及制作方法、触控面板及显示 目.0
技术介绍
目前触摸屏的设计主要有Out Cell (外置式)、0n Cell (外挂式)以及In Cell (内置式)三种类型，不同的touch(触摸)有各自的优缺点，就in cell而言，由于其能够大为降低panel (面板)的厚度，是目前研宄的主要的方向，各大面板商都在积极属于自己的in cell touch技术。图1为现有技术中触控基板结构示意图，触控电极I为金属，入射光线照在触控电极I上会产生光反射(实线箭头为入射光线，虚线光线为反射入人眼的反射光线)，由于人眼视角的限制，反射的光线会进入人眼，这就是用户在使用触摸屏后会在面板上产生图案残留的原因，目前设计最大的难点之一就是如何消除pattern(图案)残留，pattern的存在严重影响了显示质量。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种触控基板及制作方法、触控面板及显示装置，实现触摸屏无图案残留。为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是:一种触控基板，包括衬底基板，及形成于衬底基板上的触控电极，所述衬底基板上形成有用于防止外界光线照射到所述触控电极的遮光结构。进一步的，所述触控电极为向衬底基板方向凸起形成的弧面结构，所述弧面结构的外围形成有所述遮光结构。进一步的，所述遮光结构为一形状与所述触控电极形状相匹配的遮光膜。进一步的，所述衬底基板上依次形成有黑矩阵、绝缘层、所述遮光膜、所述触控电极，所述触控电极的位置与所述黑矩阵的位置相对应。进一步的，所述遮光结构为形成于所述衬底基板上的黑矩阵，在黑矩阵上形成有用于容纳所述触控电极的容纳部。进一步的，所述触控电极在垂直于所述衬底基板方向的厚度不大于所述容纳部的深度。进一步的，所述触控电极和所述黑矩阵之间设有用于增强所述触控电极和所述黑矩阵之间粘接力的连接层。本专利技术还提供一种触控面板，包括上述的触控基板。本专利技术还提供一种触控显示装置，包括上述的触控面板。本专利技术还提供一种触控基板制作方法，包括以下步骤:在衬底基板上形成具有触控电极容纳部的图形，所述容纳部包括遮光材料；在黑矩阵的容纳部形成触控电极的图形；形成平坦层的图形；形成像素层的图形；形成钝化层的图形；形成隔垫物的图形。进一步的，所述在衬底基板上形成具有触控电极容纳部的图形包括:在衬底基板上形成具有触控电极容纳部的黑矩阵的图形。本专利技术的有益效果是:遮光结构的设置使得触控电极不会被外界光线照到，则不会有光线从触控电极反射至人眼，实现触摸屏无图案残留。【附图说明】图1表不现有技术触控基板结构不意图；图2表示本专利技术一实施方式触控基板结构示意图；图3表示本专利技术另一实施方式触控基本结构示意图。【具体实施方式】以下结合附图对本专利技术的特征和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本专利技术，并非以此限定本专利技术的保护范围。如图2所示，本实施例提供一种触控基板，包括衬底基板3，及形成于衬底基板3上的触控电极1，所述衬底基板3上形成有用于防止外界光线照射到所述触控电极I的遮光结构10。遮光结构10的设置使得触控电极I不会被外界光线照到，则不会有光线从触控电极I反射至人眼，实现触摸屏无图案残留。可选的，所述触控电极I为向衬底基板3方向凸起形成的弧面结构，所述弧面结构的外围形成有所述遮光结构10。优选的，所述遮光结构10为一形状与所述触控电极I形状相匹配的遮光膜。触控电极I弧面结构的设置，使得形状与触控电极I形状相匹配的遮光结构10可以完全遮挡触控电极1，使得外界光线无法照射到触控电极1，从而不会有经触控电极I反射的光线进入人眼，而实现触摸屏无图案残留。可选的，所述衬底基板3上依次形成有黑矩阵2、绝缘层5、所述遮光膜、所述触控电极1，所述触控电极I的位置与所述黑矩阵2的位置相对应。如图3所示，可选的，所述遮光结构为形成于所述衬底基板3上的黑矩阵2，在黑矩阵2上形成有用于容纳所述触控电极I的容纳部。利用黑矩阵2本身的遮光特性，实现阻挡外界光线照射到触控电极I上，从而实现触摸屏无图案残留，节省制作工艺步骤。可选的，所述触控电极I在垂直于所述衬底基板3方向的厚度不大于所述容纳部的深度。触控电极I完全容纳于黑矩阵2的容纳部，即触控电极I完全被黑矩阵2遮挡，夕卜界光线被黑矩阵2阻挡不会照到触控电极上，且黑矩阵2是有一定厚度的，黑矩阵2在容纳部外围的区域的存在，更加有效的遮挡照射到触控电极I的光线，实现触摸屏无图案残留。可选的，所述触控电极I和所述黑矩阵2之间设有用于增强所述触控电极I和所述黑矩阵2之间粘接力的连接层4。连接层4的设置增强了黑矩阵2与触控电极I之间的连接稳定性，进一步的稳定黑矩阵2对于触控电极I的遮光效果，实现触摸屏无图案残留。为了简化工艺步骤，所述连接层4可以采用与制作平坦层或钝化层的材料制作。本专利技术还提供一种触控面板，包括上述的触控基板。本专利技术还提供一种触控显示装置，包括上述的触控面板。本专利技术还提供一种触控基板制作方法，包括以下步骤:在衬底基板上形成具有触控电极容纳部的黑矩阵的图形，所述容纳部包括遮光材；在黑矩阵的容纳部形成触控电极的图形；形成平坦层的图形；形成像素层的图形；形成钝化层的图形；形成隔垫物的图形。优选的，可以在衬底基板上形成具有触控电极容纳部的黑矩阵的图形。如此将黑矩阵直接做成容纳触控电极的结构，可以在保证触控电极不会被外界光线照到，同时还可以简化工艺。需要说明的是，在本专利技术的实施例中可以选用黑矩阵材料作为遮光材料。触控电极形成在有遮光材料的容纳部中，使得触控电极不会被外界光线照到，进而不会有光线从触控电极反射至人眼，实现触摸屏无图案残留。以上所述为本专利技术较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本专利技术所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本专利技术保护范围。【主权项】1.一种触控基板，包括衬底基板，及形成于衬底基板上的触控电极，其特征在于，所述衬底基板上形成有用于防止外界光线照射到所述触控电极的遮光结构。2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极为向衬底基板方向凸起形成的弧面结构，所述弧面结构的外围形成有所述遮光结构。3.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述遮光结构为一形状与所述触控电极形状相匹配的遮光膜。4.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述衬底基板上依次形成有黑矩阵、绝缘层、所述遮光膜、所述触控电极，所述触控电极的位置与所述黑矩阵的位置相对应。5.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述遮光结构为形成于所述衬底基板上的黑矩阵，在黑矩阵上形成有用于容纳所述触控电极的容纳部。6.根据权利要求5所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极在垂直于所述衬底基板方向的厚度不大于所述容纳部的深度。7.根据权利要求5所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极和所述黑矩阵之间设有用于增强所述触控电极和所述黑矩阵之间粘接力的连接层。8.—种触控面板，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的触控基板。9.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求8所述的触控面板。10.一种触控基板制作方法，其特征在于，包括以下步骤: 在衬底基板上形成具有触控电极容纳部的图形，所述容纳部包本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种触控基板，包括衬底基板，及形成于衬底基板上的触控电极，其特征在于，所述衬底基板上形成有用于防止外界光线照射到所述触控电极的遮光结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周永山，张伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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