全抛釉瓷砖生产方法技术

本发明专利技术公开了一种全抛釉瓷砖生产方法，将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；将干燥的粉料使用全自动压砖机成型；将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；在1100-1200℃的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；抛釉：采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品，方法简单，成品表面光亮柔和，坚硬耐磨。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种，将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；将干燥的粉料使用全自动压砖机成型；将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；在1100-1200℃的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；抛釉：采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品，方法简单，成品表面光亮柔和，坚硬耐磨。【专利说明】
本专利技术属于瓷砖
，具体涉及一种全抛釉瓷砖的生产方法。
技术介绍
目前，瓷砖已有各式各样的款式，功能也非常齐全，是一种不怕潮湿、酸碱，而且很容易清理的装饰材料。它是方便、完善的装饰材料，在现今的建筑及室内设计中，多用于厨房和卫生间等空间的使用。但是现有技术，瓷砖在不同的环境中使用一段时间后，就会磨损，色泽暗淡，影响美观。
技术实现思路
为了克服现有
存在的上述技术问题，本专利技术的目的在于，提供一种，表面光亮柔和，坚硬耐磨。 本专利技术提供的，包括以下步骤:(I)将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；(2)将干燥的粉料使用全自动压砖机成型；(3)将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；(4)对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；(5)在1100— 1200°C的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；(6)抛釉:采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品。 本专利技术提供的，其有益效果在于，方法简单，生产出的瓷砖表面光亮柔和、平滑不凸出，质地均匀、致密、稳定、安全，经久耐磨，且图案丰富，具有很强的装饰效果。 【具体实施方式】 下面结合一个实施例，对本专利技术提供的进行详细的说明。 实施例 本实施例的，包括以下步骤:(I)将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；(2)将干燥的粉料使用全自动压砖机成型； (3)将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；(4)对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；(5)在1200°C的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；(6)抛釉:采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品。【权利要求】1.一种，其特征在于:包括以下步骤:(I)将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；(2)将干燥的粉料使用全自动压砖机成型；(3)将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；(4)对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；(5)在1100— 1200°C的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；(6)抛釉:采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品。【文档编号】C04B41/89GK104513053SQ201310455762【公开日】2015年4月15日 申请日期:2013年9月30日 优先权日:2013年9月30日 【专利技术者】李继升 申请人:青岛市首胜实业有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全抛釉瓷砖生产方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；（2）将干燥的粉料使用全自动压砖机成型；（3）将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；（4）对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；（5）在1100—1200℃的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；（6）抛釉：采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李继升，
申请(专利权)人：青岛市首胜实业有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37