【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于除去单晶硅片表面有机物的漂洗液,其特征在于,其包括如下体积份数的组分:双氧水:2.3份‑4.5份;氢氧化钾:0.20份‑1.15份;纯水:94.35份‑97.5份,其中所述双氧水的质量百分比浓度为30%,所述氢氧化钾的质量百分比浓度为45%,所述纯水为18M纯水。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:李帅,危晨,赵越,王蕾,谭丽娜,王岩,徐强,赵存凤,
申请(专利权)人:内蒙古中环光伏材料有限公司,
类型:发明
国别省市:内蒙古;15
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