掩膜板清洁系统技术方案

本发明专利技术公开了一种掩膜板清洁系统，包括清洁腔和设置在所述清洁腔内的用于清洁掩膜板的清洁装置，所述掩膜板清洁系统还包括异物采集装置，所述异物采集装置设置在所述清洁腔内，用于采集所述掩膜板表面的异物。本发明专利技术使用清洁装置对掩膜板进行清洁，同时使用异物采集装置对粘附性强的异物进行采集分析，不仅达到了快速且无二次污染的清洁效果，而且达到了对异物来源进行分析的技术效果，有效保证了曝光工艺的精确性。此外，本发明专利技术使用控制器对系统内的各个装置进行控制，能够实现对掩膜板的自动清洁，以及对异物的自动采集，节省了大量的人力成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示设备制造
，尤其涉及一种掩膜板清洁系统。
技术介绍
在显示面板的制造工艺中经常会用到掩膜板。目前，大部分生产厂家在清洁掩膜板时采用人工清洁的方式，例如使用气枪、离子枪、清洁布等工具对掩膜板进行清洁。上述清洁方法不仅耗时耗力，而且难以达到预期的效果。此外，人工清洁容易造成掩膜板划伤，从而导致显示面板在制造过程中产生二次缺陷，严重影响产品品质。目前，现有技术中已有采用风淋方式的掩膜板清洁系统，但是对于粘附性较强的颗粒物，通过风淋方式难以将其去除，并且现有掩膜板清洁系统无法对异物来源进行分析，为后续生产过程造成隐患。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种掩膜板清洁系统，以提高对掩膜板的清洁效率，并实现对异物的采集和对异物来源的分析。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种掩膜板清洁系统，包括清洁腔和设置在所述清洁腔内的用于清洁掩膜板的清洁装置，所述掩膜板清洁系统还包括异物采集装置，所述异物采集装置设置在所述清洁腔内，用于采集所述掩膜板表面的异物。优选地，所述掩膜板包括衬底面和掩膜面，所述异物采集装置包括用于设置在所述衬底面一侧的真空吸附部和用于设置在所述掩膜面一侧的静电吸附部，所述真空吸附部用于吸附位于所述衬底面上的异物，所述静电吸附部用于吸附位于所述掩膜面上的异物。优选地，所述真空吸附部包括用于抽真空的管道和位于所述管道入口外围的第一粘附件，所述第一粘附件能够粘附异物。优选地，所述真空吸附部还包括安装板，所述安装板环绕所述管道的入口设置，所述第一粘附件可拆卸地设置在所述安装板上。优选地，所述真空吸附部还包括第一距离传感器，所述第一距离传感器用于检测所述第一粘附件与所述衬底面之间的距离。优选地，所述真空吸附部还包括设置在所述管道中的过滤层，所述过滤层用于过滤异物。优选地，所述静电吸附部包括静电发生器，所述静电发生器包括吸附表面，且所述静电发生器用于在所述吸附表面上产生能够吸附异物的静电。优选地，所述静电吸附部还包括第二粘附件，所述第二粘附件设置在所述吸附表面上。优选地，所述第二粘附件可拆卸地设置在所述吸附表面上。优选地，所述静电吸附部还包括第二距离传感器，所述第二距离传感器用于检测所述第二粘附件与所述掩膜面之间的距离。优选地，所述掩膜板清洁系统还包括异物分析装置，用于对所述异物采集装置采集的异物进行分析。优选地，所述异物分析装置包括红外光谱仪。优选地，所述清洁腔内设置有至少一条导轨，所述真空吸附部和所述静电吸附部能够沿所述导轨移动。优选地，所述清洁装置包括多个风刀，使得所述衬底面一侧设置有至少一个所述风刀，所述掩膜面一侧设置有至少一个所述风刀。优选地，设置在所述衬底面一侧的所述风刀发出的气体的气压大于设置在所述掩膜面一侧的所述风刀发出的气体的气压。优选地，所述掩膜板清洁系统还包括：控制器；异物检测装置，设置在所述清洁腔内，用于检测所述掩膜板表面的异物的数目、分布、大小信息，并将检测到的所述掩膜板表面的异物的数目、分布、大小信息反馈给所述控制器；其中，所述控制器用于根据所述异物检测装置发出的所述掩膜板表面的异物的数目、分布、大小信息判断所述掩膜板表面洁净度是否满足生产要求，当所述掩膜板表面洁净度不满足生产要求时，所述控制器控制所述清洁装置对所述掩膜板进行清洁。本专利技术使用清洁装置对掩膜板进行清洁，同时使用异物采集装置对粘附性强的异物进行采集分析，不仅达到了快速且无二次污染的清洁效果，而且达到了对异物来源进行分析的技术效果，有效保证了曝光工艺的精确性。此外，本专利技术使用控制器对系统内的各个装置进行控制，能够实现对掩膜板的自动清洁，以及对异物的自动采集，节省了大量的人力成本。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。图1是本专利技术实施例中清洁腔内的立体示意图；图2是本专利技术实施例中清洁腔内的侧视示意图；图3是真空吸附部和静电吸附部的示意图；图4是本专利技术实施例中掩膜板清洁系统的示意图；图5是本专利技术实施例中掩膜板清洁系统的工作流程图；在附图中，1：清洁腔；2：掩膜板；21：衬底面；22：掩膜面；31：真空吸附部；311：管道；312：第一粘附件；313：第一距离传感器；314：过滤层；32：静电吸附部；321：静电发生器；322：第二粘附件；323：第二距离传感器；41：风刀；5：异物检测装置；6：排气装置；7：导轨；8：存储装置；9：机械手。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。本专利技术提供一种掩膜板清洁系统，包括清洁腔和设置在所述清洁腔内的用于清洁掩膜板的清洁装置，所述掩膜板清洁系统还包括异物采集装置，所述异物采集装置也设置在所述清洁腔内，用于采集所述掩膜板表面的异物。本专利技术中使用的清洁装置可以是风淋式清洁装置，本专利技术使用清洁装置对掩膜板进行清洁，同时使用异物采集装置对粘附性强的异物进行采集，达到了快速且无二次污染的清洁效果。并且，本专利技术可以对采集到的异物进行来源分析，从源头进行控制，防止同样的污染反复发生，有效保证了曝光工艺的精确性。图1和图2分别是本专利技术实施例中清洁腔内的立体示意图和侧视示意图。在清洁腔1中，所述清洁装置包括用于对掩膜板2进行风淋的多个风刀41，掩膜板2包括衬底面(Upper Surface)21和掩膜面(Pellicle Surface)22。所述异物采集装置包括用于设置在衬底面21一侧的真空吸附部31和用于设置在掩膜面22一侧的静电吸附部32。其中，真空吸附部31用于吸附位于衬底面21上的异物，静电吸附部32用于吸附位于掩膜面22上的异物。对于一些粘附性较强的异物，仅使用清洁装置难以将其去除。由于掩膜板2的衬底面21硬度较高，通常是玻璃面，因此本专利技术中采用真空吸附的方式对衬底面21上的异物进行采集，真空吸附方式能够产生较强的吸附力，对于去除粘附性较强的异物效果显著。相比之下，掩膜面22通常是薄膜面，并且掩膜面22的清洁程度和完整程度直接影响曝光工艺的效果，因此本专利技术中采用静电吸附的方式对掩膜面22上的异物进行采集，不仅能够将粘附性较强的微小异物去除，而且不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板清洁系统，包括清洁腔和设置在所述清洁腔内的用于清洁掩膜板的清洁装置，其特征在于，所述掩膜板清洁系统还包括异物采集装置，所述异物采集装置设置在所述清洁腔内，用于采集所述掩膜板表面的异物。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板清洁系统，包括清洁腔和设置在所述清洁腔内的
用于清洁掩膜板的清洁装置，其特征在于，所述掩膜板清洁系统还包
括异物采集装置，所述异物采集装置设置在所述清洁腔内，用于采集
所述掩膜板表面的异物。
2.根据权利要求1所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述
掩膜板包括衬底面和掩膜面，所述异物采集装置包括用于设置在所述
衬底面一侧的真空吸附部和用于设置在所述掩膜面一侧的静电吸附
部，所述真空吸附部用于吸附位于所述衬底面上的异物，所述静电吸
附部用于吸附位于所述掩膜面上的异物。
3.根据权利要求2所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述
真空吸附部包括用于抽真空的管道和位于所述管道入口外围的第一
粘附件，所述第一粘附件能够粘附异物。
4.根据权利要求3所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述
真空吸附部还包括安装板，所述安装板环绕所述管道的入口设置，所
述第一粘附件可拆卸地设置在所述安装板上。
5.根据权利要求4所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述
真空吸附部还包括第一距离传感器，所述第一距离传感器用于检测所
述第一粘附件与所述衬底面之间的距离。
6.根据权利要求5所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述
真空吸附部还包括设置在所述管道中的过滤层，所述过滤层用于过滤
异物。
7.根据权利要求2所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述

\t静电吸附部包括静电发生器，所述静电发生器包括吸附表面，且所述
静电发生器用于在所述吸附表面上产生能够吸附异物的静电。
8.根据权利要求7所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述
静电吸附部还包括第二粘附件，所述第二粘附件设置在所述吸附表面
上。
9.根据权利要求8所述的掩膜板清洁系统，其特征在于，所述
...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈曦，罗丽平，刘明悬，郭总杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11