【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电子设备应用领域，具体涉及一种基于抛光机电机的速度控制系统的速度控制方法。
技术介绍
随着微电子技术和信息技术的发展，各种光电子元件得到快速的发展并趋于高性能化。对光电子元件的关键零件—基片的材料的表面光洁度和平整度等加工精度提出了越来越高的要求，有的甚至要求达到纳米级或更高的加工精度和无损伤的表面加工质量面。抛光加工作为晶片超平滑表面加工最有效的技术手段之一，受到了超精密加工研究领域和光电子材料生产加工企业的广泛关注与重视。目前我国超精密加工研究与应用水平还落后于工业技术发达国家，我国虽有众多光电子材料晶片生产企业，但多数工厂只能完成研磨加工及少量产品的单面抛光加工，尚存在工件加工表面平整度差、加工效率低等诸多间题，这一现象严重制约着生产企业的发展。国际上只有美国、日本、英国等少数工业发达国家能够生产双面抛光机产品，且价格昂贵。因此开展双面控制系统的研究，研制出具有自主产权的纳米级超精密双面抛光机，对提高我国光电子元件产品的加工水平
【技术保护点】
一种基于抛光机电机的速度控制系统的速度控制方法，所述抛光机电机的速度控制系统包括控制器、若干个电机、与每个电机配合的速度传感器，所述速度传感器检测相应电机的运行速度，传输至控制器，控制器根据收到的速度信息进行处理，然后对各个电机进行速度调节，其特征在于：所述速度控制方法包括如下步骤：步骤1、获取当前电机的速度值，并判断当前的速度值是否与预先设定的值相等，如果相等，保持当前电机速度值运行并输出当前电机速度值，否则，执行步骤2；步骤2、计算速度差值，并根据速度差值计算速度的步进值，其中，速度差值Δv采用如下公式计算：Δv＝vc‑vt，其中，vc为预先设定的速度值，vt为当前速度...
【技术特征摘要】
1.一种基于抛光机电机的速度控制系统的速度控制方法，所述抛光机电机的
速度控制系统包括控制器、若干个电机、与每个电机配合的速度传感器，所述速
度传感器检测相应电机的运行速度，传输至控制器，控制器根据收到的速度信息
进行处理，然后对各个电机进行速度调节，其特征在于：所述速度控制方法包括
如下步骤：
步骤1、获取当前电机的速度值，并判断当前的速度值是否与预先设定的值
相等，如果相等，保持当前电机速度值运行并输出当前电机速度值，否则，执行
步骤2；
步骤2、计算速度差值，并根据速度差值计算速度的步进值，其中，
速度差值Δv采用如下公式计算：
Δv＝vc-vt，其中，vc为预先设定的速度值，vt为当前速度值；
速度的步进值vs采用如下公式计算：
其中，Δv为速度差值，Δv为发数时间间隔，tv为变速时间；
步骤3、比较当前速度值与预先设定的速度值，如果当前速度值大于预先设
定的速度值，电机运行在减速过程，依次执行步骤4、步骤6，如果当前速度值
小于预先设定的速度值，电机运行在加速过程，依次执行步骤5、步骤6；
步骤4、根据如下公式计算减速过程中电机实时输出的...
【专利技术属性】
技术研发人员：高珺，胡国良，朱霞，
申请(专利权)人：苏州合欣美电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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