一种金锡互溶与选择性电镀相结合的镀金层厚度控制工艺制造技术

技术编号:11204711 阅读:252 留言:0更新日期:2015-03-26 12:51
本发明专利技术涉及一种金锡互溶与选择性电镀相结合的镀金层厚度控制工艺,目的在于使微组装工艺中用到的基板材料的镀金层厚度能够同时满足大面积烧焊、金丝键合及元器件锡焊等多道工序焊接工艺要求,确保产品的可靠性。本发明专利技术中,通过基板材料正反面设置不同的参数分别电镀的方法来实现正反面镀层厚度的控制,在装配器件的一面再通过搪锡除锡的方式实现元器件锡焊部位镀金层的去除或减薄,以满足基板正面镀金层键合和元器件锡焊的工艺要求以及基板背面大面积烧焊工艺要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微电子组装工艺领域,应用于微电子组装前的基板生产及后期处理,是保证微电子组装产品长期可靠性的重要工艺方法。
技术介绍
微电子组装技术是实现电子产品,特别是微波模块产品高集成度、高性能的关键技术。微电子组装中的工序较多,针对不同的材料及器件的焊接要求,以及不同工序的特定方法,对基板的镀金层厚度提出了不同的要求,例如为保证基板正面金丝键合强度,需要基板键合部位的镀金层厚度大于3μm,为保证接插件及其他锡料贴装器件的焊接质量,镀金层厚度应在0.5μm左右,对于基板背面需要与金属载体大面积锡焊的情况,基板背面的镀金层厚度同样应控制在0.5μm左右,以避免形成金属间化合物,影响焊接的长期可靠性。通常的控制基板不同部位镀金层厚度的处理方法是选择性电镀,及对于有多处镀金层厚度要求不同的情况时,采用选择性电镀的处理办法,有几种镀层要求,就分几步电镀,电镀过程中对不需要电镀的部位进行保护,因而电镀工序复杂,成本高、周期长。而本方法采用局部搪锡并除锡的方法减薄或消除镀金层,仅仅正反面采用的分布电镀的方法,在同样能够满足工艺参数要求的情况下,对于缩减生产周期本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金锡互溶与选择性电镀相结合的镀金层厚度控制工艺,其特征为:通过对微组装基板正反两面分步电镀,局部搪锡并除锡的处理方法,实现基板各部位镀金层厚度的控制,具体步骤为:①、基板正反面镀金,厚度约0.5μm;②、基板背面覆盖抗电镀保护层,基板背面为需进行大面积烧焊的一面;③、基板正面进行金层补镀,厚度≥3μm,基板正面为需进行键合和器件焊接的一面;④、基板正面需进行器件焊接的部位进行搪锡处理,待锡料完全熔化并覆盖焊接区域后,持续加热2秒后移走加热烙铁;⑤、通过吸锡绳和加热烙铁去除焊盘上的锡料,从而去约80%的镀金层;⑥、基板正面锡焊部位再搪锡,为后面进行器件焊接做准备。

【技术特征摘要】
1.一种金锡互溶与选择性电镀相结合的镀金层厚度控制工艺,其特征为:通过对微组装基板正反两面分步电镀,局部搪锡并除锡的处理方法,实现基板各部位镀金层厚度的控制,具体步骤为:①、基板正反面镀金,厚度约0.5μm;②、基板背面覆盖抗电镀保护层,基板背面为需进行大面积烧焊的一面;③、基板正面进行金层...

【专利技术属性】
技术研发人员:张海兵朱玮涛
申请(专利权)人:中国船舶重工集团公司第七二四研究所
类型:发明
国别省市:江苏;32

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