用于清洗修整器的清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于清洗修整器的清洗装置，所述修整器包括摆臂和设在所述摆臂上的修整头，所述清洗装置包括：基座，所述基座内具有清洗液通道，所述清洗液通道具有进液口；环形的防溅射挡板，所述防溅射挡板设在所述基座上，所述防溅射挡板与所述基座之间形成容纳腔，所述防溅射挡板上设有排液口，其中所述防溅射挡板的形状与所述修整器的形状适配；和喷嘴，所述喷嘴设在所述基座上且位于所述容纳腔内，所述喷嘴与所述清洗液通道连通。根据本发明专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置可以防止清洗液溅射到清洗装置外。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于清洗修整器的清洗装置。
技术介绍
现有的修整器在使用一段时间后，需要用清洗装置进行清洗。在利用现有的清洗装置清洗修整器时，喷射到修整器上的清洗液会四处溅射，溅射到抛光盘上会造成二次污染。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种用于清洗修整器的清洗装置，所述清洗装置可以防止清洗液溅射到清洗装置外，避免造成二次污染。修整器包括摆臂和设在所述摆臂上的修整头，根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置包括：基座，所述基座内具有清洗液通道，所述清洗液通道具有进液口；环形的防溅射挡板，所述防溅射挡板设在所述基座上，所述防溅射挡板与所述基座之间形成容纳腔，所述防溅射挡板上设有排液口，其中所述防溅射挡板的形状与所述修整器的形状适配；和喷嘴，所述喷嘴设在所述基座上且位于所述容纳腔内，所述喷嘴与所述清洗液通道连通。根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置可以防止清洗液溅射到清洗装置外。另外，根据本专利技术上述实施例的用于清洗修整器的清洗装置还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的一个实施例，所述基座包括本体和设在所述本体的下表面上的凸台，其中所述本体内具有所述清洗液通道，所述凸台内具有进液通道，所述进液通道的下端敞开且上端与所述清洗液通道的进液口相连，其中所述本体的上表面上设有与所述清洗液通道连通的安装孔，所述喷嘴安装在所述安装孔内。根据本专利技术的一个实施例，所述清洗液通道沿左右方向延伸，所述清洗液通道的左端和右端中的至少一个敞开，其中所述清洗装置进一步包括堵头，所述堵头封堵所述清洗液通道的左端和右端中的所述至少一个。根据本专利技术的一个实施例，所述清洗液通道沿左右方向延伸，所述喷嘴为多个，多个所述喷嘴沿左右方向等间距地设置。根据本专利技术的一个实施例，所述喷嘴为扇形喷嘴。根据本专利技术的一个实施例，所述排液口为多个，多个所述排液口沿所述防溅射挡板的周向间隔开地设置，每个所述排液口的下端敞开。根据本专利技术的一个实施例，所述防溅射挡板包括与所述修整头相对的左挡板和与所述摆臂相对的右挡板，所述左挡板的第一右侧沿与所述右挡板的第一左侧沿相连，所述左挡板的第二右侧沿与所述右挡板的第二左侧沿相连，其中所述左挡板的上表面位于所述右挡板的上表面的下方以便形成用于容纳所述修整头的凹部，所述左挡板的形状与所述修整头的形状适配，所述左挡板的轮廓大于所述修整头的轮廓，所述防溅射挡板的形状与所述摆臂的形状适配，所述防溅射挡板的轮廓大于所述摆臂的与所述防溅射挡板相对的部分的轮廓。根据本专利技术的一个实施例，所述左挡板位于所述修整头的下方，所述左挡板与所述修整头在上下方向上的间距小于等于20毫米，所述右挡板位于所述摆臂的下方，所述右挡板与所述摆臂在上下方向上的间距小于等于20毫米。根据本专利技术的一个实施例，所述修整头的边沿位于所述左挡板的内沿的内侧，所述修整头的边沿与所述左挡板的内沿的间距小于等于5毫米，所述摆臂的边沿位于所述防溅射挡板的内沿的内侧，所述摆臂的边沿与所述防溅射挡板的内沿的间距小于等于5毫米。根据本专利技术的一个实施例，所述左挡板包括半圆形板、第一前板和第一后板，所述第一前板的左侧沿与所述半圆形板的前端相连，所述第一后板的左侧沿与所述半圆形板的后端相连，所述右挡板包括第二前板、第二后板和右侧板，所述第二前板的左侧沿与所述第一前板的右侧沿相连且右侧沿与所述右侧板的前沿相连，所述第二后板的左侧沿与所述第一后板的右侧沿相连且右侧沿与所述右侧板的后沿相连，所述右侧板垂直于所述第二前板和所述第二后板。附图说明图1是根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置的防溅射挡板的结构示意图；图2是根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置的结构示意图；图3是根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置的剖视图；图4是根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置的局部剖视图；图5是根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置的使用状态图；图6是根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置的使用状态图；图7是根据本专利技术实施例的用于清洗修整器的清洗装置的使用状态图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。下面参考附图描述根据本专利技术实施例的用于清洗修整器200的清洗装置100。其中，修整器200包括摆臂201和设在摆臂201上的修整头202。如图1-图7所示，根据本专利技术实施例的用于清洗修整器200的清洗装置100包括基座103、环形的防溅射挡板102和喷嘴101。基座103内具有清洗液通道1033，清洗液通道1033具有进液口1031。防溅射挡板102设在基座103上，防溅射挡板102与基座103之间形成容纳腔1021，防溅射挡板102上设有排液口1022。其中，防溅射挡板102的形状与修整器200的形状适配。喷嘴101设在基座103上，且喷嘴101位于容纳腔1021内，喷嘴101与清洗液通道1033连通。如图1-图7所示，清洗液由清洗液通道1033的进液口1031进入到清洗液通道1033内，进而喷嘴101将清洗液喷射到摆臂201和修整头202上。从摆臂201和修整头202上溅射回来的清洗液被容纳腔1021的壁(即防溅射挡板102的内表面)挡住，不会溅射到防溅射挡板102之外。清洗液沿着容纳腔1021的壁向下流动，并从排液口1022排出。根据本专利技术实施例的用于清洗修整器200的清洗装置100通过在基座103上设置形状与修整器200的形状适配的防溅射挡板102，从而在对摆臂201和修整头202清洗时可以防止清洗液溅射到清洗装置100外。由此可以避免清洗液溅射到抛光盘300上，避免造成二次污染。如图1-图7所示，根据本专利技术的一些实施例的清洗装置100包括基座103、环形的防溅射挡板102和喷嘴101。在本专利技术的一个实施例中，如图2和图3所示，基座103包括本体1034和设在本体1034的下表面上的凸台1035。其中，本体1034内具有清洗液通道1033，凸台1035内具有进液通道1036，进液通道1036的下端敞开且进液通道1036的上端与清洗液通道1033的进液口1031相连。由此可以使基座103的结构更加合理。如图3所示，在本专利技术的一个示例中，清洗液通道1033沿左右方向延伸，清洗液通道1033的左端和右端中的至少一个敞开。由此可以降低清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清洗修整器的清洗装置，所述修整器包括摆臂和设在所述摆臂上的修整头，其特征在于，所述清洗装置包括：基座，所述基座内具有清洗液通道，所述清洗液通道具有进液口；环形的防溅射挡板，所述防溅射挡板设在所述基座上，所述防溅射挡板与所述基座之间形成容纳腔，所述防溅射挡板上设有排液口，其中所述防溅射挡板的形状与所述修整器的形状适配；和喷嘴，所述喷嘴设在所述基座上且位于所述容纳腔内，所述喷嘴与所述清洗液通道连通。

【技术特征摘要】
1.一种用于清洗修整器的清洗装置，所述修整器包括摆臂和设在所述摆臂上的修整头，
其特征在于，所述清洗装置包括：
基座，所述基座内具有清洗液通道，所述清洗液通道具有进液口；
环形的防溅射挡板，所述防溅射挡板设在所述基座上，所述防溅射挡板与所述基座之
间形成容纳腔，所述防溅射挡板上设有排液口，其中所述防溅射挡板的形状与所述修整器
的形状适配；和
喷嘴，所述喷嘴设在所述基座上且位于所述容纳腔内，所述喷嘴与所述清洗液通道连
通。
2.根据权利要求1所述的用于清洗修整器的清洗装置，其特征在于，所述基座包括本
体和设在所述本体的下表面上的凸台，其中所述本体内具有所述清洗液通道，所述凸台内
具有进液通道，所述进液通道的下端敞开且上端与所述清洗液通道的进液口相连，其中所
述本体的上表面上设有与所述清洗液通道连通的安装孔，所述喷嘴安装在所述安装孔内。
3.根据权利要求1所述的用于清洗修整器的清洗装置，其特征在于，所述清洗液通道
沿左右方向延伸，所述清洗液通道的左端和右端中的至少一个敞开，其中所述清洗装置进
一步包括堵头，所述堵头封堵所述清洗液通道的左端和右端中的所述至少一个。
4.根据权利要求1所述的用于清洗修整器的清洗装置，其特征在于，所述清洗液通道
沿左右方向延伸，所述喷嘴为多个，多个所述喷嘴沿左右方向等间距地设置。
5.根据权利要求1所述的用于清洗修整器的清洗装置，其特征在于，所述喷嘴为扇形
喷嘴。
6.根据权利要求1所述的用于清洗修整器的清洗装置，其特征在于，所述排液口为多
个，多个所述排液口沿所述防溅射挡板的周向间隔开地设置，每个所述排液口的下端敞开。
7.根据权利要求1所述的用于清洗修整器的清洗装置，其特征在于，所述防溅射挡板
包括与...

【专利技术属性】
技术研发人员：路新春，许振杰，沈攀，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：北京;11