显示屏及其制作方法、触控显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示屏及其制作方法、触控显示装置，涉及显示技术领域。其中显示屏包括显示屏主体，显示屏主体包括上基板和下基板，及位于上基板或下基板上的黑矩阵，显示屏还包括：设置于显示屏主体外侧的遮光元件，遮光元件在显示屏主体上的垂直投影与黑矩阵在显示屏主体上的垂直投影部分重叠，以遮挡漏光。由于遮光元件是在显示屏主体制作完成后设置于显示屏主体外侧的，因此相当于给漏光检验不合格的显示屏提供了一种补救措施，使得经设置遮光元件后显示屏不存在漏光或漏光在能够承受的范围之内，提高了产品的良率，避免了成本的浪费。

【技术实现步骤摘要】
显示屏及其制作方法、触控显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示屏及其制作方法、触控显示装置。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，触控显示装置作为一种人机交互装置，越来越多的用在各种电子设备上，用户在使用触控显示装置时，只要用手指触碰触控显示装置上的图符或文字，就能实现对主机的操作，可见触控显示装置的广泛应用使人机交互变得极为方便。 触控显示装置一般包括叠加在一起的显示屏与触摸屏，在显示屏在制作完成后需要对显示屏进行测试，以检验显示屏是否漏光及漏光是否在可承受范围之内。造成显示屏漏光的原因有很多，其中包括显示屏的数据线与公共电极之间存在电势差，这会引起数据线附近的电场紊乱，进而造成数据线附近对应区域内的液晶分子排布紊乱，引起数据线侧边漏光。由于漏光测试是在显示屏已经制作完成后进行的，因此如果显示屏被检验出漏光不合格，将只能做报废处理，造成产品良率下降，成本浪费。
技术实现思路
本专利技术提供了一种显示及其制作方法、触控显示装置，以解决显示屏由于漏光而报废所引起的产品良率、成本浪费的问题。 为达到上述目的，本专利技术采用如下技术方案: 本专利技术的第一方面提供了一种显示屏，包括显示屏主体，所述显示屏主体包括相对设置的上基板和下基板，及位于所述上基板或所述下基板上的黑矩阵，其特征在于，所述显示屏还包括:设置于所述显示屏主体外侧的遮光元件，所述遮光元件在所述显示屏主体上的垂直投影与所述黑矩阵在所述显示屏主体上的垂直投影部分重叠，以遮挡漏光。 优选的，所述显示屏主体还包括:位于所述上基板或所述下基板上的多条数据线；所述遮光元件为与所述多条数据线一一对应且平行设置的多条遮光条，所述多条遮光条在所述显示屏主体上的垂直投影与所述黑矩阵中用于遮挡所述多条数据线的部分在所述显示屏主体上的垂直投影相互错开且部分重叠，以遮挡数据线侧边处的漏光。 优选的，所述显示屏主体还包括:与所述多条数据线形成于同一基板上的取向层，所述多条遮光条相对于所述黑矩阵中用于遮挡所述多条数据线的部分沿所述取向层的摩擦方向偏移，以遮挡所述数据线靠近所述摩擦方向一侧处的漏光。 优选的，所述遮光条的宽度范围为5微米?10微米。 优选的，所述遮光条的形成材料为不透光的树脂材料或者金属材料。 本专利技术的第二方面提供了一种显示屏的制作方法，用于制作以上所述的显示屏，所述制作方法包括:制作所述显示屏的显示屏主体，所述显示屏主体包括相对设置的上基板和下基板，及位于所述上基板或所述下基板上的黑矩阵；在所述显示屏主体的外侧形成遮光元件，所述遮光元件在所述显示屏主体上的垂直投影与所述黑矩阵在所述显示屏主体上的垂直投影部分重叠，以遮挡漏光。 优选的，形成所述遮光元件包括:在所述显示屏主体上覆盖遮光材料；采用构图工艺去除部分遮光材料，保留待形成遮光元件区域上的遮光材料，形成包括所述遮光元件的图形。 本专利技术的第三方面提供了一种触控显示装置，包括:以上所述的显示屏，所述显示屏包括显示屏主体及设置于所述显示屏主体外侧的遮光元件；设置于所述显示屏主体外侧的触摸屏。 优选的，所述遮光元件位于所述触摸屏内部。 优选的，所述触摸屏包括触控功能模块，所述遮光元件位于所述触控功能模块面向所述显示屏主体的一侧或者位于所述触控功能模块背向所述显示屏主体的一侧。 优选的，所述触控功能模块包括:电极层，所述电极层包括:多条横向的第一电极线和多条纵向的第二电极线，所述第二电极线在与所述第一电极线的相交处断开；覆盖在所述电极层上的绝缘层，所述绝缘层上对应所述第二电极线断开处的端部位置具有过孔；设置于所述绝缘层上的多个跨桥结构，所述跨桥结构通过所述过孔电连接所述第二电极线的断开处。 优选的，所述触摸屏与所述显示屏主体的相接处共用同一块基板。 本专利技术所提供的显示屏及其制作方法、触控显示装置中，在显示屏主体外侧增设了遮光元件，该遮光元件在显示屏主体上的垂直投影与黑矩阵在显示屏主体上的垂直投影部分重叠，从而使得遮光元件能够遮挡漏光，由于遮光元件是在显示屏主体制作完成后设置于显示屏主体外侧的，因此相当于给漏光检验不合格的显示屏提供了一种补救措施，使得经设置遮光元件后显示屏不存在漏光或漏光在能够承受的范围之内，提高了产品的良率，避免了成本的浪费。 【附图说明】 为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。 图1为本专利技术实施例所提供的显示屏的结构图； 图2为本专利技术实施例所提供的一种触控显示装置的结构图； 图3为本专利技术实施例所提供的另一种触控显示装置的结构图； 附图标记说明: 101-下基板；102_像素电极；103_数据线；104_第一绝缘层；105_公共电极；106-平坦化层；107-第一取向层；108-液晶层；109-上基板；110_黑矩阵；111-第二绝缘层；112_第二取向层； 2-遮光元件； 3-第一封装基板； 4-第一光学胶； 51-触控功能模块；511-第二电极线；512_跨桥结构；513_第三绝缘层；52_第四绝缘层；53_第二光学胶；54_第二封装基板。 【具体实施方式】 为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本专利技术保护的范围。 本实施例提供了一种显示屏，该显示屏包括显示屏主体，显示屏主体包括相对设置的上基板和下基板，及位于上基板或下基板上的黑矩阵；该显示屏还包括:设置于显示屏主体外侧的遮光元件，该遮光元件在显示屏主体上的垂直投影与黑矩阵在显示屏主体上的垂直投影部分重叠，以遮挡漏光。 与现有技术相比，本实施例在显示屏主体外侧增设了遮光元件，通过使该遮光元件在显示屏主体上的垂直投影与黑矩阵在显示屏主体上的垂直投影部分重叠，即使遮光元件与黑矩阵有一定程度的错开，使得遮光元件能够遮挡显示屏的漏光，从而在显示屏主体制作完成后被测试漏光问题不合格时，能够利用本实施例所提供的技术方案对显示屏的漏光问题进行补救，使得测试不合格的显示屏不必报废处理，提高了产品良率，减少了生产成本的浪费。 如图1所示，为上述显示屏的一种具体结构图，其中黑矩阵110可位于上基板109上，遮光元件2可位于上基板109的外侧。为了保护遮光元件2，优选的可在遮光元件2上覆盖第一封装基板3，利用第一光学胶将第一封装基板3粘接于显示屏主体上。 进一步的，如图1所示，显示屏的显示屏主体还包括:位于下基板101上(在本专利技术的其它实施例中也可位于上基板109上)的多条数据线103，如图1中的虚线圈所示，造成显示屏漏光的主要原因之一为数据线103侧边漏光，数据线103侧边产生漏光的原因为:公共电极105与数据线103之间存在电势差，引起数据线103侧边的电场紊乱，进而造成数据线103本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示屏，包括显示屏主体，所述显示屏主体包括相对设置的上基板和下基板，及位于所述上基板或所述下基板上的黑矩阵，其特征在于，所述显示屏还包括：设置于所述显示屏主体外侧的遮光元件，所述遮光元件在所述显示屏主体上的垂直投影与所述黑矩阵在所述显示屏主体上的垂直投影部分重叠，以遮挡漏光。

【技术特征摘要】
1.一种显示屏，包括显示屏主体，所述显示屏主体包括相对设置的上基板和下基板，及位于所述上基板或所述下基板上的黑矩阵，其特征在于，所述显示屏还包括:设置于所述显示屏主体外侧的遮光元件，所述遮光元件在所述显示屏主体上的垂直投影与所述黑矩阵在所述显示屏主体上的垂直投影部分重叠，以遮挡漏光。2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏主体还包括:位于所述上基板或所述下基板上的多条数据线； 所述遮光元件为与所述多条数据线一一对应且平行设置的多条遮光条，所述多条遮光条在所述显示屏主体上的垂直投影与所述黑矩阵中用于遮挡所述多条数据线的部分在所述显示屏主体上的垂直投影相互错开且部分重叠，以遮挡数据线侧边处的漏光。3.根据权利要求2所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏主体还包括:与所述多条数据线形成于同一基板上的取向层，所述多条遮光条相对于所述黑矩阵中用于遮挡所述多条数据线的部分沿所述取向层的摩擦方向偏移，以遮挡所述数据线靠近所述摩擦方向一侧处的漏光。4.根据权利要求2所述的显示屏，其特征在于，所述遮光条的宽度范围为5微米?10微米。5.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述遮光元件的形成材料为不透光的树脂材料或者金属材料。6.一种显示屏的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1?5任一项所述的显示屏，所述制作方法包括: 制作所述显示屏的显示屏主体，所述显示屏主体包括相对设置的上基板和下基板，及位于所述上基板或所述下基板上的黑矩阵； 在所述显...

【专利技术属性】
技术研发人员：代伍坤，彭志龙，刘还平，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11