【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于用于研究微观机理的小型设备
,具体涉及一种扫描激光显微镜。
技术介绍
随着微加工技术的发展,电子元器件的尺寸已经到了微米甚至是纳米量级。由于器件尺度的减小,无论是基于半导体材料,还是基于超导材料的电子器件,其内部存在的热现象都对器件工作状态有着重要的影响。某些特殊的电子器件,由其材料决定,必须工作在极端条件下(如基于超导材料的超导电子器件需工作在低温环境),这时热效应的影响就更加显著。在利用这些器件宏观效应(如基于BSCCO高温超导材料的太赫兹辐射源)的同时,希望能更深入地研究这些器件工作的微观机制,其内部的自热现象,电磁场的分布等影响器件表现的各种因素。然而这些电子器件的尺寸和工作温度条件,给研究其内部的微观机制提出了苛刻的要求。现有的研究设备,还不能完全满足使用需求。
技术实现思路
专利技术目的:针对现有技术中存在的不足,本专利技术的目的在于提供一种扫描激光显微镜,使其能够用于研究小尺寸、对工作温度有一定要求的器件内部发生的热学和电学相关的物理现象,满足使用需求。技术方案:为了实现上述专利技术目 ...
【技术保护点】
一种扫描激光显微镜,其特征在于:包括恒温器(1)、三维位移平台(2)、光学系统(3)和电学系统(4);在所述的恒温器(1)内设有恒温源(6),所述的恒温源(6)与氮流或氦流(8)连通;在所述的恒温器(1)内底座(7)上设三维位移平台(2),光学系统(3)的末端设在三维位移平台(2)上,样品安装在恒温源(6)上;电学系统(4)通过设在恒温器(1)上的电学接口(9)为恒温器(1)内提供工作所需的电学条件。
【技术特征摘要】
1.一种扫描激光显微镜,其特征在于:包括恒温器(1)、三维位移平台(2)、光学系统(3)和电学系统(4);在所述的恒温器(1)内设有恒温源(6),所述的恒温源(6)与氮流或氦流(8)连通;在所述的恒温器(1)内底座(7)上设三维位移平台(2),光学系统(3)的末端设在三维位移平台(2)上,样品安装在恒温源(6)上;电学系统(4)通过设在恒温器(1)上的电学接口(9)为恒温器(1)内提供工作所需的电学条件。
2.根据权利要求1所述的扫描激光显微镜,其特征在于:在所述的恒温器(1)上设有用于对样品表面进行加热的光学系统(3)的光学接口(10)。
3.根据权利要求1所述的扫描激光显微镜,其特征在于:在所述的恒温器(1)上设有用于辐射的辐射窗口(5)。<...
【专利技术属性】
技术研发人员:王华兵,袁洁,周宪靖,吴培亨,
申请(专利权)人:南京大学,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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