一种激光共聚焦显微系统技术方案

本发明专利技术提供一种激光共聚焦显微系统，包括显微成像部分和激光引入部分，显微成像部分具有第一光轴，激光引入部分具有第二光轴。第一光轴与第二光轴平行，于第二光轴上设置有第一反射镜，于第一光轴上设置有合束镜，第二光轴通过第一反射镜和合束镜与第一光轴汇合。显微成像部分第一光轴与第二光轴平行设置后，与现有技术的同轴设置相比，可以使激光共聚焦显微系统的光轴长度大大减短，并且可以使该系统的结构更加紧凑和稳定，从而提高微细加工的精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种激光共聚焦显微系统。
技术介绍
激光共聚焦显微系统是激光微细加工设备用的显微观察和对准系统。此系 统还可以将激光整形并聚焦到指示区域。现有技术激光共聚焦显微系统采用激 光引入光轴与观察显微物镜同轴光路，其总系统的光路长度较长，大于观察显 微系统长度，重心较高，导致外界与运动部件的微量震动非常容易使引入的激 光光轴产生偏差，而影响了微细加工的精度。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是，提供一种激光共聚焦显微系统，能够提高激 光微细加工的精度。为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种激光共聚焦显微系统，包括显微 成像部分和激光引入部分，所述显微成像部分具有第一光轴，所述激光引入部 分具有第二光轴。所述第一光轴与第二光轴平行，于所述第二光轴上设置有第 一反射镜，于所述第一光轴上设置有合束镜，所述第二光轴通过所述第一反射 镜和所述合束镜与所述第 一光轴汇合。显微成像部分第 一光轴与第二光轴平行设置后，与现有技术的同轴设置相 比，可以使激光共聚焦显微系统的光轴长度大大减短，并且可以使该系统的结 构更加紧凑和稳定，从而提高微细加工的精度。附图说明图1是本专利技术实施例提供的激光共聚焦显微系统的主视示意图； 图2是本专利技术实施例提供的显微镜成像部分的側视示意图； 图3是本专利技术实施例提供的激光引入部分的侧视示意图。具体实施例方式为了使本专利技术要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以 下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述 的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。请参阅图1和图2，本专利技术实施例提供一种激光共聚焦显微系统，包括显 微成像部分1和激光引入部分2，显微成像部分1具有第一光轴10，激光引入 部分2具有第二光轴20,第一光轴10与第二光轴20平行。于第二光轴20上 设置有第一反射镜21，于第一光轴IO上设置有合束镜12，第二光轴20通过第 一反射镜21和合束镜12与第一光轴10汇合。具体地，上述显微成像部分l包括依次同光轴设置的显微物镜11、合束镜 12、第一结像镜13、第二反射镜14和成像面15。,力現察显微物面3上的携带 物面信息的光线进入显微物镜ll后，穿过合束镜12,被第一结像镜13聚焦， 经第二反射镜14转折反射至成像面15，用户即可从成像面15观察显微物面。请结合图l和图3，激光引入部分2包括耦合镜22、可变狭缝23、第一反 射镜21和第二结像镜24,其中，耦合镜22、可变狭缝23和第一反射镜21依 次同光轴连接，经第一反射镜21改变光路角度后，第一反射镜21、第二结像 镜24和合束镜12也依次同光轴设置。引入的激光穿过耦合镜22后，经过可变 狭缝23以调节激光照射宽度，并被第一反射镜21转折反射，反射光线经第二 结像镜24聚焦后，其第二光轴20在合束镜12处与第一光轴IO汇合，从而激 光引入部分2的光线经合束镜12反射后，进入显微物镜ll,到达显微物面3。此外，于显微成像部分1中的第一结像镜13与合束镜12之间设置同光轴 的第三反射镜16，用于引入反射照明部分4。该反射照明部分4包括依次设置的反射光源41、第一透镜42、第四反射镜43和第二透镜44。反射光源41穿 过第一透镜42聚焦，经第四反射镜43反射后，被第二透镜44聚焦，聚焦后的 光线照射于第三反射镜16上。这样，反射照明部分4将反射光源41引入显微 成像部分l，再通过显樣i物镜11形成同轴反射照明，用以对显《效物面3进行照 明。于激光引入部分2的耦合镜22处还引入了光斑指示部分5,该光斑指示部 分5包括依次同光轴设置的指示光源51、第三透镜52、第一球面镜53和第二 球面镜54。指示光源51发出的光线经过第三透镜52、第一球面镜53和第二球 面镜54后聚焦，并被耦合镜22反射，使光斑指示部分5的光轴与激光引入部 分2的光轴重合。这样，激光引入部分2的光线除了包含了激光还有光斑指示 光，从而混合光线能够在显微物面3上利用光斑指示光准确定位激光作用位置。显微物面3上相对显微物镜11的另一侧还包括透射照明部分6，该透射照 明部分6包括依次设置的透射光源61、非球面透镜62、第一球面镜63、第二 球面镜64、第五反射镜65和聚焦镜66。透射光源61照射于非球面透镜62后， 穿过第一球面镜63、第二球面镜64被聚焦并照射于第五反射镜65，经第五反 射镜65反射后光线照射于聚焦镜66聚焦，最后均匀地照明显微物面3，给显 微系统提供透射照明。上述反射光源41、指示光源51、透射光源61均可采用波长较短的紫外光， 以获得更高分辨率的显微图像，从而进一步提高激光微细加工的精度。显微成像部分1第一光轴10与第二光轴20平行设置后，与现有技术的同 轴设置相比，可以使激光共聚焦显微系统的光轴长度大大减短，并且可以使该 系统的结构更加紧凑和稳定，从而提高微细加工的精度。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本发 明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本专利技术 的保护范围之内。权利要求1、一种激光共聚焦显微系统，包括显微成像部分和激光引入部分，所述显微成像部分具有第一光轴，所述激光引入部分具有第二光轴，其特征在于所述第一光轴与第二光轴平行，于所述第二光轴上设置有第一反射镜，于所述第一光轴上设置有合束镜，所述第二光轴通过所述第一反射镜和所述合束镜与所述第一光轴汇合。2、 如权利要求1所述的激光共聚焦显微系统，其特征在于:.所述显微成像 部分还包括用于观测显微物面的显微物镜、用于光线聚焦的第一结像镜、用于 将聚焦光线反射的第二反射镜和用于接收反射光线并成像的成像面，所述显微 物镜、所述合束镜、所述第一结像镜和第二反射镜依次同光轴设置。3、 如权利要求2所述的激光共聚焦显微系统，其特征在于所述激光共聚 焦显微系统还包括反射照明部分，所述反射照明部分包括依次设置的反射光源、 将反射光线聚焦的第一透镜、将聚焦光线反射的第四反射镜和将反射光线聚焦 的第二透镜，于所述第一结像镜与合束镜之间设置有用于接收穿过所述第二透 镜的聚焦光线的第三反射镜，所述第三反射镜位于所述第一光轴上。4、 如权利要求3所述的激光共聚焦显微系统，其特征在于所述反射光源 为紫外光。5、 如权利要求1所述的激光共聚焦显微系统，其特征在于所述激光引入 部分包括用于接收引入激光的耦合镜、用于调节激光照射宽度的可变狭缝、用 于将调节后的激光反射的第一反射镜和用于将反射激光聚焦的第二结像镜，所 述耦合镜、可变狭缝和第一反射镜依次同光轴设置，所述第一反射镜、第二结 像镜和合束镜依次同光轴设置。6、 如权利要求5所述的激光共聚焦显微系统，其特征在于所述激光引入 部分还包括光斑指示部分，所述光斑指示部分包括指示光源、接收指示光线并 将指示光线聚集的第三透镜、第一球面镜和第二球面镜，所述指示光源、第三 透镜、第一球面镜、第二球面镜和还可用于将聚焦后的指示光线反射至所述第二光轴的所述耦合镜依次同光轴设置。7、 如权利要求6所述的激光共聚焦显微系统，其特征在于所述指示光源 为紫外光。8、 如权利要求1所述的激光共聚焦显微系统，其特征在于所述透射照明 部分，所述透射照明部分包括透射光源、接收所述透射光源的并将光线聚焦的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光共聚焦显微系统，包括显微成像部分和激光引入部分，所述显微成像部分具有第一光轴，所述激光引入部分具有第二光轴，其特征在于：所述第一光轴与第二光轴平行，于所述第二光轴上设置有第一反射镜，于所述第一光轴上设置有合束镜，所述第二光轴通过所述第一反射镜和所述合束镜与所述第一光轴汇合。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：宋体涵，
申请(专利权)人：清溢精密光电深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]