等离子体气相沉积用半自动插片机制造技术

一种等离子体气相沉积用半自动插片机，包括：一储片匣，用于存放一基片；一轨道，设置于该储片匣及一PECVD炉之间；一轨道车，设置于该轨道并沿该轨道运动，其中，该轨道车往返于靠近该储片匣的一第一位置及靠近该PECVD炉的一第二位置之间；一机械臂，固定于该轨道车，其中，该机械臂拥有一工作端；一吸片机，固定于该工作端，用于吸片；及一驱动单元，用于对该轨道车，该机械臂及该吸片机提供能量。籍由上述之结构，本发明专利技术可以半自动地完成基片安装的工作，省去了人工搬片及人工对片的麻烦，降低了生产成本，极大地提高了工作效率及对片精度，保证了镀膜产品的优良品质和外观。

【技术实现步骤摘要】
等离子体气相沉积用半自动插片机
本专利技术涉及一种气相沉积用半自动插片机，尤其是一种等离子体气相沉积用半自动插片机。
技术介绍
PECVD，全称为PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，即：等离子体增强化学气相沉积法。PECVD借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，并在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体气相沉积。现有的PECVD沉积方式是采用顶部进气通过气体筛板后进入反应器内，而基片采用插入式安装。基片插入作为PECVD镀膜生产过程中的重要一环，对产品品质及外观有着举足轻重的作用。在基片插入过程中，需要将处理后的基片移至反应炉前并定位，而现有技术一般采用人工操作等方法实现这一过程，极大地影响了工作效率，且浪费了大量的人力成本；除此以外，采用人工方式进行搬片及对位操作，不仅工作量大，且对片不准，会影响镀膜产品的品质和外观。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种结构合理，操作方便的等离子体气相沉积用半自动插片机。本专利技术的又一目的在于提供一种对片精度高，工作效果好的等离子体气相沉积用半自动插片机。为达到以上目的，本专利技术提供一种等离子体气相沉积用半自动插片机，包括：一储片匣，用于存放一基片；一轨道，设置于该储片匣及一PECVD炉之间；一轨道车，设置于该轨道并沿该轨道运动，其中，该轨道车往返于靠近该储片匣的一第一位置及靠近该PECVD炉的一第二位置之间；一机械臂，固定于该轨道车，其中，该机械臂拥有一工作端；一吸片机，固定于该工作端，用于吸片，其中，当该轨道车位于该第一位置时，该吸片机吸住该储片匣中的该基片，并通过该机械臂的运动将该基片取出，然后该轨道车向该PECVD炉移动并到达该第二位置，该机械臂运动并将该基片放入该PECVD炉中后，再将该基片推入一基片插座，之后，该吸片机停止吸片并通过该机械臂的运动离开该PECVD炉以此完成基片安装，最后，该轨道车向该储片匣移动并到达该第一位置重新吸片；及一驱动单元，用于对该轨道车，该机械臂及该吸片机提供能量。籍由上述之结构，本专利技术可以半自动地完成基片安装的工作，整个安装过程中，仅需人工将基片放入该储片匣即可，剩余的操作将由该等离子体气相沉积用半自动插片机完成，省去了人工搬片及人工对片的麻烦，降低了生产成本，极大地提高了工作效率及对片精度，保证了镀膜产品的优良品质和外观。本专利技术的这些目的，特点，和优点将会在下面的具体实施方式，附图，和权利要求中详细的揭露。附图说明图1为本专利技术的结构图。图2为本专利技术的A-A向视图。图3为本专利技术的电路连接示意图。图中：1-储片匣，2-轨道，3-轨道车，4-机械臂，5-吸片机，6-驱动单元，7-定位传感器，8-真空吸盘，9-第一控制单元，10-距离传感器，11-第一电机，12-第二控制单元，13-第二电机，14-第三控制单元，15-真空泵。具体实施方式请参见图1和图2，本专利技术为一种等离子体气相沉积用半自动插片机，包括：一储片匣1，用于存放一基片；一轨道2，设置于该储片匣1及一PECVD炉之间；一轨道车3，设置于该轨道2并沿该轨道2运动，其中，该轨道车3往返于靠近该储片匣1的一第一位置及靠近该PECVD炉的一第二位置之间；一机械臂4，固定于该轨道车3，其中，该机械臂4拥有一工作端；一吸片机5，固定于该工作端，用于吸片，其中，当该轨道车3位于该第一位置时，该吸片机5吸住该储片匣1中的该基片，并通过该机械臂4的运动将该基片取出，然后该轨道车3向该PECVD炉移动并到达该第二位置，该机械臂4运动并将该基片放入该PECVD炉中后，再将该基片推入一基片插座，之后，该吸片机5停止吸片并通过该机械臂4的运动离开该PECVD炉以此完成基片安装，最后，该轨道车3向该储片匣1移动并到达该第一位置重新吸片；及一驱动单元6，用于对该轨道车3，该机械臂4及该吸片机5提供能量。籍由上述之结构，本专利技术可以半自动地完成基片安装的工作，整个安装过程中，仅需人工将基片放入该储片匣1即可，剩余的操作将由该等离子体气相沉积用半自动插片机完成，省去了人工搬片及人工对片的麻烦，降低了生产成本，极大地提高了工作效率及对片精度，保证了镀膜产品的优良品质和外观。优选的，该储片匣1可从本专利技术中略去，该基片从生产线通过人工搬运至该吸片机5旁，然后该吸片机5进行吸片。优选的，该机械臂4吸在该基片的侧面中心部位，将该基片放入该PECVD炉中后，该机械臂4撤走，该基片由人工推入该基片插座。优选的，该轨道2进一步包括两个挡板，固定于该轨道2的两端，用于防止该轨道车3滑落。优选的，所述的一种等离子体气相沉积用半自动插片机，进一步包括一控制面板，用于手动启动和停止该等离子体气相沉积用半自动插片机。优选的，所述的一种等离子体气相沉积用半自动插片机，进一步包括一保护单元，用于在过载，短路，漏电和过热时使该等离子体气相沉积用半自动插片机停止工作。藉由上述之结构，该保护单元可以有效防止过载，短路，漏电和过热对该等离子体气相沉积用半自动插片机带来的损害。优选的，其中，该轨道车3包括：一车体；复数个车轮，设置于该车体的一下部，其中，该车轮被该轨道2限制以此沿该轨道2滚动；一第一电机11，用于驱动该车轮；一平台，固定于该车体的一上部，其中，该机械臂4固定于该平台；一距离传感器10，固定于该车体上，用于测量该轨道车3与该储片匣1之间的一第一距离及与该PECVD炉之间的一第二距离；及一第一控制单元9，用于控制该第一电机11，其中，当该第一距离小于一第一预设距离，或该第二距离小于一第二预设距离时，该第一控制单元9使该第一电机11停止工作，并当该机械臂4及该吸片机5完成工作时使该第一电机11反向工作，以此使该轨道车3从该第一位置移动至该第二位置，或从该第二位置移动至该第一位置。籍由上述之结构，该轨道车3可以自动往返于该第一位置及该第二位置之间，整个过程不需人为干预，降低了生产成本，提高了工作效率。优选的，该轨道车3进一步包括刹车装置，固定于该车轮，用于使该轨道车3快速停止。优选的，其中，该机械臂4包括：一升降臂，拥有一齿状边缘；一第二电机13，拥有一齿轮，其中，该齿轮与该齿状边缘啮合，以此通过该第二电机13驱动该升降臂；一支架，固定于该升降臂的一下部，其中，该支架拥有该工作端，用于固定该吸片机5；一定位传感器7，设置于该升降臂，用于测定该升降臂的一位置信息；及一第二控制单元12，用于控制该第二电机13，其中，当该位置信息与一预设位置信息相符合时，该第二控制单元12使该第二电机13停止工作，并当该吸片机5完成工作时使该第二电机13反向工作。籍由上述之结构，该机械臂4可以辅助该吸片机5完成取片操作及插片操作，且使用了该定位传感器7，使该机械臂4被限定在有效范围内工作，整个过程不需人为干预，降低了生产成本，提高了工作效率。优选的，该机械臂4进一步包括一配重块，用于使该轨道车3受到的总力矩为零以此提供稳定性并减少脱轨的可能性。优选的，其中，该吸片机5包括：一真空吸盘8，用于吸住该基片；一真空泵15，用于为该真空吸盘8减压；及一第三控制单元14，用于控本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体气相沉积用半自动插片机，包括：一储片匣，用于存放一基片；一轨道，用于将该基片从该储片匣运送至一PECVD炉；一轨道车，设置于该轨道并沿该轨道运动，其中，该轨道车往返于靠近该储片匣的一第一位置及靠近该PECVD炉的一第二位置之间；一机械臂，固定于该轨道车，其中，该机械臂拥有一工作端；一吸片机，固定于该工作端，用于吸片，其中，当该轨道车位于该第一位置时，该吸片机吸住该储片匣中的该基片，并通过该机械臂的运动将该基片取出，然后该轨道车向该PECVD炉移动并到达该第二位置，该机械臂运动并将该基片放入该PECVD炉中后，再将该基片推入一基片插座，之后，该吸片机停止吸片并通过该机械臂的运动离开该PECVD炉以此完成基片安装，最后，该轨道车向该储片匣移动并到达该第一位置重新吸片；及一驱动单元，用于对该轨道车，该机械臂及该吸片机提供能量。

【技术特征摘要】
1.一种等离子体气相沉积用半自动插片机，包括：一储片匣，用于存放一基片；一轨道，用于将该基片从该储片匣运送至一PECVD炉；一轨道车，设置于该轨道并沿该轨道运动，其中，该轨道车往返于靠近该储片匣的一第一位置及靠近该PECVD炉的一第二位置之间；一机械臂，固定于该轨道车，其中，该机械臂拥有一工作端；一吸片机，固定于该工作端，用于吸片，其中，当该轨道车位于该第一位置时，该吸片机吸住该储片匣中的该基片，并通过该机械臂的运动将该基片取出，然后该轨道车向该PECVD炉移动并到达该第二位置，该机械臂运动并将该基片放入该PECVD炉中后，再将该基片推入一基片插座，之后，该吸片机停止吸片并通过该机械臂的运动离开该PECVD炉以此完成基片安装，最后，该轨道车向该储片匣移动并到达该第一位置重新吸片；及一驱动单元，用于对该轨道车，该机械臂及该吸片机提供能量；该轨道进一步包括两个挡板，固定于该轨道的两端，用于防止该轨道车滑落。2.根据权利要求1所述的一种等离子体气相沉积用半自动插片机，进一步包括一控制面板，用于手动启动和停止该等离子体气相沉积用半自动插片机。3.根据权利要求1所述的一种等离子体气相沉积用半自动插片机，进一步包括一保护单元，用于在过载，短路，漏电和过热时使该等离子体气相沉积用半自动插片机停止工作。4.根据权利要求1所述的一种等离子体气相沉积用半自动插片机，其中，该轨道车包括：一车体；复数个车轮，设置于该车体的一下部，其中，该车轮被该轨道限制以此沿该轨道滚动；一第一电机，用于驱动该车轮；一平台，固定于该车体的一上部，其中，该机械臂固定于该平台；一距离传感器，固定于该车体上，用于测量该轨道车与该储...

【专利技术属性】
技术研发人员：沙嫣，沙晓林，
申请(专利权)人：沙嫣，沙晓林，
类型：发明
国别省市：上海;31