石墨舟制造技术

技术编号:10772004 阅读:207 留言:0更新日期:2014-12-12 03:13
本实用新型专利技术公开了一种石墨舟,用于小管径等离子化学气相沉积,所述石墨舟具有多个石墨舟舟片,所述石墨舟的两侧最外层为两石墨舟舟片贴合在一起形成的双层结构。本实用新型专利技术的石墨舟,可使热场均匀,以减轻热场分布的影响,使炉管内沉积速率相近。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种石墨舟,用于小管径等离子化学气相沉积,所述石墨舟具有多个石墨舟舟片,所述石墨舟的两侧最外层为两石墨舟舟片贴合在一起形成的双层结构。本技术的石墨舟,可使热场均匀,以减轻热场分布的影响,使炉管内沉积速率相近。【专利说明】石墨舟
本技术涉及太阳能电池工艺设备
,尤其涉及一种用于小管径等离子 化学气相沉积法沉积氮化硅减反射膜时所使用的石墨舟。
技术介绍
为了提高晶体硅太阳电池的效率,通常需要减少太阳电池正表面的反射,还需要 对晶体硅表面进行钝化处理,以降低表面缺陷对于少数载流子的复合作用。在工业化应用 中,SiNx膜被选择作为硅表面的减反射膜,工业化应用中常用的设备有管式PECVD、板式 PECVD系统。管式PECVD系统辉光放电与硅片表面的特性有了一定的关系,比如硅片表面织 构化所生成的金字塔尖端的状态就对等离子体放电产生影响。 管式PECVD系统加热靠炉外壁加热丝加热,炉腔内的温度场分布不均匀,这样导 致硅片沉积氮化硅时沉积速率不一样,靠近炉壁的沉积速率快,靠近炉管中心的沉积速率 慢,氮化硅减反射膜膜色差异性大,色差、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种石墨舟,用于小管径等离子化学气相沉积,所述石墨舟具有多个石墨舟舟片,其特征在于,所述石墨舟的两侧最外层为两石墨舟舟片贴合在一起形成的双层结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张鸿飞刘海平杨志强周国华马承鸿李健
申请(专利权)人:内蒙古日月太阳能科技有限责任公司
类型:新型
国别省市:内蒙古;15

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