负型感光性树脂组合物及图案、晶粒、装置的制法制造方法及图纸

技术编号:11032186 阅读:47 留言:0更新日期:2015-02-11 18:04
本发明专利技术提供一种负型感光性树脂组合物,其包括碱可溶性树脂(A)、光致产酸剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂(E)。碱可溶性树脂(A)包括丙烯酸酯系树脂(A-1)与酚醛清漆树脂(A-2)。丙烯酸酯系树脂(A-1)是由聚合用单体聚合而得,其中所述聚合用单体包括不饱和羧酸或不饱和羧酸酐的单体(a-1-1)与单体(a-1-2),并且单体(a-1-2)包括具有三环癸烷或双环戊二烯结构的化合物(a-1-2-1)、式(1)所示的化合物(a-1-2-2)或上述两者的组合。酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得,其中芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种负型感光性树脂组合物,其包括碱可溶性树脂(A)、光致产酸剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂(E)。碱可溶性树脂(A)包括丙烯酸酯系树脂(A-1)与酚醛清漆树脂(A-2)。丙烯酸酯系树脂(A-1)是由聚合用单体聚合而得,其中所述聚合用单体包括不饱和羧酸或不饱和羧酸酐的单体(a-1-1)与单体(a-1-2),并且单体(a-1-2)包括具有三环癸烷或双环戊二烯结构的化合物(a-1-2-1)、式(1)所示的化合物(a-1-2-2)或上述两者的组合。酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得,其中芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。【专利说明】
本专利技术是有关于一种感光性树脂组合物,且特别是有关于一种负型感光性树脂组 合物。
技术介绍
近年来,随着半导体工业、液晶显示器(liquidcrystaldisplay,LCD)以及有机 电激发光显不装置(organicelectro-luminescencedisplaydevice, 0ELD)的发展,伴随 而来对于尺寸缩小化的需求,使得微影(photolithography)工艺成为非常重要的议题。在 微影(photolithography)工艺中,必须将所需的光阻图案(pattern)微细化(finer),以达 到尺寸缩小化的目的。 -般而言,在半导体工艺中,金属图案(metallicpattern)可以剥离法(lift-off method)来制作。所述剥离法的步骤如下:首先,在基板上形成光阻图案。接着,在上面形 成有光阻图案的基板上蒸镀金属层。最后,剥离光阻图案与形成在光阻图案上的金属层来 形成金属图案。在剥离法中,由于光阻图案的剖面为逆锥状(reversedtaperedshape),因 此覆盖在基板上的金属层与覆盖在光阻图案上的金属层不连续,而易于移除。值得一提的 是,上述光阻图案存在有耐热性不佳、吸水性高等问题。 另一方面,在有机电激发光显示装置中,通常是以光阻图案作为在第一电极层上 的隔离壁(rib),并且将有机电致发光媒体(organicelectro-luminescencematrix)涂 布经由隔离壁而暴露出的第一电极层上来形成画素层。接着,在隔离壁与画素层的整体表 面上蒸镀金属层来形成位于画素层上的第二电极层。值得一提的是,由于有机发光兀件 容易受到水份、溶剂等成分破坏,因此希望以吸水性低的材料作为隔离壁。又,为了除去 隔离壁中残留的水份与溶剂,通常在高温下对隔离壁与其他有机发光元件进行脱气处理 (deaerationtreatment)。然而,隔离壁却因此变形,而不利于使用。 日本特许3320397号揭示一种逆锥状光阻图案的形成方法,其是使用双酚类化合 物来作为负型感光性树脂组合物,并且以所述负型感光性树脂组合物来形成光阻图案。如 此一来,便可以蒸镀方式于光阻图案上形成金属图案,并且所述光阻图案亦可形成为耐热 性佳、吸水性低的隔离壁。然而,使用所述负型感光性树脂组合物来形成的光阻图案却存在 与基板之间剥除性不佳以及不耐蒸镀工艺的问题。 于是,亟需发展一种负型感光性树脂组合物,其适于形成一种与基板之间的剥除 性佳,且耐蒸镀工艺的光阻图案。
技术实现思路
本专利技术提供一种负型感光性树脂组合物,其用于形成一种与基板之间的剥除性 佳,且耐蒸镀工艺的光阻图案。 本专利技术提供一种负型感光性树脂组合物,其包括碱可溶性树脂(alkai-soluble resin) (A)、光致产酸剂(photoacidgenerator) (B)、喊性化合物(basiccompound) (C)、 交联剂(cross-linking agent)(D)以及溶剂(E)。碱可溶性树脂(A)可包括丙烯酸酯 系树脂(acrylate resin) (A-I)与酚醒清漆树脂(novolac resin) (A-2)。值得注意的 是,丙烯酸酯系树脂(A-I)可由聚合用单体聚合而得,其中聚合用单体包括不饱和羧酸或 不饱和羧酸酐的单体(a-1-l)与单体(a-1-2),并且上述单体(a-1-2)包括具有三环癸 烧(tricyclodecane)或双环戊二烯(dicyclopentadiene)结构的化合物(a-l-2-l)、式 (1)所示的化合物(a-1-2-2)或上述两者的组合。又,酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合 物与芳香族羟基化合物聚合而得,其中芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物(xylenol compound)〇 【权利要求】1. 一种负型感光性树脂组合物,其特征在于,包括: 碱可溶性树脂(A); 光致产酸剂(B); 碱性化合物(C); 交联剂(D);以及 溶剂(E), 其中所述碱可溶性树脂(A)包括丙烯酸酯系树脂(A-I)与酚醛清漆树脂(A-2); 所述丙烯酸酯系树脂(A-I)是由聚合用单体聚合而得,其中所述聚合用单体包括不饱 和羧酸或不饱和羧酸酐的单体(a-1-l)与单体(a-1-2),并且所述单体(a-1-2)包括具有三 环癸烷或双环戊二烯结构的化合物(a-l-2-l)、式(1)所示的化合物(a-1-2-2)或两者的组 合,式(1)中,m为O至2的整数; 所述酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得,其中所述芳 香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。2. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物,其特征在于,其中,所述丙烯酸酯系树脂 (A-I)的所述聚合用单体更包括具有羟基的单体(a-1-3)。3. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物,其特征在于,其中,所述光致产酸剂(B) 包括鎗盐化合物、含齒化合物、砜化合物、磺酸化合物、磺酰亚胺化合物或上述化合物的组 合。4. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物,其特征在于,其中,所述碱性化合物(C) 包括脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、胺基醇、芳香族胺、季铵氢氧化物、脂环族胺或 上述化合物的组合。5. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物,其特征在于,其中,基于所述碱可溶性树 脂(A) 100重量份,所述光致产酸剂(B)的使用量为0. 5至6重量份;所述碱性化合物(C) 的使用量为〇. 3至3重量份;所述交联剂(D)的使用量为5至35重量份,且所述溶剂(E) 的使用量为100至1000重量份。6. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物,其特征在于,其中,基于所述丙烯酸酯 系树脂(A-I)与所述酚醛清漆树脂(A-2)的总使用量为100重量份,所述丙烯酸酯系树脂 (A-I)的使用量为10至70重量份,且所述酚醛清漆树脂(A-2)的使用量为30至90重量 份。7. -种光阻图案的形成方法,其特征在于,包括: 于基板上涂布负型感光性树脂组合物,所述负型感光性树脂组合物如权利要求1至6 中任一项所述;以及对所述负型感光性树脂组合物进行处理步骤,以形成光阻图案。8. 权利要求7所述的光阻图案的形成方法,其特征在于,其中,所述光阻图案为隔离 壁。9. 一种金属图案的形成方法,其特征在于,包括: 于基板上形成光阻图案,其中,所述光阻图案是以权利要求7所述的方法而形成; 于所述基板本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种负型感光性树脂组合物,其特征在于,包括:碱可溶性树脂(A);光致产酸剂(B);碱性化合物(C);交联剂(D);以及溶剂(E),其中所述碱可溶性树脂(A)包括丙烯酸酯系树脂(A‑1)与酚醛清漆树脂(A‑2);所述丙烯酸酯系树脂(A‑1)是由聚合用单体聚合而得,其中所述聚合用单体包括不饱和羧酸或不饱和羧酸酐的单体(a‑1‑1)与单体(a‑1‑2),并且所述单体(a‑1‑2)包括具有三环癸烷或双环戊二烯结构的化合物(a‑1‑2‑1)、式(1)所示的化合物(a‑1‑2‑2)或两者的组合,式(1)中,m为0至2的整数;所述酚醛清漆树脂(A‑2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得,其中所述芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:蔡宇杰
申请(专利权)人:奇美实业股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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