一种真空熔炼炉浇筑用中间包制造技术

技术编号:10997107 阅读:76 留言:0更新日期:2015-02-04 16:14
本发明专利技术公开了一种真空熔炼炉浇筑用中间包,包括胚体、缓冲包及漏孔,所述缓冲包为半球形缓冲包,设置在胚体底面上,所述漏孔设置在胚体底面且均匀分布在缓冲包四周。使用该中间包可有效解决水冷锭模烧穿和产品结晶偏粗等问题,提高操作的安全性,降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种真空熔炼炉浇筑用中间包,包括胚体、缓冲包及漏孔,所述缓冲包为半球形缓冲包,设置在胚体底面上,所述漏孔设置在胚体底面且均匀分布在缓冲包四周。使用该中间包可有效解决水冷锭模烧穿和产品结晶偏粗等问题,提高操作的安全性,降低生产成本。【专利说明】一种真空熔炼炉浇筑用中间包
本专利技术涉及一种浇筑用中间包,特别涉及一种真空感应熔炼炉浇筑用中间包。
技术介绍
储氢合金所用真空感应熔炼炉通常采用的浇筑方法是合金液由坩埚直接浇注到水冷锭模。真空感应熔炼炉具有负压的特性,合金温度控制只能通过仪器及工人经验判定,且使用坩埚直接浇注到水冷锭模的方法温度掌控难度大,浇注过程流速不均,浇注时合金液直接形成一条固定的弧线重复冲刷,极易导致水冷锭模损坏、合金结晶粗细不均等问题。因此坩埚浇注存在操作风险大、产品质量不高等缺陷。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术提供一种真空感应熔炼炉浇筑用中间包,通过安装在水冷锭模上的中间包的二次自然浇筑,可有效地解决水冷锭模烧穿和产品结晶偏粗等问题,提高操作的安全性,降低生产成本。 为达到上述目的,本专利技术的技术方案如下:一种真空熔炼炉浇筑用中间包,其特征在于,包括胚体、缓冲包及漏孔,所述缓冲包为半球形缓冲包,设置在胚体底面上,所述漏孔设置在胚体底面且均匀分布在缓冲包四周。 进一步地,所述胚体底面为下凹形底面。 进一步地,所述漏孔为4-5个。 进一步地,所述胚体采用氧化铝及石英碎石烧结而成。 进一步地,所述缓冲包的高度为胚体高度的一半。 有益效果:本专利技术通过在水冷锭模上加装中间包、浇注时合金液流入“中间包”半球形缓冲包顶部,合金液形成二次自然浇注,合金液通过漏孔流入水冷锭模。使用这种中间包,水冷锭模得到了有效的保护,合金液形成二次浇注且分成多组流入水冷锭模。此外,中间包底部设计有向下凹陷减少合金液在中间包内的残留,浇筑得到的合金晶体细化、均匀。本专利技术的中间包可有效解决水冷锭模烧穿和产品结晶偏粗等问题,提高操作的安全性,降低生产成本。 【专利附图】【附图说明】 图1为本专利技术的真空熔炼炉中间包的立体透视图;图2为本专利技术的真空熔炼炉中间包的俯视图;图3为本专利技术的真空熔炼炉中间包的剖视图。 【具体实施方式】 下面结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明。 真空熔炼炉浇筑用中间包,包括胚体2、缓冲包I及漏孔3,所述缓冲包I为半球形缓冲包,设置在胚体底面4上,所述漏孔3设置在胚体底面的4-5个孔,平均分布在缓冲包四周。为方便合金液流出,胚体底面为下凹形底面。所述胚体采用氧化铝及石英碎石烧结而成,所述缓冲包的高度为胚体高度的一半。 实施例1:中间包选用氧化招及石英碎石成型烧结,胚体外径140mm,内径130mm,高50mm,中心位置有半球形缓充包半径25mm,以缓冲包中心点为中心,划十字线,在十字线上据中心点45mm处为圆心,制作直径30mm的漏孔,共四个。在使用过程中,浇注时合金液流入中间包内的半球形缓充包,合金液形成二次自然浇注分布进入四个漏孔自然进入水冷锭模,由于中间包底部设计成有下凹的弧度,留在漏孔之间的合金液顺下凹底部再流入漏孔中,最终流入水冷锭模,能够解决水冷锭模烧穿和产品结晶偏粗等问题,中间包残留料较少,提高操作的安全性,降低生产成本。【权利要求】1.一种真空熔炼炉浇筑用中间包,其特征在于,包括胚体、缓冲包及漏孔,所述缓冲包为半球形缓冲包,设置在胚体底面上,所述漏孔设置在胚体底面且均匀分布在缓冲包四周。2.根据权利要求1所述的一种真空熔炼炉浇筑用中间包,其特征在于,所述胚体底面为下凹形底面。3.根据权利要求1所述的一种真空熔炼炉浇筑用中间包,其特征在于,所述漏孔为4-5个。4.根据权利要求1所述的一种真空熔炼炉浇筑用中间包,其特征在于,所述胚体采用氧化铝及石英碎石烧结而成。5.根据权利要求1所述的一种真空熔炼炉浇筑用中间包,其特征在于,所述缓冲包的高度为胚体高度的一半。【文档编号】B22D41/00GK104325124SQ201410590224【公开日】2015年2月4日 申请日期:2014年10月29日 优先权日:2014年10月29日 【专利技术者】郑波, 皮雄, 任权兵, 郭坚强 申请人:江西稀有稀土金属钨业集团有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空熔炼炉浇筑用中间包,其特征在于,包括胚体、缓冲包及漏孔,所述缓冲包为半球形缓冲包,设置在胚体底面上,所述漏孔设置在胚体底面且均匀分布在缓冲包四周。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郑波皮雄任权兵郭坚强
申请(专利权)人:江西稀有稀土金属钨业集团有限公司
类型:发明
国别省市:江西;36

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