一种光学镜片模具的专用模仁，包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛-硅薄膜层,所述钛-硅薄膜层的正面覆盖于一钛-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一钛-铝-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-铝-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一镍-铝薄膜层的背面。本发明专利技术结构简单、设计巧妙，通过采用多个薄膜层的结构，可以增加各个薄膜层彼此间的附着力，而且可以避免因本体的成分扩散到模造光学镜片模仁的表面，而影响所模造之玻璃的质量。
【技术实现步骤摘要】
—种光学镜片模具的专用模仁
本专利技术涉及模具领域，更具体地说，涉及一种一种光学镜片模具的专用模仁。
技术介绍
近年来，数码相机、数码摄影机等光学产品以及具有拍照功能的手机迅速发展，为满足高的成像质量以及轻薄短小、方便携带等需求，一般塑料制造的光学镜片无法达到所需的成像质量，必须使用玻璃镜片，然而，对于非球面的小尺寸玻璃镜片而言，如果以抛光研磨的方式加工制造，不仅难度高而且时间长，因此，目前的趋势是以模具制造(以下简称模造)的方式生产非球面、小尺寸的玻璃镜片。 模造玻璃的模仁，对所模造的玻璃镜片质量起决定性作用，也和一个模仁能够模造的玻璃镜片的数目有重要关系，能够模造的玻璃镜片数目越多，越能降低生成玻璃镜片的成本，因此一个好的模仁必须具备以下特性:(1)抗粘性强:避免与玻璃镜片产生沾黏； (2)高硬度:易于成型玻璃；(3)低粗糙性:避免使玻璃产生缺陷；(4)抗磨耗性佳:使其具有较长的使用寿命；(5)耐高温氧化:避免于模造过程中发生分解，或与模造气体产生反应。 为了使模仁具有上述特性，通常情况在模仁的表面镀膜，常用的镀膜是贵金属薄膜，以钼-铱(Pt-1r)合金薄膜为主流，因为贵金属薄膜在高温时不与玻璃产生化学反应，具有耐高温氧化、化学安定等特性，然而，其缺点为硬度低、寿命短，而且材料费用成本高昂。
技术实现思路
本专利技术提供一种光学镜片模具的专用模仁，其主要目的在于克服现有技术存在的硬度低、寿命短，而且材料费用成本高昂等缺陷。 为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案:一种光学镜片模具的专用模仁，包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛-硅薄膜层，所述钛-硅薄膜层的正面覆盖于一钛-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一钛-铝-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-铝-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一镍-铝薄膜层的背面。 优选地，所述钛-硅薄膜层的厚度为50?100纳米。 优选地，所述钛-硅-氮薄膜层的厚度为100?200纳米。 优选地，所述钛-招-娃-氮薄膜层的厚度为100?200纳米。 优选地，所述镍-铝薄膜层的厚度为50?100纳米。 优选地，所述钛-硅薄膜层是通过磁控溅射镀膜方式覆盖在所述模仁本体上，该磁控溅射镀膜方式包括以下步骤:a、采用沈阳科学仪器股份有限公司制造的F几560型高真空多功能磁控溅射镀膜机，使用直径为60 mm,厚度为3 mm,纯度为5 N的钛靶，基片为40 mmX20 mmX2 mm的Si02薄片；b、基片镀膜前先用丙酮清洗，然后用超声波清洗，最后用去离子水冲洗风干；C、在沉积薄膜之前，钛靶用Ar离子轰击预溅射5分钟，待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积。 优选地，所述磁控派射镀膜方式选择的工艺参数范围为:Ar气流量20 seem ;直流电源功率80 W ;溅射气压IPa ；靶基距70 mm。 优选地，所述钛-硅薄膜层与钛-硅-氮薄膜层之间通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖，所述钛-硅-氮薄膜层与所述钛-铝-硅-氮薄膜层之间也是通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖。 优选地，所述非平衡磁控溅射方法选择的工艺参数范围为:选取80瓦?150瓦低功率；选取5X10 -3托?8X10 -3托的工作压力。 和现有技术相比，本专利技术产生的有益效果在于:本专利技术结构简单、设计巧妙，通过采用多个薄膜层的结构，可以增加各个薄膜层彼此间的附着力，而且可以避免因本体的成分扩散到模造光学镜片模仁的表面，而影响所模造之玻璃的质量。上述的钛-铝-硅-氮(T1-Al-S1-N)薄膜层在模造玻璃时会直接与玻璃接触，它具有高硬度、抗磨耗、耐高温氧化等特性，可延长模造光学镜片模仁的使用寿命，并且具有良好的离模性、低粗糙，可以保证所模造的玻璃的质量。以上多种薄膜层的成分采用钛、铝、硅、氮元素，这些元素在自然界中都容易取得，与钼、铱等贵金属相比，可大幅度地降低模造光学镜片模仁的成本。 【附图说明】 无附图。 【具体实施方式】 一种光学镜片模具的专用模仁，包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛-硅薄膜层，所述钛-硅薄膜层的正面覆盖于一钛-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一钛-铝-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-铝-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一镍-铝薄膜层的背面。 优选地，所述钛-硅薄膜层的厚度为50?100纳米。 优选地,所述钛-硅-氮薄膜层的厚度为100?200纳米。 优选地，所述钛-铝-硅-氮薄膜层的厚度为100?200纳米。 优选地，所述镍-铝薄膜层的厚度为50?100纳米。 优选地，所述钛-硅薄膜层是通过磁控溅射镀膜方式覆盖在所述模仁本体上，该磁控溅射镀膜方式包括以下步骤:a、采用沈阳科学仪器股份有限公司制造的F几560型高真空多功能磁控溅射镀膜机，使用直径为60 mm,厚度为3 mm,纯度为5 N的钛靶，基片为40 mmX20 mmX2 mm的Si02薄片；b、基片镀膜前先用丙酮清洗，然后用超声波清洗，最后用去离子水冲洗风干；c、在沉积薄膜之前，钛靶用Ar离子轰击预溅射5分钟，待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积。 优选地，所述磁控派射镀膜方式选择的工艺参数范围为:Ar气流量20 seem ;直流电源功率80 W ;溅射气压IPa ；靶基距70 mm。 优选地，所述钛-硅薄膜层与钛-硅-氮薄膜层之间通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖，所述钛-硅-氮薄膜层与所述钛-铝-硅-氮薄膜层之间也是通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖。 优选地，所述非平衡磁控溅射方法选择的工艺参数范围为:选取80瓦?150瓦低功率；选取5X10 -3托?8X10 -3托的工作压力。 和现有技术相比，本专利技术产生的有益效果在于:本专利技术结构简单、设计巧妙，通过采用多个薄膜层的结构，可以增加各个薄膜层彼此间的附着力，而且可以避免因本体的成分扩散到模造光学镜片模仁的表面，而影响所模造之玻璃的质量。上述的钛-铝-硅-氮(T1-Al-S1-N)薄膜层在模造玻璃时会直接与玻璃接触，它具有高硬度、抗磨耗、耐高温氧化等特性，可延长模造光学镜片模仁的使用寿命，并且具有良好的离模性、低粗糙，可以保证所模造的玻璃的质量。以上多种薄膜层的成分采用钛、铝、硅、氮元素，这些元素在自然界中都容易取得，与钼、铱等贵金属相比，可大幅度地降低模造光学镜片模仁的成本。 以上对本专利技术所提供的一种光学镜片模具的专用模仁进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本专利技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本专利技术的方法及其核心思想。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术原理的前提下，还可以对本专利技术进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本专利技术权利要求的保护范围内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学镜片模具的专用模仁，其特征在于： 包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛‑硅薄膜层,所述钛‑硅薄膜层的正面覆盖于一钛‑硅‑氮薄膜层的背面，所述钛‑硅‑氮薄膜层的正面覆盖于一钛‑铝‑硅‑氮薄膜层的背面，所述钛‑铝‑硅‑氮薄膜层的正面覆盖于一镍‑铝薄膜层的背面。
【技术特征摘要】
1.一种光学镜片模具的专用模仁，其特征在于:包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛-硅薄膜层，所述钛-硅薄膜层的正面覆盖于一钛-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一钛-铝-硅-氮薄膜层的背面，所述钛-铝-硅-氮薄膜层的正面覆盖于一镍-铝薄膜层的背面。2.如权利要求1所述一种光学镜片模具的专用模仁，其特征在于:所述钛-硅薄膜层的厚度为50?100纳米。3.如权利要求2所述一种光学镜片模具的专用模仁，其特征在于:所述钛-硅-氮薄膜层的厚度为100?200纳米。4.如权利要求3所述一种光学镜片模具的专用模仁，其特征在于:所述钛-铝-硅-氮薄膜层的厚度为100?200纳米。5.如权利要求3所述一种光学镜片模具的专用模仁，其特征在于:所述镍-铝薄膜层的厚度为50?100纳米。6.如权利要求5所述一种光学镜片模具的专用模仁，其特征在于，所述钛-硅薄膜层是通过磁控溅射镀膜方式覆盖在所述模仁本体上，该磁控溅射镀膜方式包括以下步骤:a、采用沈阳科学仪器股份有限公司制造的F几56...
【专利技术属性】
技术研发人员：潘文祥，
申请(专利权)人：惠安县高智模具技术服务有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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