超薄多层封装体及其制作方法技术

技术编号:10906696 阅读:113 留言:0更新日期:2015-01-14 15:27
本发明专利技术公开了一种超薄多层封装体及其制作方法,在基底层的上表面设有芯片层,在芯片层的外部填充有包封体,在包封体与芯片层的上表面设有正面钝化层,在硅基底层的下表面设有介质层,在介质层的下表面设有背面钝化层,在正面钝化层内嵌有正面布线,在背面钝化层内嵌有背面布线,背面布线与正面布线之间通过穿透硅基底层和包封体的金属柱相连。芯片层位于金属柱区域外,在金属柱的外壁上设有介质层、阻挡层和种子层。本发明专利技术采用背面硅体刻蚀工艺和芯片叠加工艺,实现了从硅基底层上表面到下表面堆叠芯片的直接互连,实现了超薄多层封装体的封装制作。避免了传统方法使用多层复杂布线工艺来达到上表面和下表面的电性连接、制作成本昂贵和良率低下等问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种超薄多层封装体,其特征是:在基底层(1)的上表面设有芯片层(2),在芯片层(2)的外部填充有包封体(3),在包封体(3)与芯片层(2)的上表面设有正面钝化层(4),在基底层(1)的下表面设有介质层(5),在介质层(5)的下表面设有背面钝化层(6),在正面钝化层(4)内嵌有正面布线(7),在背面钝化层(6)内嵌有背面布线(8),背面布线(8)与正面布线(7)之间通过穿透基底层(1)和包封体(3)的金属柱(9)相连。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:姜峰张文奇
申请(专利权)人:华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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