本发明专利技术涉及数片设备，具体为一种硅片数片装置及数片方法，其装置结构简单，方便地完成硅片的数片操作，提高效率，其包括托板，所述托板包括玻璃板，所述玻璃板上部一端设置带有斜坡的靠板，所述玻璃板下部两侧对称设置配合的光源和光电探测器，所述光源照射到玻璃板形成全反射，所述光电探测器连接电脑，将硅片倾斜一定角度放置于玻璃板上部，玻璃板下部一侧使用光源照射，光源照射到玻璃板形成全反射，在玻璃板下部另一侧用光电探测器接收光源全反射后光波的光电探测器，光电探测器连接电脑，通过电脑上的明暗条纹数量计算出硅片数量。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及数片设备，具体为，其装置结构简单，方便地完成硅片的数片操作，提高效率，其包括托板，所述托板包括玻璃板，所述玻璃板上部一端设置带有斜坡的靠板，所述玻璃板下部两侧对称设置配合的光源和光电探测器，所述光源照射到玻璃板形成全反射，所述光电探测器连接电脑，将硅片倾斜一定角度放置于玻璃板上部，玻璃板下部一侧使用光源照射，光源照射到玻璃板形成全反射，在玻璃板下部另一侧用光电探测器接收光源全反射后光波的光电探测器，光电探测器连接电脑，通过电脑上的明暗条纹数量计算出硅片数量。【专利说明】
本专利技术涉及数片设备，具体为。
技术介绍
随着社会的不断发展，太阳能行业在国内不断扩大，对于太阳能的产能效率需求不断提高，硅片是太阳能行业中最常用的原材料，其需求量很大，硅片在进行生产加工前需要对其进行数片计数，一般常用的方式都是人工进行数片，其人力劳动强度大，容易出错，效率低下，无法满足需求，如今也有一些能够实现硅片自动数片的设备，但是一般其结构复杂，操作起来比较复杂，使用成本高。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术提供了，其装置结构简单，方便地完成硅片的数片操作，提高效率。 其技术方案是这样的:一种硅片数片装置，其特征在于，其包括托板，所述托板包括玻璃板，所述玻璃板上部一端设置带有斜坡的靠板，所述玻璃板下部两侧对称设置配合的光源和光电探测器，所述光源照射到玻璃板形成全反射，所述光电探测器连接电脑。 其进一步特征在于，所述托板中间开有通槽，所述通槽内卡嵌所述玻璃板，所述玻璃板的厚度与所述托板对应；所述靠板的斜坡角度大于80度小于85度；所述玻璃板上部设置与所述靠板对应的顶板； 所述玻璃板上部两侧分别设置直线导轨，所述顶板通过滑块与所述直线导轨滑动连接;所述直线导轨两端分别设置限位装置；所述玻璃板下部两侧分别通过连接杆设置条状安装座，两个所述条状安装座上分别安装所述光源和光电探测器；所述光源为单色光源。 —种娃片数片方法，其特征在于，将娃片倾斜一定角度放置于玻璃板上部，玻璃板下部一侧使用光源照射，光源照射到玻璃板形成全反射，在玻璃板下部另一侧用光电探测器接收光源全反射后光波的光电探测器，光电探测器连接电脑，通过电脑上的明暗条纹数量计算出硅片数量。 其进一步特征在于，硅片倾斜一定角度放置时硅片底部与玻璃板之间有三角形的间隙，入射波照射到玻璃板上，发射全反射，由于有衰逝波的存在，在硅片底部与玻璃板之间的间隙中存在衰逝波，玻璃板相当于光密介质，间隙相当于光疏介质，硅片相当于第三介质，有部分衰逝波会通过硅片传播出去，随着间隙厚度的扩大，透过硅片传播出去的衰逝波能量越来越少，在一片硅片底部照射的入射波经过全反射，光电探测器接收到的光波亮度是从暗到明的渐变条纹，当有多个硅片并排排列时，在电脑上就会显示多条渐变明暗条纹，渐变明暗条纹的数量即为硅片的数量；硅片倾斜80到85度放置；光源和光电探测器都安装在条状安装座上形成条状光源和条状光电探测器；照射光源使用单色光源。 采用本专利技术的结构和方法后，将需要进行数片操作的硅片放置于托板上并靠住靠板，光源照射，光电探测器收到光强信号后，通过电脑显示明暗条纹，根据明暗条纹即可方便计算出硅片数量，其结构简单，方便地完成硅片的数片操作，提高效率。 【专利附图】【附图说明】 图1为本专利技术数片装置结构主视图；图2为本专利技术数片装置结构左视图；图3为本专利技术数片装置结构仰视图；图4为裳逝波不意图；图5为部分衰逝波穿透示意图；图6为衰逝波没有穿透示意图；图7为硅片照射示意图。 【具体实施方式】 见图1，图2，图3所示，一种硅片数片装置，其包括托板1，托板I中间开有通槽，通槽内卡嵌玻璃板2，使得加工起来方便，玻璃板2上部一端设置带有斜坡的靠板3，玻璃板2下部两侧对称设置配合的光源4和光电探测器5，光源4照射到玻璃板2形成全反射，光电探测器5连接电脑；玻璃板2的厚度与托板I对应，保证硅片12与玻璃板2的贴合；靠板3的斜坡角度大于80度小于85度；玻璃板2上部设置与靠板3对应的顶板6,顶板6可以顶住硅片12，防止硅片12滑倒；玻璃板2上部两侧分别设置直线导轨7，顶板6通过滑块8与直线导轨7滑动连接，可以调节顶板6的位置，以配合不同数量厚度的硅片12 ;直线导轨7两端分别设置限位装置9，起到限定顶板6位置的作用；玻璃板2下部两侧分别通过连接杆10设置条状安装座11，两个条状安装座11上分别安装光源4和光电探测器5，形成条状光源和条状光电探测器；光源4为单色光源，单色光源经过玻璃板2全反射后可以得到更好地明暗条纹。 其工作过程和原理如下所述:见图4所示，当一束光波在光密介质与光疏介质的界面上发生全反射时，光疏介质中沿法线的平面能流密度为零，即没有能量向光疏介质的深层传播，但光疏介质中沿表面的平均能流密度不为零，即有能量沿光疏介质的表面层传播，其振幅随进入光疏介质的深度而作指数衰减，此为最常见的衰逝波，衰逝波透射强度公式为 I (Z) =I(O) e-z/d，渗透深度公式为 d= λ (ο)/4π (η ⑴ 2Sine/-η ⑵ 2)_1/2，公式中 I(O)是分界面处透射强度，d是渗透深度等于从分界面处到光强衰减到分界面处数值I(O)/e的处的距离，z是离开分界面的距离，λ为入射光波长，QiW面处的入射角，图中用箭头表示衰逝波的传播方向，箭头的长短表示衰逝波的振幅大小，衰逝波只能存在于厚度约为几个波长的表面层内，超过这个范围，其振幅就衰减到可以忽略不计，若不考虑光疏介质对光的吸收和放射等原因造成的能量损失，并且光疏介质的厚度足够大(大于衰逝波存在的范围)，则衰逝波能量最终将全部返回光密介质；当光疏介质下端还有第三介质，如果光疏介质的厚度足够小，如图5所示，部分衰逝波将穿透并传播出去，由于部分入射波的能量向第三介质传播，因此全反射的能量变小，即反射波的亮度变暗，在衰逝波存在范围内，光疏介质厚度越小，穿透第三介质并传播出去的光波就越多，即反射波的亮度变暗；反之，在衰逝波存在范围内，光疏介质厚度越大，穿透第三介质并传播出去的光波就越少，即反射波的亮度较亮，直到超过衰逝波存在范围，如图6所示，此时衰逝波能量没有损失将全部返回光密介质，反射波的亮度与入射波没有变化。将需要进行数片操作的硅片12放置于玻璃板2上方，一端靠住靠板3，另一端通过顶板6顶住，由于靠板3上有斜坡，所以硅片12倾斜，硅片12底部与玻璃板2之间有三角形的间隙，如图7所示，入射波照射到玻璃板2上，发射全反射，由于有衰逝波的存在，在硅片12底部与玻璃板2之间的间隙中存在衰逝波，玻璃板2相当于光密介质，间隙相当于光疏介质，硅片12相当于第三介质，因此有部分衰逝波会通过硅片12吸收出去，随着间隙厚度的扩大，透过硅片12吸收出去的衰逝波能量越来越少，SP在一片硅片12底部照射的入射波经过全反射，光电探测器5接收到的光波亮度是从暗到明的渐变条纹，当有多个硅片12并排排列时，在电脑上就会显示多条渐变明暗条纹，渐变明暗条纹的数量即为硅片12的数量，靠板3的斜坡角度不能太大或太小，太大的话间隙的厚度就很小，条纹的明暗渐变程度不明显，不太容易判断出条纹数量，角度太小时，间隙的厚度就很大，导致除了硅片12与玻本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种硅片数片装置，其特征在于，其包括托板，所述托板包括玻璃板，所述玻璃板上部一端设置带有斜坡的靠板，所述玻璃板下部两侧对称设置配合的光源和光电探测器，所述光源照射到玻璃板形成全反射，所述光电探测器连接电脑。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李俊林，
申请(专利权)人：无锡名谷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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