一种触摸屏电极的制备方法技术

一种触摸屏电极的制备方法，所述的方法包括如下步骤：在透明基材上生成一透明导电膜层；在所述透明导电膜层上生成一金属膜层；对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化，生成触控感应图案和金属引出线图案；在所述金属引出线图案上生成一层保护层；及腐蚀掉无保护层区域的金属膜层。本发明专利技术摒弃传统的黄光工艺，采用简单的引出线保护和腐蚀金属的方法取代了遮蔽镀膜和丝网印刷银浆的传统技术，提供了一种简单、高效的触摸屏电极制作工艺。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】，所述的方法包括如下步骤：在透明基材上生成一透明导电膜层；在所述透明导电膜层上生成一金属膜层；对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化，生成触控感应图案和金属引出线图案；在所述金属引出线图案上生成一层保护层；及腐蚀掉无保护层区域的金属膜层。本专利技术摒弃传统的黄光工艺，采用简单的引出线保护和腐蚀金属的方法取代了遮蔽镀膜和丝网印刷银浆的传统技术，提供了一种简单、高效的触摸屏电极制作工艺。【专利说明】
本专利技术涉及触摸屏领域，特别涉及。
技术介绍
触摸屏是一种输入设备，能够方便实现人与计算机及其它便携式移动设备的交互作用。近年来，基于氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜的电容触摸屏，特别是投射式电容屏能进行多指识别，实现多点触控，被广泛应用于移动互联设备，如智能手机，便携式平板电脑。 传统的触摸屏的制作工艺主要有“湿制工艺”和“干制工艺”两种，所谓的“湿制工艺”就是采用黄光工艺来刻蚀触摸屏所需的ITO和金属图案；其主要工艺流程为:首先，在基底上沉积ΙΤ0，接着采用黄光工艺刻蚀出ITO电极图案；其次，在透明导电膜层沉积上一层金属合金膜，再一次用黄光工艺刻蚀出金属图案；再者，压合绑定相应的FPC，至此一个触摸屏已基本制备完成；最后可以在基底的非镀膜面和线路面分别贴合其他的膜层(如静电膜、防爆膜、双面胶等)，以起到保护或与相应的应用部件相匹配的作用。干制工艺与湿制工艺的差异在于在ITO和金属膜层上刻蚀电极图案的方法，在干制工艺中，采用激光工艺刻蚀ΙΤ0，而金属图案则采用丝网印刷银浆或铝浆等方式完成。 湿制工艺中采用的黄光工艺繁杂，包括印刷可剥胶、曝光、显影、脱胶、清洗、酸腐蚀、清洗等诸多工序，因此，该工艺具有良品率低且设备成本高等缺点。而在干制工艺过程中对金属线路采用丝网印刷方式制作，其线宽线距大，造成金属走线的占用面积太大，这与目前的市场需求趋势相悖，而且材料成本太高、印刷精度要求太高，严重制约了产品良率和产能，生产成本较高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中存在的问题，提供。 本专利技术是这样实现的，，所述的方法包括如下步骤:在透明基材上生成一透明导电膜层；在所述透明导电膜层上生成一金属膜层；对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化，生成触控感应电极图案和金属引出线图案；在所述金属引出线图案上生成一保护层；及腐蚀掉无保护层区域的金属膜层。 优选地，所述透明导电膜层的材料为高分子透明导电材料，包括ΙΤ0、ΑΖ0、ΒΖ0、GZ0、石墨烯的一种或多种。 优选地，所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用磁控溅射镀膜、蒸发镀膜或化学气相沉积法将透明导电膜层在透明基材上生成。 优选地，所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用转移、贴附石墨烯法将透明导电膜层在透明基材上生成。 优选地，所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用涂覆、印刷的方法将透明导电膜层在透明基材上生成。 优选地，在所述透明导电膜层上生成一金属膜层为采用物理溅射沉积法、蒸发镀膜法或电镀法将金属膜层在透明导电膜层上生成，所述的构成金属膜层的金属材料为铝、银、铜或其合金膜。 优选地，所述对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化，生成触控感应电极图案和金属引出线图案为采用激光或机械刻划制作触控感应电极图案，将透明导电膜层和金属膜层同时刻透，一次性生成触控感应电极图案。 优选地，所述在所述金属引出线图案上生成一保护层为印刷或涂布在金属引出线图案上。 优选地，所述腐蚀掉无保护层区域的金属膜层采用腐蚀剂且所述腐蚀剂与所述金属膜相对应酸碱性。 优选地，所述的触摸屏电极可为单一驱动电极、单一感应电极、或包含驱动电极和感应电极的单层复合电极。 本专利技术有如下优点: 采用透明导电膜触控电极图案和金属引出线图案同时完成，摒除了黄光工艺的缺点；电极图案完成后，在金属引出线图案上方做一保护层，采用特殊的腐蚀处理方式，去掉透明导电膜触控区上的金属膜层，安全可靠，良品率高。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术工艺流程示意图； 图2是本专利技术刻划复合膜平面图； 图3是本专利技术保护层印刷平面图； 图4是本专利技术PIN脚区保护胶带平面图。 【具体实施方式】 为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。 如图1?4所示的触摸屏电极的制备方法，包括如下步骤:在透明基材上生成一透明导电膜层；在所述透明导电膜层上生成一金属膜层；对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化，生成触控感应电极图案和金属引出线图案；在所述金属引出线图案上生成一保护层；及腐蚀掉无保护层区域的金属膜层。 所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用磁控溅射镀膜、蒸发镀膜或化学气相沉积法、将透明导电膜层在透明基材上生成。所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用转移、贴附石墨烯法将透明导电膜层在透明基材上生成。所述在透明基材上生成一透明导电膜层为采用涂覆、印刷的方法将透明导电膜层在透明基材上生成。在所述透明导电膜层上生成一金属膜层为采用物理溅射沉积法、蒸发镀膜法或电镀法将金属膜层在透明导电膜层上生成，所述的构成金属膜层的金属材料为铝、银、铜或其合金膜。所述对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化，生成触控感应电极图案和金属引出线图案为采用激光或机械刻划制作触控感应电极图案，将透明导电膜层和金属膜层同时刻透，一次性生成触控感应电极图案。所述在所述金属引出线图案上生成一保护层为印刷或涂布在金属引出线图案上。所述腐蚀掉无保护层区域的金属膜层采用腐蚀剂且所述腐蚀剂与所述金属膜相对应酸碱性。所述的触摸屏电极可为单一驱动电极、单一感应电极、或包含驱动电极和感应电极的单层复合电极。 以下结合具体实施例详细介绍本专利技术。 实施例一 1、参见图la、图2，用单片基板制备面板层1，在单片基板上的四周形成非视窗区11，非视窗区围成的中间区域为视窗触控区12。 本专利技术单片基板可选用玻璃，厚度0.4mm?1.2mm,优选0.7mm±0.1mm与 1.lmm±0.1mm与0.55mm±0.1mm。在具体实施例中,所述单片基板为单片面板玻璃,其厚度为0.7mm,经化学硬化处理，制成表面硬度大于6H以上的硬化面板玻璃。清洗后表面经油墨丝印成四周油墨的非视窗区11和中央透明的视窗触控区12，采用高温油墨，两次网版丝印，厚度为0.005?0.02mm ;油墨经过温度200?250°C退火，时间为20?120分钟，成为可带LOGO及键盘等装饰硬化面板玻璃。 2、参见图lb、图2、图3，在面板层I上生成一层透明导电薄膜层2，覆盖12区或整个视窗触控区12和非视窗油墨区11 ;透明导电薄膜层2的材料可选择ΙΤΟ、ΑΖΟ、ΒΖ0, FTO或石墨烯等透明高分子导电材料的一种或多种。 在具体实施例中，所述的透明导电薄膜层2，材料为ΙΤ0，采用溅射工艺制备在所述单片基板的表面上，覆盖整个视窗触控区12和非视窗油墨区11，ITO膜厚为100埃?500埃。 3、参见图lc、图2、图3，在透明导电膜层上生成金属膜层3，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸屏电极的制备方法，其特征在于，所述的方法包括如下步骤：在透明基材上生成一透明导电膜层；在所述透明导电膜层上生成一金属膜层；对所述透明导电膜层和金属膜层的复合膜层进行图案化，生成触控感应电极图案和金属引出线图案；在所述金属引出线图案上生成一保护层；及腐蚀掉无保护层区域的金属膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨与胜，庄辉虎，
申请(专利权)人：福建省辉锐材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35