本发明专利技术涉及一种定位装置，其具有多个导正机构，导正机构适于将具有多个对位部的载体定位于载台上，各导正机构包括定位块、转动件、转动辅助件以及吸震件。定位块具有容置空间并锁附于载台上。转动件设置于容置空间内并从容置空间凸出于定位块的表面，转动件适于相对于对位部的移动而转动。转动件可旋转地连接于转动辅助件，转动辅助件沿移动轴线可移动地设于定位块上，移动轴线与载台表面之间具有倾斜角。吸震件设于转动辅助件与定位块之间，使得转动辅助件适于通过吸震件吸收冲击于转动件的负荷而相对于定位块移动。本发明专利技术有效降低载体与定位机构的磨耗程度，抑制微粒产生的机率以提高合格率，延长载体与定位机构的使用寿命，降低制作成本。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种定位装置，且特别涉及一种具有吸震效果的定位装置。技术背景近年来，随着产业日益发达，为了提高产品的产能以及制造合格率，对 于生产机械设备的需求也日益增加。其中，机械设备的定位装置为影响产品 产能以及合格率的重要因素。举例而言，生产机械设备的定位装置的精确度 越高，越能确保载体在生产机械设备中进行生产时的位置精确度，避免载体 因位置偏移而产生损坏，因此产能就能适度提高。再者，生产机械设备的定 位装置精确时，载体中所承载的待处理物在生产机械设备中所进行的工艺合 格率越高。因此，机械设备的定位装置的优劣攸关产品的制造成本，进而影 响产业的竞争力。传统的定位装置中用以导正载体位置的导正机构主要是由一固定于载 台上的定位块所组成，而载体的载放位置通过定位块的一斜面而导入载台上 的预定位置上。图1为公知一种定位装置中的导正机构的示意图。请参照图1，定位装置100中的各导正机构110主要是由定位块112所构成，而定位 块112上具有导正斜面112S以及贯孔114，其中定位块112通过贯孔114 而锁固于载台120上。如图1所示，两个定位块110在载台120上构成预定 载放空间130，其导正斜面112S分别位于预定载放空间130的两侧，当载体 140从载台120的上方放置于载台120上时，载体140可通过定位块112的 导正斜面112S的引导而定位在预定载放空间130上。然而，当载体140的重量增大时，施加于定位块112的导正斜面112S 上的载体140重量会使定位块112与载体140之间产生严重的磨耗。此外， 当定位装置100经长时间运作之后，随着载体140的载放次数增多，载体140 与定位块112之间也会因频繁地接触而产生磨耗。如此一来，载体140与定 位块112之间的磨耗不但容易产生微粒(particle)，降低生产线洁净度，影响工艺合格率。另一方面，载体140与定位块112之间的磨耗也会使得载体140 与定位块112造成损伤，导致载体140或定位块112的使用寿命縮短，增加 制作成本。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术的目的在于提供一种定位装置，其具有吸震特性 以及转动特性的导正机构，可以有效降低载体与导正机构之间的磨耗。为了实现上述目的，本专利技术提出一种定位装置，其具有多个导正机构， 导正机构适于将具有多个对位部的载体定位于载台上，对位部适于分别定位 在两个导正机构之间，其中每一导正机构包括定位块、转动件、转动辅助件 以及吸震件。定位块具有容置空间并锁附于载台上。转动件设置于容置空间 内且从容置空间凸出于定位块的表面，转动件适于相对于对位部的移动而转 动。转动件可旋转地连接于转动辅助件，且转动辅助件沿一移动轴线可移动 地设于定位块上，移动轴线与载台表面之间具有倾斜角。吸震件设于转动辅 助件与定位块之间，使得转动辅助件适于通过吸震件吸收冲击于转动件的负 荷而相对于定位块移动。在本专利技术的一实施例中，上述的定位装置还可以包括固定件，且定位块 具有导孔，其中固定件的一端固定于转动辅助件上，而固定件的另一端适于 在导孔内移动。此时，吸震件例如是套设于固定件上，而固定件包括螺丝或 卡榫。在本专利技术的一实施例中，上述的转动辅助件例如为轴杆，而转动件枢设 于轴杆上。在本专利技术的一实施例中，上述的转动件例如为滚轮，而转动件还可以包括一设置于滚轮以及转动辅助件之间的轴承，且滚轮的外周面的角隅处实质上可以呈圆弧角。在本专利技术的一实施例中，上述的吸震件例如为弹簧、橡胶或弹片。 在本专利技术的一实施例中，上述的倾斜角例如为45度。 在本专利技术的一实施例中，上述的转动件例如为滚球，容置空间例如为球窝，而转动辅助件例如为球轴承，球轴承具有邻近滚球的多个从动滚珠，从动滚珠与滚球接触。4在本专利技术的一实施例中，上述的定位装置还可以包括一静电刷，该静电 刷设置于转动件的转动路径上，且静电刷与转动件的外周面的至少部分接 触。基于上述，由于本专利技术的定位装置中设置吸震件以及转动件，可以有效 降低载体与定位机构的磨耗程度，抑制微粒产生的机率以提高合格率，并且 延长载体与定位机构的使用寿命，进而降低制作成本。为了使本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举 较佳实施例并配合所附附图作详细说明如下。附图说明图1为公知一种定位装置中的导正机构。图2为本专利技术一实施例的定位装置的上视示意图。图3A与图3B分别为本专利技术的定位装置中一种导正机构的立体分解图与 剖面图。图4为图3B的导正机构的另一种状态的剖面图。 图5A为本专利技术的一种导正机构的俯视示意图。 图5B为本专利技术的另一种导正机构的立体示意图。图6A与图6B分别为本专利技术的第二实施例的另一种应用于定位装置中的 导正机构的立体分解图与剖面图。其中，附图标记说明如下100、200:定位装置110、210、 310、 410、 510:导正机构112、240:定位块112S:导正斜面114、244:贯孔120、202:载台130:预定载放空间140、220:载体222:对位部230:预定载放空间24 2:容置空间246:导孔248:内壁250:转动件252:滚轮254:轴承260:转动辅助件270:吸震件280:固定件290:静电刷520:滚球 540:球轴承 A:移动轴线 F:冲力FN:法线冲力PB:位置530:球窝 542:从动滚珠C:角隅处FT:切线冲力PA:位置S:移动行程倾斜角具体实施方式第一实施例图2为本专利技术一实施例的定位装置的上视示意图。请参照图2，定位装 置200具有多个导正机构210，其中导正机构210适于将具有多个对位部222 的载体220定位于载台202上，详言之，相邻的两个导正机构210之间构成 一预定载放空间230，当载体220被载放至载台202上时，载体220上的各 对位部222适于分别被定位于相邻两个导正机构210所构成的预定载放空间 230上，由此，载体220可被确切地载放在载台202的预定位置上，避免载 体220在载台202上的载放位置产生偏移(shift)，影响后续工艺。这里要说 明的是，载体220可以是存放待处理物(例如基板)的卡匣(cassette)，也可 以是直接待进行处理的待处理物(例如基板)，此时基板可利用其角落(comer) 作为对位部，本专利技术并不用以限定载体220的种类。图3A与图3B分别为本专利技术的定位装置中一种导正机构的立体分解图与 剖面图。请同时参照图3A与图3B，每一导正机构210主要是由定位块240、 转动件250、转动辅助件260以及吸震件270所构成。定位块240具有容置 空间242并锁附于载台202上，其中锁附的方式可以通过螺丝穿过定位块240 的贯孔244而固定在载台202上。转动件250设置于容置空间242内并从容 置空间242凸出于定位块240的表面，使得转动件250适于相对于对位部222 的移动而转动，将详述于图4。承上所述，转动件250可旋转地连接于转动辅助件260，换言之，转动 件250相对于转动辅助件260具有至少一个自由度的旋转方向。另外，如图 3A与图3B所示，转动辅助件260相对于定位块的底面241水平地设置于定位块240的导孔243中，此导孔243的宽度尺寸大致与转动辅助件260的直 径尺寸相同，并沿一移本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种定位装置，具有多个导正机构，其中每一所述导正机构包括：一定位块，具有一容置空间；一转动件，设置于该容置空间内且从该容置空间凸出于该定位块的表面；一转动辅助件，该转动件可旋转地连接于该转动辅助件，且该转动辅助件沿一移动轴线可移动地设于该定位块的一导孔中，该移动轴线与该定位块底面之间具有一倾斜角；以及 一吸震件，设于该转动辅助件与该定位块之间，使得该转动辅助件适于通过该吸震件吸收冲击于该转动件的负荷而相对于定位块移动。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：庄忠谚，陈建宏，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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