一种玻璃基板的涂胶方法技术

一种玻璃基板的涂胶方法，属于平板显示面板的加工工艺领域。其特征在于包括如下步骤：（1）对玻璃基板进行预清洗，并使玻璃基板洁净干燥；（2）之后在紫外光下进行照射，使ITO玻璃基板的导电层表面活化；（3）用传送带把玻璃基板传送到涂胶机的传送辊上，当玻璃基板经过支撑辊和涂胶辊之间时，把经过匀胶的涂胶辊上的光刻胶均匀涂覆在玻璃基板上。本发明专利技术所述的采用辊涂法在玻璃基板上涂布正性光刻胶，研究光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量、涂胶速度和供胶量对涂胶厚度和涂胶均匀性的影响，得出优化涂胶厚度和涂胶均匀性的方法，可有效的解决现有工艺所带来的问题，本工艺操作简单且易于推广。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】，属于平板显示面板的加工工艺领域。其特征在于包括如下步骤：（1）对玻璃基板进行预清洗，并使玻璃基板洁净干燥；（2）之后在紫外光下进行照射，使ITO玻璃基板的导电层表面活化；（3）用传送带把玻璃基板传送到涂胶机的传送辊上，当玻璃基板经过支撑辊和涂胶辊之间时，把经过匀胶的涂胶辊上的光刻胶均匀涂覆在玻璃基板上。本专利技术所述的采用辊涂法在玻璃基板上涂布正性光刻胶，研究光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量、涂胶速度和供胶量对涂胶厚度和涂胶均匀性的影响，得出优化涂胶厚度和涂胶均匀性的方法，可有效的解决现有工艺所带来的问题，本工艺操作简单且易于推广。【专利说明】
本专利技术属于平板显示面板的加工工艺领域，尤其涉及。
技术介绍
在IXD行业，涂胶工艺是指在玻璃基板上涂布一定厚度光刻胶的制造工艺。光刻胶涂布的厚度和均匀性直接影响细微光刻电路图形的精度，对电子产品的集成度和合格率有着极为重要的影响。影响光刻胶涂胶厚度和涂胶均匀性的因素很多，主要有涂胶方法、光刻胶黏度、环境温度和湿度等。玻璃基板上涂胶比较常用的涂胶方法有辊涂法、浸涂法和旋涂法三种。在涂胶后容易出现玻璃基板涂胶后光刻胶表面出现气泡和针孔；光刻胶与ITO玻璃基板粘附不良，甚至出现脱落，导致不耐刻蚀，甚至报废；在金相显微镜下却能看到电路图形侧壁不陡直、有毛刺、锯齿形现象或出现短路等问题。
技术实现思路
本专利技术旨在提供种可以解决上述问题的基于玻璃基板的涂胶方法。 ，其特征在于包括如下步骤:(1)对玻璃基板进行预清洗，并使玻璃基板洁净干燥；(2)之后在紫外光下进行照射，使ITO玻璃基板的导电层表面活化；(3)用传送带把玻璃基板传送到涂胶机的传送辊上，当玻璃基板经过支撑辊和涂胶辊之间时，把经过匀胶的涂胶辊上的光刻胶均匀涂覆在玻璃基板上。 本专利技术所述的，其特征在于所述的光刻胶的粘度为黏度在 20 mPa.s ?25 mPa.S。 本专利技术所述的，其特征在于所述的光刻胶的供胶量为10mT,/miη 以上。 本专利技术所述的，其特征在于所述的涂胶辊上设置有沟槽，沟槽深度为80 μπι?200μηι。 本专利技术所述的，其特征在于所述的涂胶厚度为L 3 μ m ?L 7 μ m0 本专利技术所述的，其特征在于所述的涂胶速度为4m/min ?5m/min。 本专利技术所述的采用辊涂法在玻璃基板上涂布正性光刻胶，研究光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量、涂胶速度和供胶量对涂胶厚度和涂胶均匀性的影响，得出优化涂胶厚度和涂胶均匀性的方法，可有效的解决现有工艺所带来的问题，本工艺操作简单且易于推广。 【具体实施方式】 本专利技术所述的，其特征在于包括如下步骤: (1)对玻璃基板进行预清洗，并使玻璃基板洁净干燥；(2)之后在紫外光下进行照射，使ITO玻璃基板的导电层表面活化；(3)用传送带把玻璃基板传送到涂胶机的传送辊上，当玻璃基板经过支撑辊和涂胶辊之间时，把经过匀胶的涂胶辊上的光刻胶均匀涂覆在玻璃基板上。 本专利技术所述的，其特征在于所述的光刻胶的粘度为黏度在20 mPa*s?25 mPa*s。光刻胶黏度是影响涂胶厚度的主要参数之一。实验表明，涂胶厚度和光刻胶黏度正相关，随着黏度升高而变大。 本专利技术所述的，其特征在于所述的光刻胶的供胶量为10mT,/miη 以上。 本专利技术所述的，其特征在于所述的涂胶辊上设置有沟槽，沟槽深度为80 μ m?200 μ m。沟槽越深，涂胶厚度就越大。但是沟槽太深，厚度调节范围大，厚度波动也大。沟槽太浅，涂胶厚度小，涂胶辊使用寿命短，且涂胶厚度不稳定，难控制。 本专利技术所述的，其特征在于所述的涂胶厚度为1.3μπι?1.7μπι。涂胶厚度和压入量成反比，即压入量越大，涂胶厚度越小。涂胶厚度在(1.5±0.2)μπι时，能够获得稳定的精密电路图形。 本专利技术所述的，其特征在于所述的涂胶速度为4m/min?5m/min。涂胶速度调节到在4m/min?5m/min,涂胶均勻性达到最佳效果。【权利要求】1.，其特征在于包括如下步骤: (1)对玻璃基板进行预清洗，并使玻璃基板洁净干燥； (2)之后在紫外光下进行照射，使ITO玻璃基板的导电层表面活化； (3)用传送带把玻璃基板传送到涂胶机的传送辊上，当玻璃基板经过支撑辊和涂胶辊之间时，把经过匀胶的涂胶辊上的光刻胶均匀涂覆在玻璃基板上。2.如权利要求1所述的，其特征在于所述的光刻胶的粘度为黏度在 20mPa.s ?25mPa.S。3.如权利要求1所述的，其特征在于所述的光刻胶的供胶量为10 mL/min以上。4.如权利要求1所述的，其特征在于所述的涂胶辊上设置有沟槽，沟槽深度为80 μ m?200 μ m。5.如权利要求1所述的，其特征在于所述的涂胶厚度为1.3 μ m ~ 1.7 μ m。6.如权利要求1所述的，其特征在于所述的涂胶速度为4m/min ?5m/min。【文档编号】B05C1/08GK104174539SQ201410332927【公开日】2014年12月3日 申请日期:2014年7月14日 优先权日:2014年7月14日 【专利技术者】贾卫东, 魏军锋 申请人:西安三威安防科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种玻璃基板的涂胶方法，其特征在于包括如下步骤：（1）对玻璃基板进行预清洗，并使玻璃基板洁净干燥；（2）之后在紫外光下进行照射，使ITO玻璃基板的导电层表面活化；（3）用传送带把玻璃基板传送到涂胶机的传送辊上，当玻璃基板经过支撑辊和涂胶辊之间时，把经过匀胶的涂胶辊上的光刻胶均匀涂覆在玻璃基板上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：贾卫东，魏军锋，
申请(专利权)人：西安三威安防科技有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西;61