利用单晶硅和/或其它材料形成的用于光学和其它应用的结构制造技术

一种光学插入件，包括用于耦接到换能器(120)的波导104(例如，光纤线缆)的槽(310)。通过在衬底(130)中蚀刻腔(410)，以某些层(520)填充所述腔，然后蚀刻所述层来形成槽。所述槽可以形成在分立结构中，然后将该分立结构插入到具有用于换能器的电路的插入件中的腔中。所述腔具有向外或向内倾斜的侧壁，其可以作为反射镜(144)或者后来在其上形成反射镜。衬底可以将单晶硅，其中通过不同蚀刻的组合形成所述向内倾斜的(退行)侧壁，所述组合中的至少一个是相对于特定晶面选择性的。还提供了其它特征，包括非光学实施例。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种衬底，其包括单晶硅区域，所述区域包括：第一表面，其是单晶硅的晶面；以及第二表面，其是单晶硅的晶面；其中所述第一表面和第二表面以135°或125.3°的角度彼此相遇，所述角度是通过单晶硅所占据的空间测量的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：V·科森科，E·L·麦克拜恩，C·E·乌佐，P·蒙纳德吉米，S·萨瓦斯蒂奥科，
申请(专利权)人：伊文萨斯公司，
类型：发明
国别省市：美国;US