发光器件的制造方法及发光器件技术

本发明专利技术提供一种发光器件的制造方法及发光器件。在使用掩模在与基板上的各像素相对应的各区域形成发光层的发光器件的制造方法中，试图进一步提高制造工序的效率。在借助于掩模的第一开口及至少一个第二开口用发出第一光谱的光的第一发光材料在基板上形成图案后，使掩模沿第一开口的长边方向移动比第一开口的长边方向上的第一开口的宽度短且为第一开口的长边方向上的至少一个第二开口的宽度以上的距离的量，并借助于掩模的第一开口及至少一个第二开口，用发出第二光谱的光的第二发光材料在基板上形成图案。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种发光器件的制造方法及发光器件。在使用掩模在与基板上的各像素相对应的各区域形成发光层的发光器件的制造方法中，试图进一步提高制造工序的效率。在借助于掩模的第一开口及至少一个第二开口用发出第一光谱的光的第一发光材料在基板上形成图案后，使掩模沿第一开口的长边方向移动比第一开口的长边方向上的第一开口的宽度短且为第一开口的长边方向上的至少一个第二开口的宽度以上的距离的量，并借助于掩模的第一开口及至少一个第二开口，用发出第二光谱的光的第二发光材料在基板上形成图案。【专利说明】发光器件的制造方法及发光器件
本专利技术涉及发光器件的制造方法及发光器件。
技术介绍
以前，已知一种使用掩模对与基板上的各像素相对应的各区域蒸镀发光层的方法 (例如，专利文献1及专利文献2)。 专利文献1 :日本特开第2011-165581号公报 专利文献2 :日本特开第2010-40529号公报
技术实现思路
在使用掩模对与基板上的各像素相对应的各区域形成发光层的发光器件的制造 方法中，要求进一步提1?制造工序的效率。 本专利技术的一方式所涉及的发光器件的制造方法包括：掩模配置工序，在基板上配 置具有第一开口以及沿第一开口的长边方向配置的至少一个第二开口的掩模；第一图案形 成工序，在掩模配置工序之后，借助于掩模的第一开口及至少一个第二开口，用发出第一光 谱的光的第一发光材料在基板上形成图案；第一掩模移动工序，在第一图案形成工序之后， 使掩模沿第一开口的长边方向移动比第一开口的长边方向上的第一开口的宽度短且为第 一开口的长边方向上的至少一个第二开口的宽度以上的距离的量，使掩模沿第一开口的长 方向移动；以及第二图案形成工序，在第一掩模移动工序之后，借助于掩模的第一开口及至 少一个第二开口，用发出与第一光谱不同的第二光谱的光的第二发光材料在基板上形成图 案。 在上述发光器件的制造方法中，也可以：在第一掩模移动工序中，使掩模沿第一开 口的长边方向移动等间隔配置了的至少一个第二开口中的相邻两个第二开口之间的中心 间距离的约1/2的距离的量。 上述发光器件的制造方法可以进一步包括：第二掩模移动工序，在第二图案形成 工序之后，使掩模沿第一开口的长边方向移动比第一开口的长边方向上的第一开口的宽度 短且为第一开口的长边方向上的至少一个第二开口的宽度以上的距离的量；以及第三图案 形成工序，在第二掩模移动工序之后，借助于掩模的第一开口及至少一个第二开口，用发出 与第一光谱及第二光谱均不同的第三光谱的光的第三发光材料进行图案形成。 在上述发光器件的制造方法中，也可以：在第一掩模移动工序中，使掩模沿第一开 口的长边方向移动至少一个第二开口中的相邻两个第二开口之间的中心间距离的约1/3 的距离的量，并且在第二掩模移动工序中，使掩模沿第一开口的长边方向移动中心间距离 的约1/3的距离的量。 上述发光器件的制造方法可以进一步包括：第四掩模移动工序，使掩模沿第一开 口的短边方向移动比第一开口的短边方向上的第一开口的宽度与至少一个第二开口的宽 度之和长的距离的量；以及第四图案形成工序，在第四掩模移动工序之后，借助于掩模的第 一开口及至少一个第二开口，用第一发光材料在基板上形成图案。 上述发光器件的制造方法可以进一步包括：第五掩模移动工序，在第四图案形成 工序之后，使掩模沿第一开口的长边方向移动比第一开口的长边方向上的第一开口的宽度 短且为第一开口的长边方向上的至少一个第二开口的宽度以上的距离的量；以及第五图案 形成工序，在第五掩模移动工序之后，借助于掩模的第一开口以及至少一个第二开口，用第 二发光材料在基板上形成图案。 本专利技术的一方式所涉及的发光器件具备：第一电极层和第二电极层；以及发光材 料层，配置在第一电极层与第二电极层之间。发光材料层具有：第一发光层，由发出第一光 谱的光的第一发光材料形成；以及第二发光层，具有与第一发光层大致相同的形状，相对于 第一发光层沿面方向错开预定距离并层叠在从第一发光层上开始到与第一发光层同一面 内为止的范围，并且由发出与第一光谱不同的第二光谱的光的第二发光材料形成。 在上述发光器件中，发光材料层可以进一步具有：第三发光层，在与第一发光层同 一面内的第一区域由第一发光材料形成；以及第四发光层，在与第一发光层同一面内的第 二区域由第二发光材料形成。第三发光层与第四发光层之间的中心间距离是预定距离。 在上述发光器件中，第三发光层及第四发光层可以沿第一发光层及第二发光层的 长边方向配置。 在上述发光器件中，第三发光层及第四发光层可以相邻于第一发光层与第二发光 层相重叠的区域来进行配置。 在上述发光器件中，发光材料层可以进一步具有第五发光层，该第五发光层具有 与第一发光层及第二发光层大致相同的形状，相对于第二发光层沿面方向错开预定距离并 层叠在从第二发光层上开始到与第一发光层同一面内为止的范围，并且由发出与第一光谱 及第二光谱均不同的第三光谱的光的第三发光材料形成。 在上述发光器件中，发光材料层可以进一步具有第六发光层，该第六发光层在与 第一发光层同一面内的第三区域由第三发光材料形成。 在上述发光器件中，第六发光层可以沿第一发光层、第二发光层及第五发光层的 长边方向与第三发光层及第四发光层并列配置。 在上述发光器件中，第六发光层可以相邻于第一发光层和第二发光层和第五发光 层相重叠的区域来进行配置。 另外，上述
技术实现思路
并未列举出本专利技术的全部必要特征，这些特征组的子组合也 能构成专利技术。 【专利附图】【附图说明】 图1为本实施方式所涉及的发光器件的俯视图。 图2A为掩模的俯视图。 图2B为掩模的俯视图。 图3A是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图3B是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图3C是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图3D是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图3E是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图3F是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图3G是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图3H是表示本实施方式所涉及的发光器件的制造方法的各工序的说明图。 图4A为图3H所示的A-A截面图。 图4B为图3H所示的B-B截面图。 图5为其他例所涉及的发光器件的俯视图。 图6为其他例所涉及的掩模的俯视图。 图7为其他例所涉及的掩模的俯视图。 【具体实施方式】 以下，通过专利技术实施方式对本专利技术进行说明，但以下实施方式并不对权利要求书 所涉及的专利技术进行限定。并且，在实施方式中说明的特征组合也并非全部为本专利技术的必要 特征。 图1是表示本实施方式所涉及的发光器件的俯视图。发光器件具有基板10。基板 10具有相互分离配置的第一发光层区域101、第二发光层区域102、第三发光层区域103及 第四发光层区域104。在第一发光层区域101形成有发射红色R光的红色发光层，该红色R 光为第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光器件的制造方法，其中，包括：掩模配置工序，在基板上配置具有第一开口以及沿所述第一开口的长边方向配置的至少一个第二开口的掩模；第一图案形成工序，在所述掩模配置工序之后，借助于所述掩模的所述第一开口及所述至少一个第二开口，用发出第一光谱的光的第一发光材料在所述基板上形成图案；第一掩模移动工序，在所述第一图案形成工序之后，使所述掩模沿所述第一开口的长边方向移动比所述第一开口的长边方向上的所述第一开口的宽度短且为所述第一开口的长边方向上的所述至少一个第二开口的宽度以上的距离的量；以及第二图案形成工序，在所述第一掩模移动工序之后，借助于所述掩模的所述第一开口及所述至少一个第二开口，用发出与所述第一光谱不同的第二光谱的光的第二发光材料在所述基板上形成图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：山岸英雄，林明峰，
申请(专利权)人：株式会社钟化，
类型：发明
国别省市：日本;JP