记录装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种记录装置，其能够防止在左右的突出部分碰到异物时损伤异物或使记录装置自身受损。记录装置具有：支承记录介质（A）的支承载台（11）；具有对所支承的记录介质（A）实施记录的记录单元（31）并以在X轴方向上横切支承载台（11）的方式被架设的记录处理部（12）；使记录处理部（12）相对于支承载台（11）而沿Y轴方向进行移动的Y轴移动部（13）；对异物向记录处理部（12）的碰撞进行检测的碰撞检测部（101），记录处理部（12）具有相对于支承载台（11）而向X轴方向突出的突出部（12a），侧碰撞检测部分（107）分别被配置于各个突出部（12a）的前侧和后侧。

【技术实现步骤摘要】
记录装置
本专利技术涉及使记录单元相对于载台上的记录介质而进行移动来实施记录的、所谓平板式的记录装置。
技术介绍
以往，作为这种记录装置，已知有如下的记录装置，其具有:支承记录介质的载台部、具有与载台部对置的记录单元并在载台部上沿左右方向横切的Y轴单元、使Y轴单元沿X轴方向进行移动的X轴移动机构(参照专利文献I)。该Y轴单元具有超过载台部而沿左右方向延伸的左右一对突出部。 然而，在这样的结构中，当利用X轴移动机构使Y轴单元移动时，可能有异物碰撞到从载台部伸出的左右的突出部上。此时，存在如下问题，即，如果继续驱动X轴移动机构，则不仅会损伤异物，还会使记录装置自身受损。 专利文献1:日本特开2012-210781号公报
技术实现思路
本专利技术的课题在于提供一种当异物与左右的突出部碰撞时，能够防止损伤异物或使记录装置自身受损的记录装置。 本专利技术的记录装置的特征在于，具有:载台，其具有支承记录介质的支承面；记录处理部，其具有对支承在载台上的记录介质实施记录的记录单元，并以在第I方向上横切载台的方式被架设；第I移动部，其使记录处理部相对于载台在与第I方向交叉并且沿着支承面的第2方向上进行移动；第I碰撞检测部，其对异物向记录处理部的碰撞进行检测，记录处理部具有相对于载台而向第I方向突出的突出部，第I碰撞检测部被配置在突出部的第2方向的一侧以及另一侧中的至少一侧。 根据该结构，通过将与异物接触而检测碰撞的第I碰撞检测部配置于突出部的第2方向的一侧、另一侧，从而能够检测该突出部碰到异物的情况。因此，当该突出部碰到异物时，能够迅速实施第I移动部的驱动停止等，因此能够防止损伤异物或使记录装置自身受损。 在这种情况下，优选为，记录处理部具有相对于载台而在第I方向上重叠的重叠部，记录装置还具有第2碰撞检测部，该第2碰撞检测部被配置于重叠部的第2方向的一侧以及另一侧中的至少一侧，并对记录处理部与记录介质或者异物的碰撞进行检测。 根据该结构，通过将与记录介质或者异物接触而检测记录介质或者异物的碰撞的第2碰撞检测部配置于重叠部的第2方向的一侧、另一侧，从而能够检测出支承在载台上的记录介质碰到该重叠部的情况。因此，当记录介质的高度较高且记录介质碰到该重叠部时，能够迅速实施移动部的驱动停止等，因此能够有效地防止损伤记录介质或者使记录处理部自身受损。 在这种情况下，优选为第I碰撞检测部被配置于在第2方向上与第2碰撞检测部相比更突出的位置处。 根据该结构，配置于记录处理部的突出部上的第I碰撞检测部与配置于记录处理部的重叠部上的第2碰撞检测部相比，被配置于在第2方向突出的位置，由此当在第I方向上跨及载台的内外而存在异物的情况下，将先在第I碰撞检测部检测到碰撞。因此，异物对于重叠部的碰撞本身就不会发生，能够有效防止记录处理部的损伤。 在这种情况下，优选为，第I碰撞检测部被配置于与载台相比而较低的位置处。 如果将第I碰撞检测部配置于与载台相比而较高的位置，则存在对于比载台低的异物，而检测不到与突出部间的碰撞的问题。相对于此，根据上述结构，通过将第I碰撞检测部配置于与载台而较低的位置处，从而即便是比载台低的异物，仍能检测到其与突出部间的碰撞。 另外，优选为，第I碰撞检测部具有能够与异物接触的第I接触部。 根据该结构，通过具有第I接触部，能够高精度地检测异物的碰撞。 在这种情况下，优选为，还具有介质检测部，该介质检测部对记录单元与载台的对置方向上的记录单元与记录介质之间的距离进行检测，介质检测部具有:接触式的第I检测部，其进行记录单元与记录介质之间的距离的下限检测；光学式的第2检测部，其进行记录单元与记录介质之间的距离的上限检测。 如果由接触式的检测部构成上限检测以及下限检测的两检测部，则在正常的情况下也会成为与该检测部接触的状态，因此存在损伤记录介质的表面的可能性高的问题。另一方面，如果由光学式的检测部形成两检测部，则存在安装后的调整(特别是光轴调整)较为复杂的问题。相对于此，根据上述结构，通过将第I检测部形成为接触式，而将第2检测部形成为光学式，从而能够降低损伤记录介质的可能性，并容易进行安装后的调整。 在这种情况下，优选为，第I检测部具有多个第2接触部，该多个第2接触部沿第I方向并排配置且能与记录介质接触，多个第2接触部被支承于记录处理部。 根据该结构，通过将第2接触部在左右方向并排配置为多个，能够在记录介质的第I方向各位置处进行下限检测。因此，即使在第I方向上存在凹凸、挠曲(翘起)从而局部低于下限的情况下，也能够对此进行检测。另外，第2接触部被支承于记录处理部，由此能使第2接触部与记录处理部一起移动，因此能够在记录介质的第2方向各位置处进行下限检测。因此，即使在第2方向存在凹凸、挠曲(翘起)从而局部低于下限的情况下，也能够对此进行检测。 另外，优选为，记录处理部还具有:第2移动部，其使包括记录单元的活动体在记录单元与载台的对置方向上进行移动；第3碰撞检测部，其在使用第2移动部而使活动体在对置方向上进行移动的情况下，对异物向记录单元的碰撞进行检测。 根据该结构，当通过第2移动部而进行移动时，能够检测到异物被夹入活动体与载台(或者记录介质)之间的情况。因此，当夹入有异物时，能够迅速地实施第2移动部的驱动停止、活动体的分离移动等，因此能够有效地防止损伤异物或使记录装置自身受损。 【附图说明】 图1为表示本实施方式的记录装置的外观立体图。 图2为从后侧观察记录装置的外观立体图。 图3为表示省略了支承载台的一部分以及装置外壳的一部分的记录装置的主视图。 图4为表示支承载台以及Y轴移动部周围的A面剖视图。 图5为表示省略了装置外壳的记录处理部的立体图。 图6为表示省略可装置外壳的记录处理部的主视图。 图7为表示侧框架以及安装该侧框架的升降移动部周围的内侧视图。 图8为表示检测机构的概略侧视图。 图9为表示检测机构的概略主视图。 图10为表示记录装置所进行的记录动作的流程图。 【具体实施方式】 以下，参照附图对本专利技术的一实施方式的记录装置进行说明。该记录装置通过以喷墨方式喷出紫外线固化油墨从而在记录介质记录所需的图像。另外，本记录装置为使记录头相对于被支承在支承载台上的记录介质进行移动来进行记录的、所谓的平板式的记录装置。另外，作为记录介质，例如假设为厚纸、木材、瓷砖、塑料板、瓦楞板等厚度不同的记录介质。此外，如各图所示，规定X轴(左右)方向、Y轴(前后)方向以及Z轴(上下)方向并进行如下说明。Y轴方向以及X轴方向为沿着支承载台的支承面(安置面)的方向。另外，将图1中的近前侧设为记录装置的前侧，图1中的进深侧设为记录装置的后侧。 如图1至图3所示，记录装置I具有:由带有脚轮的4根腿部件10支承并支承记录介质A的支承载台(载台)11、具有与所支承的记录介质A对置的记录单元31的门式记录处理部12、支承记录处理部12并使记录处理部12相对于支承载台11而沿Y轴方向(第2方向)进行移动的Y轴移动部(第I移动部)13。记录处理部12以沿X轴方向(第I方向)横切支承载台11的方式被架设。另一方面，Y轴移动部13与支承载台11重叠地配置在该支承载台11的背面侧，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种记录装置，其特征在于，具备：载台，其具有支承记录介质的支承面；记录处理部，其具有对支承在所述载台上的所述记录介质实施记录的记录单元，并以在第1方向上横切上述载台的方式被架设；第1移动部，其使所述记录处理部相对于所述载台在与所述第1方向交叉并且沿着所述支承面的第2方向上进行移动；第1碰撞检测部，其对异物向所述记录处理部的碰撞进行检测，所述记录处理部具有相对于所述载台而向所述第1方向突出的突出部，所述第1碰撞检测部被配置在所述突出部的所述第2方向的一侧以及另一侧中的至少一侧。

【技术特征摘要】
2013.03.27 JP 2013-0659861.一种记录装置，其特征在于，具备: 载台，其具有支承记录介质的支承面； 记录处理部，其具有对支承在所述载台上的所述记录介质实施记录的记录单元，并以在第I方向上横切上述载台的方式被架设； 第I移动部，其使所述记录处理部相对于所述载台在与所述第I方向交叉并且沿着所述支承面的第2方向上进行移动； 第I碰撞检测部，其对异物向所述记录处理部的碰撞进行检测， 所述记录处理部具有相对于所述载台而向所述第I方向突出的突出部， 所述第I碰撞检测部被配置在所述突出部的所述第2方向的一侧以及另一侧中的至少一侧。2.如权利要求1所述的记录装置，其特征在于， 所述记录处理部具有相对于所述载台而在所述第I方向上重叠的重叠部， 所述记录装置还具有第2碰撞检测部，该第2碰撞检测部被配置于所述重叠部的所述第2方向的一侧以及另一侧中的至少一侧，并对所述记录处理部与所述记录介质或者所述异物的碰撞进行检测。3.如权利要求2所述的记录装置，其特征在于， 所述第I碰撞检测部被配置于在所述第2方向上与所述第2碰撞检测部相比而更突出的位置处。4.如权利要求1至3中任意一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：东海良次，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP