【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在光学设备中使用的光学器件的制造方法。
技术介绍
-直以来,在光通信、测量设备、半导体激光器等光学设备中使用标准具、1/2波长 板、1/4波长板等光学器件。 这些光学器件有的是通过将多片透明构件粘贴起来而构成的。 例如,若以标准具为例来进行说明,则提出了将2个透明构件接合起来而构成的气隙 型光学器件(例如参照专利文献1)。 这样的光学器件在透明构件的表面设有用于接合的金属膜,并在金属膜彼此重合的状 态下进行接合。 另外,还提出了例如在光透过的路径部分设置内部空间来接合多个透明构件这种状态 的光学器件(例如参照专利文献1)。 在制造由多个透明构件接合而成的光学器件时,使用例如由框部、形成为内部空间形 状的图案部、和将该图案部与框部连接起来的臂部所构成的掩模,在该掩模与透明构件重 合的状态下在掩模的间隙中形成金属膜。 在这种情况下,由于在臂部没有设置金属膜,因此,例如专利文献2所公开的那样形成 与外部连通的凹部。 现有专利文献 专利文献 专利文献1 :日本专利特开平09-257567号公报 专利文献2 :日本专利特开平06-258611号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题 在这样的现有光学器件中,由于形成了将内部空间与光学器件的外部空间连通的 凹部,因此,在透明构件上存在未设置金属膜的部分,从而如果长期使用,金属膜就有剥离 的危险性。 另外,由于进行接合的透明构件所使用的掩模是具有同一形状的图案,因此,透明构件 上未设置金属膜的部分会重叠从而形成将外部空间与内部空间连接起来的路径,因此,在 高温 ...
【技术保护点】
一种光学器件制造方法,用于制造由2个透明构件接合而成的光学器件,其特征在于,使用第一掩模和第二掩模,其中,所述第一掩模由至少一个第一臂部、与该第一臂部相连的形成为多边形或圆形的图案部、以及与该图案部相连接的框部构成,所述第二掩模由设置在与所述第一掩模的所述第一臂部不同方向上的至少一个第二臂部、与该第二臂部相连的形成为多边形或圆形的图案部、以及与该图案部相连接的框部构成,所述光学器件制造方法包括:第一透明构件片金属膜形成工序,在该第一透明构件片金属膜形成工序中,将第一掩模重叠到具有多个成为透明构件的部分的2个透明构件片中的一个透明构件片上,并在图案部与框部之间设置金属膜;第二透明构件片金属膜形成工序,在该第二透明构件片金属膜形成工序中,将第二掩模重叠到另一个透明构件片上,并在图案部与框部之间设置金属膜;接合工序,在该接合工序中,使所述一个透明构件片的金属膜侧与所述另一个透明构件片的金属膜侧相对,并在规定温度和规定压力下将这些透明构件片接合;以及切片工序,在该切片工序中,将相接合的所述2个透明构件片切断而得到各个光学器件。
【技术特征摘要】
2013.03.23 JP 2013-061195;2013.03.23 JP 2013-061191. 一种光学器件制造方法,用于制造由2个透明构件接合而成的光学器件,其特征在 于, 使用第一掩模和第二掩模,其中,所述第一掩模由至少一个第一臂部、与该第一臂部相 连的形成为多边形或圆形的图案部、以及与该图案部相连接的框部构成,所述第二掩模由 设置在与所述第一掩模的所述第一臂部不同方向上的至少一个第二臂部、与该第二臂部相 连的形成为多边形或圆形的图案部、以及与该图案部相连接的框部构成, 所述光学器件制造方法包括: 第一透明构件片金属膜形成工序,在该第一透明构件片金属膜形成工序中,将第一掩 模重叠到具有多个成为透明构件的部分的2个透明构件片中的一个透明构件片上,并在图 案部与框部之间设置金属膜; 第二透明构件片金属膜形成工序,在该第二透明构件片金属膜形成工序中,将第二掩 模重叠到另一个透明构件片上,并在图案部与框部之间设置金属膜; 接合工序,在该接合工序中,使所述一个透明构件片的金属膜侧与所述另一个透明构 件片的金属膜侧相对,并在规定温度和规定压力下将这些透明构件片接合;以及 切片工序,在该切片工序中,将相接合的所述2个透明构件片切断而得到各个光学器 件。2. 如权利要求1所述的光学器件制造方法,其特征在于, 所述第一臂部由一个臂部构成, 所述第二臂部由一个臂部构成。3. 如权利要求1所述的光学器件制造方法,其特征在于, 所述第一臂部是以所述图案部为交叉部分的X字形, 所述第二臂部是以所述图案部为交叉部分的十字形。4. 如权利要求1所述的光学器件制造方法,其特征在于, 在所述透明构件的一个主面上设有反射膜,且在另一个主面上设有防反射膜,并且在 所述防反射膜上设有所述金属膜。5. 如权利要求1所述的光学器件制造方法,其特征在于, 在设置所述金属膜时,使用溅射技术或蒸镀技术来进行。6. -种光学器件制造方法,用于制造由2个透明构件接合而成的光学器件,其特征在 于, 使用第一掩模和第二掩模,其中,所述第一掩模由至少一个第一臂部、与该第一臂部...
【专利技术属性】
技术研发人员:古坚由纪子,若林小太郎,石内真吾,伊东明则,
申请(专利权)人:京瓷晶体元件有限公司,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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