基板处理系统及基板反转装置制造方法及图纸

本发明专利技术是有关于一种基板处理系统及基板反转装置。其中该基板处理系统可连续地进行基板的反转，该基板处理系统具备：第1及第2搬送装置，借由相隔间隙配置的多个单位搬送要素搬送基板；以及基板反转装置，具备一对保持臂群，该一对保持臂群相对于旋转轴配置成旋转对称，且具有绕旋转轴旋转时通过单位搬送要素的间隙的多个保持臂，借由升降手段升降自如；在使一对保持臂群的一方的保持臂具备的多个吸附部吸附于反转对象基板的状态下，使吸附部吸附于反转对象基板，之后，借由使一对保持臂群绕旋转轴旋转180度，使基板反转；一对保持臂群，在基板吸附后、反转完成前的期间，上升地较基板交接位置高，在反转后、解除吸附时，下降至基板交接位置。

【技术实现步骤摘要】
基板处理系统及基板反转装置
本专利技术涉及一种对基板两面进行加工处理的基板处理系统，特别是涉及一种进行基板的反转的基板反转装置。
技术介绍
作为将玻璃基板等的脆性材料基板(以下，仅称为基板)加以分断的方法，广泛地使用下述方法，即使刀轮一边压接于基板的一面一边转动而形成刻划线后，使基板表面背面反转，以裂断杆按压另一面的先前形成的刻划线的正上方部位以进行裂断。上述情形，必须要有对基板一面形成刻划线后使该基板表面背面反转的机构。在液晶面板的制作过程中，一般而言，二片脆性材料基板贴合而成的也称为贴合基板的大的母基板，是借由刀轮进行的刻划线的形成分断，但作为上述分断的方法，广泛地使用下述方法，即使刀轮依序一边 压接于母基板的表面背面一边转动而形成刻划线、也即使刀轮依序一边压接于构成母基板的各脆性材料基板的表面一边转动而形成刻划线。此情形，也必须借由反转机构使基板反转。例如，具备将基板从上下夹入并使其反转的反转机构，将在基板的一面已形成刻划线的基板从上游侧暂时安装在该反转机构并使其反转，将反转后的基板交接至下游侧的装置的基板分断系统已为公知(例如，参照专利文献I)。专利文献1:日本特开2010-76957号公报
技术实现思路
专利文献I揭示的现有习知反转机构的情形，反转已完成的先前基板从反转机构搬出之前，无法开始下一个基板的反转。因此，会有无法进行连续分断处理且作业效率低的问题。本专利技术是有鉴于上述课题而构成，其目的在于提供一种新型结构的基板反转装置及具备此基板反转装置的基板处理系统，所要解决的技术问题是使其借由连续地进行基板的反转而能以高处理效率进行基板加工处理。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种基板处理系统，具备:第I搬送装置及第2搬送装置，分别将脆性材料基板往第I方向搬送；以及基板反转装置，配置在该第I搬送装置与该第2搬送装置之间，使被该第I搬送装置搬送来的该脆性材料基板反转并交接至该第2搬送装置；该第I搬送装置与该第2搬送装置，借由在与该第I方向正交的第2方向相隔间隙配置的多个单位搬送要素一边在下方支承一个该脆性材料基板一边搬送；该基板反转装置，具备:一对保持臂群，相对于往该第2方向延伸的旋转轴配置成旋转对称；旋转驱动手段，使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转；及升降手段，使该一对保持臂群在该第I搬送装置及该第2搬送装置的间，在交接该脆性材料基板的高度位置即基板交接位置与其上方之间升降；该一对保持臂群分别具有在该第2方向彼此分离配置且绕该旋转轴旋转时通过该间隙的多个保持臂；该多个保持臂分别具备可吸附于该脆性材料基板的多个吸附部；在该一对保持臂群配置在该基板交接位置的状态下，使属于该一对保持臂群的一方的该多个保持臂的该多个吸附部吸附于作为反转对象的该脆性材料基板即反转对象基板，之后，借由使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转180度，使该反转对象基板反转；该一对保持臂群，在该反转对象基板吸附于该多个吸附部后、该反转对象基板的反转完成前的期间，上升地较该基板交接位置高，在该反转对象基板的反转后、解除对该反转对象基板的该多个吸附部的吸附时，下降至该基板交接位置。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。前述的基板处理系统，其中该一对保持臂群位于该基板交接位置时的反转后的该反转对象基板的被该多个吸附部吸附的被吸附面的高度位置与该第2搬送装置的搬送高度位置相同，借由该第2搬送装置一边支承反转后的该反转对象基板一边进行对反转后的该反转对象基板的该吸附的解除。前述的基板处理系统，其中属于该一对保持臂群的一方的该多个保持臂的该多个吸附部、与属于该一对保持臂群的另一方的该多个保持臂的该多个吸附部，是设置成彼此的方向相异180度且两者的端部位置位于与该旋转轴平行的共通的平面上；该第I搬送装置的搬送高度位置与该第2搬送装置的搬送高度位置不同与该脆性材料基板的厚度相等的距离；在该一对保持臂群配置在该基板交接位置的状态下，大致同时进行对反转后的该反转对象基板的该多个吸附部的吸附的解除、与属于该一对保持臂群的另一方的该多个保持臂的该多个吸附部对被该第I搬送装置搬送来的新的反转对象基板进行的吸附。前述的基板处理系统，其中该旋转轴是在一端部具备圆板状的突缘部且另一端部连结于该旋转驱动手段的棒状的轴；该基板反转装置具有将该轴支承成可旋转且包含该升降手段的一对支承手段； 该突缘部相对于位于该一对支承手段的一方的筒状构件滑动自如地嵌合；设在该突缘部的第I贯通孔通过第I吸引配管与该吸附部连接，且设在该筒状构件的第2贯通孔借由第2吸引配管与吸引手段连接。本专利技术的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本专利技术提出的一种基板反转装置，是使往第I方向搬送的脆性材料基板反转，其具备:一对保持臂群，相对于往与该第I方向正交的第2方向延伸的旋转轴配置成旋转对称；旋转驱动手段，使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转；以及升降手段，使该一对保持臂群在与外部的间，在交接该脆性材料基板的高度位置即基板交接位置与其上方之间升降；该一对保持臂群分别具有在该第2方向彼此分离配置且绕该旋转轴旋转时通过该间隙的多个保持臂；该多个保持臂分别具备可吸附于该脆性材料基板的多个吸附部；在该一对保持臂群配置在该基板交接位置的状态下，使属于该一对保持臂群的一方的该多个保持臂的该多个吸附部吸附于作为反转对象的该脆性材料基板即反转对象基板，之后，借由使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转180度，使该反转对象基板反转；该一对保持臂群，在该反转对象基板吸附于该多个吸附部后、该反转对象基板的反转完成前的期间，上升地较该基板交接位置高，在该反转对象基板的反转后、解除对该反转对象基板的该多个吸附部的吸附时，下降至该基板交接位置。本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本专利技术基板处理系统及基板反转装置至少具有下列优点及有益效果:本专利技术可大致同时进行欲反转基板的搬入动作与该基板的保持动作。又可大致同时进行下一个欲反转基板的搬入、先前已反转处理的基板的交接及保持臂对已搬入基板的吸附保持。也即，可大致同时进行欲反转基板的搬入与基板的反转。借此，可实现反转处理效率优异的基板处理。综上所述，本专利技术是有关于一种基板处理系统及基板反转装置。其中该基板处理系统可连续地进行基板的反转，该基板处理系统具备:第I及第2搬送装置，借由相隔间隙配置的多个单位搬送要素搬送基板；以及基板反转装置，具备一对保持臂群，该一对保持臂群相对于旋转轴配置成旋转对称，且具有绕旋转轴旋转时通过单位搬送要素的间隙的多个保持臂，借由升降手段升降自如；在使一对保持臂群的一方的保持臂具备的多个吸附部吸附于反转对象基板的状态下，使吸附部吸附于反转对象基板，之后，借由使一对保持臂群绕旋转轴旋转180度，使基板反转；一对保持臂群，在基板吸附后、反转完成前的期间，上升地较基板交接位置高，在反转后、解除吸附时，下降至基板交接位置。本专利技术在技术上有显著的进步，并具有明显的积极效果，诚为一新颖、进步、实用的新设计。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理系统，其特征在于其具备：第1搬送装置及第2搬送装置，分别将脆性材料基板往第1方向搬送；以及基板反转装置，配置在该第1搬送装置与该第2搬送装置之间，使被该第1搬送装置搬送来的该脆性材料基板反转并交接至该第2搬送装置；该第1搬送装置与该第2搬送装置，借由在与该第1方向正交的第2方向相隔间隙配置的多个单位搬送要素，一边在下方支承一个该脆性材料基板一边搬送；该基板反转装置，具备：一对保持臂群，相对于往该第2方向延伸的旋转轴配置成旋转对称；旋转驱动手段，使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转；及升降手段，使该一对保持臂群在该第1搬送装置及该第2搬送装置之间，在交接该脆性材料基板的高度位置即基板交接位置与其上方之间升降；该一对保持臂群分别具有在该第2方向彼此分离配置且绕该旋转轴旋转时通过该间隙的多个保持臂；该多个保持臂分别具备可吸附于该脆性材料基板的多个吸附部；在将该一对保持臂群配置在该基板交接位置的状态下，使属于该一对保持臂群中一方的该多个保持臂的该多个吸附部吸附于作为反转对象的该脆性材料基板即反转对象基板，之后，借由使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转180度，使该反转对象基板反转；该一对保持臂群，在该反转对象基板被吸附于该多个吸附部后、该反转对象基板的反转完成前的期间，上升至较该基板交接位置高处，在该反转对象基板的反转后、解除对该反转对象基板的该多个吸附部的吸附时,下降至该基板交接位置。...

【技术特征摘要】
2013.03.05 JP 2013-0431271.一种基板处理系统，其特征在于其具备: 第I搬送装置及第2搬送装置，分别将脆性材料基板往第I方向搬送；以及基板反转装置，配置在该第I搬送装置与该第2搬送装置之间，使被该第I搬送装置搬送来的该脆性材料基板反转并交接至该第2搬送装置； 该第I搬送装置与该第2搬送装置，借由在与该第I方向正交的第2方向相隔间隙配置的多个单位搬送要素，一边在下方支承一个该脆性材料基板一边搬送； 该基板反转装置，具备: 一对保持臂群，相对于往该第2方向延伸的旋转轴配置成旋转对称； 旋转驱动手段，使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转 '及 升降手段，使该一对保持臂群在该第I搬送装置及该第2搬送装置之间，在交接该脆性材料基板的高度位置即基板交接位置与其上方之间升降； 该一对保持臂群分别具有在该第2方向彼此分离配置且绕该旋转轴旋转时通过该间隙的多个保持臂； 该多个保持臂分别具备可吸附于该脆性材料基板的多个吸附部； 在将该一对保持臂群配置在该基板交接位置的状态下，使属于该一对保持臂群中一方的该多个保持臂的该多个吸附部吸附于作为反转对象的该脆性材料基板即反转对象基板，之后，借由使该一对保持臂群绕该旋转轴旋转180度，使该反转对象基板反转； 该一对保持臂群，在该反转对象基板被吸附于该多个吸附部后、该反转对象基板的反转完成前的期间，上升至较该基板交接位置高处，在该反转对象基板的反转后、解除对该反转对象基板的该多个吸附部的吸附时，下降至该基板交接位置。2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于其中，该一对保持臂群位于该基板交接位置时的反转后的该反转对象基板的被该多个吸附部吸附的被吸附面的高度位置与该第2搬送装置的搬送高度位置相同，对反转后的该反转对象基板的该吸附的解除，是在借由该第2搬送装置一边支承反转后的该反转对象基板一边进行。3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于其中，属于该一对保持臂群中一方的该多个保持臂的该多个吸附部、与属于该一对保持臂...

【专利技术属性】
技术研发人员：成尾徹，
申请(专利权)人：三星钻石工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP