【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种研磨机，在提高研磨精度的同时，避免了在研磨过程中研磨砂液以及细碎的晶片飞溅的现象，改善工作效果，提高工作效率。且在研磨加工结束后，打开进水装置即可实现自动清洗，减少了人工清洗的繁琐过程，大大提高了工作效率。【专利说明】一种研磨机
本技术涉及一种研磨机,属于晶片研磨加工领域。
技术介绍
晶体块出厂时，其表面都是比较粗糙的，需要通过研磨机进行进行研磨。用于晶片研磨加工的研磨机，在加工过程中，一般不单独对研磨上盘进行清洗，而我们都知道，在研磨加工结束后，研磨上盘上会带有研磨砂液以及少许其它杂质，现在的对研磨上盘的清洗大多是采用人工清洗的方式进行，人工清洗费时费力效率低下。用于晶片研磨加工的研磨机，在加工过程中，研磨上盘与研磨下盘在研磨晶片时，会有研磨砂液以及细碎的晶片飞溅，造成工作环境的污染，由于研磨液属于化学制剂，晶片碎屑又过于碎小，难以清理造成周围环境的污染。且随着晶片产业的迅速发展，目前对晶片研磨的技术要求越来越高。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对以上弊端提供一种研磨机，在提高研磨精度的同时，避免了在研磨过程中研磨砂液以及...
【技术保护点】
一种研磨机，包括研磨上盘、通过支柱固定支撑在研磨上盘上的研磨砂液导槽、研磨上盘提拉支架以及通过研磨上盘提拉支架以提拉研磨上盘的提拉装置，与研磨下盘，其特征在于，研磨上盘位于研磨下盘正上方，所述提拉支架上固定设有进水管，所述进水管位于研磨上盘上方，所述进水管一端连接有进水装置，所述进水管上设置有多个喷头，所述喷头上设置有多个喷嘴，包括中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴，所述中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴在喷头右侧自中心向外呈“十”字型均匀分布，所述中心喷嘴与喷头所成夹角α为90度，所述内侧喷嘴与喷头所成夹角β为60度，所述外侧喷嘴与喷头所成夹角γ为30度；所述研磨下盘上表面沿周向均匀...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：聂金根，
申请(专利权)人：镇江市港南电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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